公开(公告)号：CN102799079B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201210319088.4

申请日：2007-02-14

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.旺格勒 ,  H.西克曼 ,  K.怀布尔 ,  R.沙恩韦贝尔 ,  M.毛尔 ,  M.德古恩瑟 ,  M.莱 ,  A.肖尔茨 ,  U.施彭格勒 ,  R.弗尔克尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

Abstract: 一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。后者具有第一光学子元件（561X、561Y、562X、562Y）并且产生每个发射光束的多个二次光源（82）。聚光器使得所述光束在掩模面（70）中重叠。至少一个散射结构（58、60）包括设置在所述二次光源前面或者后面的多个单独设计的第二光学子元件。所述第一和第二光学子元件被配置使得由相同的辐照分布照射的光学子元件被隔开5mm以上。

公开(公告)号：CN102799079A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201210319088.4

申请日：2007-02-14

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.旺格勒 ,  H.西克曼 ,  K.怀布尔 ,  R.沙恩韦贝尔 ,  M.毛尔 ,  M.德古恩瑟 ,  M.莱 ,  A.肖尔茨 ,  U.施彭格勒 ,  R.弗尔克尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

Abstract: 一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。后者具有第一光学子元件（561X、561Y、562X、562Y）并且产生每个发射光束的多个二次光源（82）。聚光器使得所述光束在掩模面（70）中重叠。至少一个散射结构（58、60）包括设置在所述二次光源前面或者后面的多个单独设计的第二光学子元件。所述第一和第二光学子元件被配置使得由相同的辐照分布照射的光学子元件被隔开5mm以上。