High refractive index fluids for immersion lithography

Invention Grant

US07771919B2 High refractive index fluids for immersion lithography 失效

Title translation: 用于浸没光刻的高折射率流体

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Patent Title: High refractive index fluids for immersion lithography
Patent Title (中): 用于浸没光刻的高折射率流体
Application No.: US11760001

Application Date: 2007-06-08
Publication No.: US07771919B2

Publication Date: 2010-08-10
Inventor: Alex Sergey Ionkin
Applicant: Alex Sergey Ionkin
Applicant Address: US DE Wilmington
Assignee: E. I. du Pont de Nemours and Company
Current Assignee: E. I. du Pont de Nemours and Company
Current Assignee Address: US DE Wilmington
Agent Gail D. Tanzer
Main IPC: G03F7/20
IPC: G03F7/20

$High refractive index fluids for immersion lithography$

Abstract:

Provided are liquid compositions suitable for use as immersion liquids in immersion lithography, and immersion lithography processes and apparatus using the compositions.

Abstract(Chinese):

提供适合用作浸没式光刻中的浸液的液体组合物，以及使用该组合物的浸渍光刻工艺和设备。

Public/Granted literature

US20080063990A1 High Refractive Index Fluids for Immersion Lithography Public/Granted day:2008-03-13

Information query

Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）