Compound and radiation-sensitive composition

Invention Grant

US08377627B2 Compound and radiation-sensitive composition 有权

Title translation: 化合物和辐射敏感组合物

Patent Title: Compound and radiation-sensitive composition
Patent Title (中): 化合物和辐射敏感组合物
Application No.: US12673167

Application Date: 2008-07-30
Publication No.: US08377627B2

Publication Date: 2013-02-19
Inventor: Daisuke Shimizu , Ken Maruyama , Toshiyuki Kai , Tsutomu Shimokawa
Applicant: Daisuke Shimizu , Ken Maruyama , Toshiyuki Kai , Tsutomu Shimokawa
Applicant Address: JP Tokyo
Assignee: JSR Corporation
Current Assignee: JSR Corporation
Current Assignee Address: JP Tokyo
Agency: Ditthavong Mori & Steiner, P.C.
Priority: JP2007-210715 20070813
International Application: PCT/JP2008/063653 WO 20080730
International Announcement: WO2009/022540 WO 20090219
Main IPC: G03F7/004
IPC: G03F7/004 ; C07C69/96 ; C07C69/76 ; C07C39/12

Abstract:

A compound shown by the following formula (1).

Abstract(Chinese):

由下式（1）表示的化合物。

Public/Granted literature

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Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）