Invention Application
- Patent Title: β−ジケトナトを配位子とする金属錯体
- Patent Title (English): METAL COMPLEX COMPRISING β-DIKETONATO AS LIGAND
- Patent Title (中): 包含β-DIKETONATO的金属复合物作为配体
-
Application No.: PCT/JP2005/004577Application Date: 2005-03-15
-
Publication No.: WO2005087697A1Publication Date: 2005-09-22
- Inventor: 角田 巧 , 長谷川 千尋 , 綿貫 耕平 , 桜井 弘之 , 金戸 宏樹
- Applicant: 宇部興産株式会社 , 角田 巧 , 長谷川 千尋 , 綿貫 耕平 , 桜井 弘之 , 金戸 宏樹
- Applicant Address: 〒7558633 山口県宇部市大字小串1978番地の96 Yamaguchi JP
- Assignee: 宇部興産株式会社,角田 巧,長谷川 千尋,綿貫 耕平,桜井 弘之,金戸 宏樹
- Current Assignee: 宇部興産株式会社,角田 巧,長谷川 千尋,綿貫 耕平,桜井 弘之,金戸 宏樹
- Current Assignee Address: 〒7558633 山口県宇部市大字小串１９７８番地の９６ Yamaguchi JP
- Agency: 柳川 泰男
- Priority: JP2004-072471 200403015; JP2004-097670 200403030; JP2004-111705 20040406; JP2004-180106 200406017; JP2004-297245 2004010012; JP2004-328357 2004011012; JP2005-011264 200501019; JP2005-030220 20050207
- Main IPC: C07C49/92
- IPC: C07C49/92
Abstract:
【課題】 ＣＶＤ法による金属含有薄膜の製造に好適に使用できる金属錯体及び金属含有薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 アルコキシアルキルメチル基を有するβ−ジケトナトを配位子とする金属錯体、及びこの金属錯体を用いてＣＶＤ法により金属含有薄膜を製造する方法。
Information query
