Invention Application
- Patent Title: 습식공정으로 제작된 광결정 소자 및 그 제조방법
- Patent Title (English): Photonic crystal device produced by a wet process, and a production method thereof
- Patent Title (中): 通过湿法生产的光电晶体装置及其生产方法
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Application No.: PCT/KR2009/003703Application Date: 2009-07-07
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Publication No.: WO2010011036A2Publication Date: 2010-01-28
- Inventor: 김정일 , 전석기 , 진윤식 , 김근주 , 손채화 , 박시현 , 한성태 , 김종욱
- Applicant: 한국전기연구원 , 김정일 , 전석기 , 진윤식 , 김근주 , 손채화 , 박시현 , 한성태 , 김종욱
- Applicant Address: 경상남도 창원시 성주동 28-1, 641-120 Gyeongsangnam-do KR
- Assignee: 한국전기연구원,김정일,전석기,진윤식,김근주,손채화,박시현,한성태,김종욱
- Current Assignee: 한국전기연구원,김정일,전석기,진윤식,김근주,손채화,박시현,한성태,김종욱
- Current Assignee Address: 경상남도 창원시 성주동 28-1, 641-120 Gyeongsangnam-do KR
- Agency: 특허법인 명문
- Priority: KR10-2008-0071466 20080723; KR10-2008-0135332 20081229
- Main IPC: H01L21/306
- IPC: H01L21/306 ; H01L21/3063 ; H01L21/20
Abstract:
본 발명은 실리콘 웨이퍼의 결정 방향 (100)으로의 비등방적 습식공정과 반도체 공정기술을 적용하여 원하는 전자기파 대역에서 이용할 수 있는 광도파로, 공진기, 필터, 안테나, 스미스-퍼셀(Smith-Purcell) 자유전자레이저 등의 광결정 소자에 사용될 수 있는 광결정 구조를 제조할 수 있고, 일정한 형태를 갖는 실리콘 결정이 주기적으로 배열된 광결정 부분과 광도파로, 공진기 등으로 사용하기 위해 축 방향으로의 광 손실을 줄이는 덮개부분으로 이루어지도록 하여 원하는 전자기파 대역에 적용될 수 있는 소자로 사용할 수 있으며, 실리콘 결정을 도전성이 있는 물질로 코팅을 하지 않고 사용한 유전체 광결정 특성과 실리콘 결정을 도전성이 있는 물질로 코팅하여 금속 광결정 특성을 모두 이용할 수 있도록 한 광결정 구조를 갖는 광결정 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 이를 이용하여 상대적으로 가격이 저렴하며, 높이가 큰 광결정 구조를 빠른 시간 안에 대량으로 제작할 수 있다.
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IPC分类:
