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    Plasma reactor
    3.
    发明专利
    Plasma reactor 审中-公开

    公开(公告)号：JP2012518262A

    公开(公告)日：2012-08-09

    申请号：JP2011550651

    申请日：2010-02-19

    Applicant: ガスプラス エーエスGasPlas AS

    Inventor： フィリップ ジョン リズビー，

    IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/42 ,  H05H1/44

    Abstract: プラズマ反応器(100)は、反応チャンバーと、上記反応チャンバーと流体連通する1又は複数のプラズマ源(105)を有する。 イオン化される材料を含む流体は、上記プラズマ源(105)によって発生するプラズマ形のイオン化された材料が上記反応チャンバー(102)の反応領域に捕集されるようにプラズマ源(105)に供給される。 反応産物は、上記プラズマ反応器の連続運転を可能にするように上記反応チャンバー(102)から捕集される。 加えて、上記プラズマ反応器(100)は、上記反応チャンバー(102)内の浮流中の微粒子を維持するように構成され、プラズマ反応器が適する処理範囲を広げ、かかる処理の効率を向上させる。
    【選択図】図１

    Apparatus for generating hydrogen, a system and method
    4.
    发明专利
    Apparatus for generating hydrogen, a system and method 审中-公开

    公开(公告)号：JP2013534207A

    公开(公告)日：2013-09-02

    申请号：JP2013524811

    申请日：2011-08-15

    Applicant: ガスプラス エーエスGasplas As

    Inventor： フィリップ ジョン リズビー，

    IPC: C01B3/24 ,  C01B31/02

    CPC classification number: C01B3/24 ,  C01B3/28 ,  C01B2203/0272 ,  C01B2203/04 ,  C01B2203/049 ,  C01B2203/0861 ,  C01B2203/148 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4622

    Abstract: ガス貯蔵器（６６）及び少なくとも１つの水素発生器（１００）に流体的に接続されたガス前処理モジュール（２）と、
    供給管（６１，８１）を介してこの発生器及び貯蔵分配モジュール（５）と流体的に接続された水素後処理モジュール（３）と、
    を備える気体炭化水素から水素を発生するための装置、システム及び方法。
    プラズマノズル（１０５）と、各プラズマノズルと連結された反応容器（１０２）と、を備え、
    各プラズマノズルは、マイクロ波プラズマ生成器（３０１，３０２）及びこのプラズマ生成器を介して気体炭化水素フローをこの反応容器の各入口へ配向させるための供給管（３０３）を備え、
    これにより、このプラズマ生成器は、この反応容器の入口手前で気体炭化水素を少なくとも部分的にイオン化し、プラズマを形成し、
    この反応器は、水素が後処理モジュール（３）に伝達されるときに介する少なくとも１つの出口（１０１）を備える、
    水素発生器。

    Plasma reactor
    5.
    发明专利
    Plasma reactor 审中-公开

    公开(公告)号：JP2012518263A

    公开(公告)日：2012-08-09

    申请号：JP2011550654

    申请日：2010-02-19

    Applicant: ガスプラス エーエスGasPlas AS

    Inventor： フィリップ ジョン リズビー，

    IPC: H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/42 ,  H05H1/44

    Abstract: プラズマ反応器(100)は、複数のマイクロ波プラズマノズル(105)と共通反応チャンバー(102)を有する。 イオン化される材料を含む流体は、プラズマノズル(105)に供給される。 ノズル内で発生するプラズマが入口を通って供給されて反応チャンバー(102)内に捕集されるように各プラズマノズル(105)は反応チャンバー(102)の入口に接続している。 上記プラズマ反応器は、複数のプラズマノズルのそれぞれを同時に使用することで規模の拡大を可能にする。 従って、多種多様な供給材料の処理における使用や商業規模での使用に適している。
    【選択図】図１

    AN APPARATUS, A SYSTEM AND A METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN
    8.
    发明申请
    AN APPARATUS, A SYSTEM AND A METHOD FOR PRODUCING HYDROGEN 审中-公开
    制造氢的装置，系统和方法

    公开(公告)号：WO2012023858A1

    公开(公告)日：2012-02-23

    申请号：PCT/NO2011000224

    申请日：2011-08-15

    Applicant: GASPLAS AS ,  RISPY PHILLIP JOHN

    Inventor： RISPY PHILLIP JOHN

    IPC: C01B3/24 ,  C01B3/28 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46

    CPC classification number: C01B3/24 ,  C01B3/28 ,  C01B2203/0272 ,  C01B2203/04 ,  C01B2203/049 ,  C01B2203/0861 ,  C01B2203/148 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4622

    Abstract: An apparatus, a system and a method for producing hydrogen from gaseous hydrocarbon comprises a gas pre-treatment module (2) fluidly connected to a gas reservoir (66) and to at least one hydrogen generator (100); and a hydrogen post- processing module (3) fluidly connected via a feeding conduit (81) to the generator and to a storage and distribution module (5). The hydrogen generator comprises plasma nozzles (105); a reaction chamber (102) coupled to each of the plasma nozzles; each plasma nozzle comprising a microwave plasma generator (301, 302) and a feed tube (303) for directing a flow of the gaseous hydrocarbon via the plasma generator to respective inlets to the reaction chamber, whereby the plasma generator at least partly ionises gaseous hydrocarbon to form a plasma prior to entry of the at least partly ionised hydrocarbon into the reaction chamber, and the reaction chamber comprises at least one outlet (101) via which hydrogen is conveyed to the post-processing module (3).

    Abstract translation: 一种用于从气态烃生产氢气的设备，系统和方法包括流体连接到气体储存器（66）和至少一个氢气发生器（100）的气体预处理模块（2）; 和经由进料管道（81）流体连接到发生器和储存和分配模块（5）的氢气后处理模块（3）。 氢发生器包括等离子喷嘴（105）; 耦合到每个等离子体喷嘴的反应室（102） 每个等离子体喷嘴包括微波等离子体发生器（301,302）和用于将气态烃流经等离子体发生器引导到反应室的相应入口的供给管（303），由此等离子体发生器至少部分地电离气态烃 以在所述至少部分电离的烃进入所述反应室之前形成等离子体，并且所述反应室包括至少一个出口（101），氢通过所述出口传输至所述后处理模块（3）。

    PLASMA REACTOR
    9.
    发明申请
    PLASMA REACTOR 审中-公开
    等离子体反应器

    公开(公告)号：WO2010094972A1

    公开(公告)日：2010-08-26

    申请号：PCT/GB2010/050290

    申请日：2010-02-19

    Applicant: GASPLAS AS ,  RISBY, Philip, John

    Inventor： RISBY, Philip, John

    IPC: H01J37/32 ,  H05H1/24

    CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H05H1/42 ,  H05H1/44

    Abstract: The plasma reactor (100) has a plurality of microwave plasma nozzles (105) and a common reaction chamber (102). A fluid including a material to be ionised is supplied to the plasma nozzles (105) and each plasma nozzle (105) is connected to an inlet to the reaction chamber (102) so that plasma generated within the nozzle is fed through the inlet and is collected within the reaction chamber (102). The plasma reactor is capable of being scaled up through the simultaneous use of multiple individual plasma nozzles and is thus suitable for use in the processing of a wide variety of feed materials and at commercial scales.

    Abstract translation: 等离子体反应器（100）具有多个微波等离子体喷嘴（105）和公共反应室（102）。 包括待离子化的材料的流体被供应到等离子体喷嘴（105），并且每个等离子体喷嘴（105）连接到反应室（102）的入口，使得在喷嘴内产生的等离子体通过入口进料，并且是 收集在反应室（102）内。 等离子体反应器能够通过同时使用多个单独的等离子体喷嘴进行放大，因此适合用于各种进料的处理和商业规模的处理。

    METHOD FOR PROCESSING A GAS AND A DEVICE FOR PERFORMING THE METHOD
    10.
    发明申请
    METHOD FOR PROCESSING A GAS AND A DEVICE FOR PERFORMING THE METHOD 审中-公开
    用于处理气体的方法和用于执行该方法的装置

    公开(公告)号：WO2012147054A1

    公开(公告)日：2012-11-01

    申请号：PCT/IB2012/052115

    申请日：2012-04-27

    Applicant: GASPLAS AS ,  RISBY, Philip, John ,  PENNINGTON, Dale

    Inventor： RISBY, Philip, John ,  PENNINGTON, Dale

    IPC: H05H1/30 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32357 ,  H05H1/30 ,  H05H1/34 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/3478 ,  H05H2001/4622

    Abstract: The present invention relates to a method and device for processing a gas by forming microwave plasmas of the gas. The gas that is to be processed is set in a two or three co-axial vortex flow inside the device and exposed to a microwave field to form the plasma in the inner co-axial vortex flow, which subsequently is expelled as a plasma afterglow through an outlet of the device. The device is provided with a microwave field choking effect by having a diameter of the exit channel larger than zero but smaller than 1/16 of the wavelength of the standing microwave within the microwave chamber and a length, ∈, of the exit channel that may correspondingly have one of the following ranges: from a factor larger than zero but smaller than (n+1/8), n G {0, 1, 2, 3}, of the wavelength of the standing microwave within the microwave chamber.

    Abstract translation: 本发明涉及通过形成气体的微波等离子体来处理气体的方法和装置。 要处理的气体被设置在装置内部的两个或三个同轴涡流中并暴露于微波场以在内部同轴涡流中形成等离子体，其随后被排出为等离子体余辉 设备的出口。 通过使出口通道的直径大于零但小于微波室内的立体微波的波长的1/16，并且出口通道的长度α可以设置有微波场阻塞效应 相应地具有以下范围之一：从微波室内的立体微波的波长的大于零但小于（n + 1/8）的因子n G {0,1,2,3}。

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