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公开(公告)号：CN118057439A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202311544457.4
申请日：2023-11-17
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G06Q50/04 , G01N21/892
Abstract: 本发明提供了防止使用薄膜卷的薄膜进行制造的产品发生不良的制造管理系统以及制造管理方法。制造管理系统(3000)具备：第一信息获取部(311)，获取在刚制造后的产品检查时对薄膜卷(80)的基于检查部(90)的检查数据进行解析而生成的第一缺陷信息；第二信息获取部(311)，从薄膜卷(80)抽出薄膜并制造具备薄膜的产品时，获取对基于检查部(90)的检查数据进行解析而生成的第二缺陷信息；以及卷绕条件设定部(315)，根据第一缺陷信息和第二缺陷信息，判断薄膜卷(80)的状态变化，并基于判断出的状态变化，设定薄膜卷(80)的制造时的卷绕条件。
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公开(公告)号：CN117142201A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202310620593.0
申请日：2023-05-29
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B65H18/10 , G02B5/30 , B32B27/06 , B32B27/32 , B32B27/30 , B32B23/20 , B32B23/04 , B65H18/26 , B65H26/00
Abstract: 提供进一步减少膜卷的粘附以及卷绕偏移的手段。一种不具有压花部的膜卷，在将在所述膜卷的侧面测定的卷中膜层间空隙设为X(单位：μm)、将包含膜端部的膜厚偏差设为Y(单位：μm)时，满足下述数式(1)以及数式(2)的膜卷0.05μm＜X＜0.50μm…数式(1)；0.7＜X/Y＜2.0…数式(2)。
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公开(公告)号：CN112272600B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201980020537.5
申请日：2019-03-06
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B24B57/02 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供用于从加工完的研磨剂浆料中有效率地回收研磨剂、将其作为再生研磨剂浆料而再利用的研磨剂再循环处理系统及研磨剂回收·再生方法。本发明的研磨剂再循环处理系统控制用于研磨的研磨剂浆料中的研磨剂的构成成分和被研磨物的构成成分的浓度，且继续研磨加工，从加工完的研磨剂浆料中将被研磨物的构成成分除去，将研磨剂回收·再生，其特征在于，具有：研磨加工工序部；和具有浆料供给罐的研磨剂浆料回收工序部，所述浆料供给罐贮存用于研磨的研磨剂，一边进行控制以使浆料供给罐中的研磨剂的构成成分的浓度成为研磨加工工序开始时的初期浓度以下，一边向浆料供给罐中供给再生研磨剂浆料。
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公开(公告)号：CN110082850B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN201910087264.8
申请日：2019-01-21
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 将进行了热处理时在膜面内收缩成为最大的第1方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T1(％)、将在膜面内与上述第1方向垂直的第2方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T2(％)、将上述热处理设为在100℃相对湿度0％的条件下放置24小时的处理时，光学膜F满足以下的条件式(1)T1
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公开(公告)号：CN108884245B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201780018999.4
申请日：2017-02-20
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供输送性良好、膜的面方向上的雾度值的偏差小的聚酰亚胺膜。另外，提供该聚酰亚胺膜的制造方法。本发明的聚酰亚胺膜的制造方法是含有在60℃下、相对于二甲基乙酰胺100g或γ‑丁内酯100g溶解1g以上的聚酰亚胺和无机微粒的聚酰亚胺膜的制造方法，其特征在于，包含：准备含有上述聚酰亚胺和上述无机微粒的混合物的工序、制备含有上述混合物和上述聚酰亚胺和溶剂的胶浆的工序、将上述胶浆在支承体上流延而形成膜的工序、将上述膜从支承体剥离的工序、和将被剥离的膜干燥的干燥工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110027199B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201910014962.5
申请日：2019-01-08
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 斜向拉伸膜的制造方法具有斜向拉伸工序，在该斜向拉伸工序中，将膜基材向一个方向输送，并且使输送方向在中途弯折，从而制作斜向拉伸膜。在以对斜向拉伸前的膜基材和斜向拉伸膜分别进行了热处理时的、膜基材的一个方向上的尺寸变化率为T1(％)、斜向拉伸膜的一个方向上的尺寸变化率为T2(％)，使热处理为以构成膜基材的树脂的玻璃化转变温度Tg+5℃加热90秒的处理时，满足T1＜0％≤T2,－7.0％＜T1≤－0.5％。
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公开(公告)号：CN109843534B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201780064089.X
申请日：2017-07-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的通过溶液流延制膜法来制造光学膜的方法，包含流延工序和剥离工序。在流延工序中，使包含聚酰亚胺树脂、环烯烃树脂、以及聚芳酯树脂中任一树脂和溶剂的胶浆从流延模(2)中排出，流延到支持体(3)上，并对流延后的胶浆进行干燥来形成流延膜(5)。在剥离工序中，从支持体(3)上剥离流延膜(5)。其中，将从流延模(2)的流延宽度端部排出胶浆的排出速度设为V1E(m/min)，将从流延模(2)的流延宽度中心部排出胶浆的排出速度设为V1C(m/min)，将支持体(3)的移动速度设为V2(m/min)，此时，同时满足下述条件式：V2>V1C；(V2/V1E)
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公开(公告)号：CN112105972A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201980031537.5
申请日：2019-05-14
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/023 , C08L45/00 , G02F1/1335 , G02F1/13363
Abstract: 本发明提供一种光学膜，其是含有具有极性基团的环烯烃类树脂、有机微粒以及凝胶化抑制剂的光学膜，其中，所述有机微粒是包含源自(甲基)丙烯酸类单体的结构单元的聚合物粒子，所述凝胶化抑制剂是具有阴离子性基团以及疏水性基团的化合物，所述阴离子性基团是选自硫酸基、磺酸基、磷酸基、膦酸基、羧酸基以及它们的盐中的一种以上。
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公开(公告)号：CN106541566B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201610819558.1
申请日：2016-09-13
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本申请涉及倾斜拉伸膜的制造方法。所述倾斜拉伸膜的制造方法具有倾斜拉伸工序和缓和工序。在倾斜拉伸工序中，在倾斜拉伸区(Z2‑2)在途中改变膜的输送方向而将膜相对于宽度方向在倾斜方向进行拉伸。在缓和工序中，在倾斜拉伸工序的结束后，在膜的输送方向为一定的缓和区(Z3)缓和由倾斜拉伸所产生的膜的残留应力。在倾斜拉伸区(Z2‑2)中，形成先行侧的温度比延迟侧的温度低1～15℃这样的第1温度分布。在缓和区(Z3)中，形成先行侧的温度比延迟侧的温度高5～30℃这样的第2温度分布。倾斜拉伸区(Z2‑2)的温度比缓和区(Z3)的温度高5～40℃。
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公开(公告)号：CN110320584A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910226585.1
申请日：2019-03-25
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 以在膜面内从宽度方向和长度方向中的任一方向上的一端侧向另一端侧以100mm间隔排列的多个点中、相邻的任意两点的取向角从一端侧起为θ1(°)和θ2(°)，以两点处的取向角的斜率P的单位为°/mm，在通过P＝(θ2－θ1)/100进行定义时，斜向拉伸膜在膜面内具有包含取向角的斜率P为0.001以上且0.06以下的两点的100mm见方的局部区域。
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