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公开(公告)号:CN119960268A
公开(公告)日:2025-05-09
申请号:CN202510244471.5
申请日:2025-03-03
Abstract: 本发明涉及光学设备技术领域,尤其涉及一种接近式曝光装置及其使用方法。该装置包括底座、固定座、晶圆承片台、掩模台、压电台、测量台和测量单元。晶圆承片台设于固定座上,并能够进行水平移动;掩模台掩模台用于安装和更换掩模并能够进行竖直移动;压电台用于安装硅片并调节硅片与掩模之间的间隙;测量单元用于测量掩模与硅片的相对位置。本发明提供的一种接近式曝光装置及其使用方法,取消了物镜,结构简单,易于实现小型化,造价低廉;可通过测量单元直接测量掩模和硅片的距离,横置式结构可以减少重力对硅片及压电台的影响,掩模和硅片其自身及相互之间距离的温度漂移和纳米抖动明显降低,更便于实现掩模和硅片的调平调焦。
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公开(公告)号:CN119374715A
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN202310935163.8
申请日:2023-07-27
Applicant: 张江国家实验室
Abstract: 本申请涉及用于测量光场分布的装置和方法。该装置包括:孔径掩模器件,孔径掩模器件被放置在待测光场的空域面或频域面并且具有透光区域,透光区域用于透过待测光场的一部分;光学传输模块,光学传输模块用于对部分待测光场的进行调制以使得其Wigner分布随传播过程在相空间内旋转;以及光强探测模块,光强探测模块用于探测部分待测光场经光学传输模块调制后的二维光强分布。
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