Salt and photoresist composition containing the same

Invention Grant

US08481242B2 Salt and photoresist composition containing the same 有权

Title translation: 含有其的盐和光致抗蚀剂组合物

Abstract:

A salt represented by the formula (X): wherein Q1 and Q2, L1 and L2, ring W1, R5, w, v, Z+ and W10 are defined in the specification.

Abstract(Chinese):

由式（X）表示的盐：其中Q1和Q2，L1和L2，环W1，R5，w，v，Z +和W10在说明书中定义。

Public/Granted literature

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Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）