公开(公告)号：CN103913807B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201410003320.2

申请日：2014-01-03

Applicant: 株式会社理光

Inventor： S.什洛夫 ,  K.伯克纳

IPC: G02B7/00 ,  G03F7/20 ,  G01J3/28

CPC classification number: H04N5/2353 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/32 ,  G01J3/36 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1221 ,  G01J2003/1243 ,  G01N21/27 ,  G01N2021/1797 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/332

Abstract: 提供一种可调节的多模式光场成像系统。非均匀的滤镜模块定位在该光场成像系统的光瞳平面上并提供多模式性能。该滤镜模块能够相对于该成像系统被移动而相应地调节曝光条件，从而能够调节该多模式性能。

公开(公告)号：CN103913807A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201410003320.2

申请日：2014-01-03

Applicant: 株式会社理光

Inventor： S.什洛夫 ,  K.伯克纳

IPC: G02B7/00 ,  G03F7/20 ,  G01J3/28

CPC classification number: H04N5/2353 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/32 ,  G01J3/36 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1221 ,  G01J2003/1243 ,  G01N21/27 ,  G01N2021/1797 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/332

Abstract: 提供一种可调节的多模式光场成像系统。非均匀的滤镜模块定位在该光场成像系统的光瞳平面上并提供多模式性能。该滤镜模块能够相对于该成像系统被移动而相应地调节曝光条件，从而能够调节该多模式性能。