Methods for fabricating flash memory devices

Invention Grant

US07696038B1 Methods for fabricating flash memory devices 有权

Title translation: 制造闪存设备的方法

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Patent Title: Methods for fabricating flash memory devices
Patent Title (中): 制造闪存设备的方法
Application No.: US11412365

Application Date: 2006-04-26
Publication No.: US07696038B1

Publication Date: 2010-04-13
Inventor: Ning Cheng , Kuo-Tung Chang , Hiroyuki Kinoshita , Timothy Thurgate , Wei Zheng , Ashot Melik-Martirosian , Angela Hui , Chih-Yuh Yang
Applicant: Ning Cheng , Kuo-Tung Chang , Hiroyuki Kinoshita , Timothy Thurgate , Wei Zheng , Ashot Melik-Martirosian , Angela Hui , Chih-Yuh Yang
Applicant Address: US CA Sunnyvale
Assignee: Spansion LLC
Current Assignee: Spansion LLC
Current Assignee Address: US CA Sunnyvale
Main IPC: H01L21/8238
IPC: H01L21/8238

Abstract:

Methods for fabricating flash memory devices are provided. In accordance with an exemplary embodiment of the invention, a method for fabricating a memory device comprises forming a first gate stack and a second gate stack overlying a substrate. A trench is etched into the substrate between the first gate stack and the second gate stack. A first impurity doped region is formed within the substrate underlying the trench.

Abstract(Chinese):

提供了制造闪速存储器件的方法。根据本发明的示例性实施例，一种用于制造存储器件的方法包括形成覆盖衬底的第一栅极堆叠和第二栅极堆叠。在第一栅极堆叠和第二栅极堆叠之间的沟槽被蚀刻到衬底中。第一杂质掺杂区域形成在沟槽下面的衬底内。

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺
H01L21/8238	........互补场效应晶体管，例如CMOS