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Invention Grant
US07915646B2 Nitride semiconductor material, semiconductor element, and manufacturing method thereof 有权
氮化物半导体材料，半导体元件及其制造方法

Nitride semiconductor material, semiconductor element, and manufacturing method thereof
Abstract:
The nitride semiconductor material according to the present invention includes a group III nitride semiconductor and a group IV nitride formed on the group III nitride semiconductor, where an interface between the group III nitride semiconductor and the group IV nitride has a regular atomic arrangement. Moreover, an arrangement of nitrogen atoms of the group IV nitride in the interface and an arrangement of group III atoms of the group III nitride semiconductor in the interface may be substantially identical.
Abstract(Chinese):

根据本发明的氮化物半导体材料包括在III族氮化物半导体上形成的III族氮化物半导体和IV族氮化物，其中III族氮化物半导体和IV族氮化物之间的界面具有规则的原子排列。 此外，界面中IV族氮化物的氮原子排列和III族氮化物半导体的III族原子在界面中的排列可以是基本相同的。

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IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L31/00至H01L47/00，H01L51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00）
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L29/96优先）
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/772 ....场效应晶体管
H01L29/778 .....带有二维载流子气沟道的，如HEMT
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