Method for multiple irradiation of a resist

Invention Grant

US08227177B2 Method for multiple irradiation of a resist 有权

Title translation: 多次照射抗蚀剂的方法

Patent Title: Method for multiple irradiation of a resist
Patent Title (中): 多次照射抗蚀剂的方法
Application No.: US11746909

Application Date: 2007-05-10
Publication No.: US08227177B2

Publication Date: 2012-07-24
Inventor: Kang-Hoon Choi , Klaus Elian , Christoph Hohle , Johannes Kretz , Frank Thrum
Applicant: Kang-Hoon Choi , Klaus Elian , Christoph Hohle , Johannes Kretz , Frank Thrum
Applicant Address: DE Munich
Assignee: Infineon Technologies AG
Current Assignee: Infineon Technologies AG
Current Assignee Address: DE Munich
Agency: Slater & Matsil, L.L.P.
Priority: DE102006022361 20060512
Main IPC: G03F7/20
IPC: G03F7/20

Abstract:

The invention relates to a method with contrast reversal which, inter alia, opens up new areas of application for resists.

Abstract(Chinese):

本发明涉及一种具有对比度反转的方法，其特别是开辟新的抗蚀剂应用领域。

Public/Granted literature

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）