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公开(公告)号：CN106414336A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201580032030.3
申请日：2015-03-18
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C01G39/06 , C01B21/064 , C01B33/40 , C01B33/42 , C01G17/00 , C01G19/00 , C01G25/00 , C01G33/00 , C01G39/00 , C07D233/58 , C07D233/60
CPC classification number: B01F17/0064 , B01F17/0007 , B01F17/0057 , B01F17/0085 , C01B19/04 , C01B21/0648 , C01B33/22 , C01B33/40 , C01B33/42 , C01G17/00 , C01G19/00 , C01G25/00 , C01G39/06
Abstract: 使含有多种元素作为构成元素的层状物质的层合物包含在含有特定正离子的离子液体中，对含有该层合物的离子液体照射音波和电波中的至少一方。
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公开(公告)号：CN106414336B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201580032030.3
申请日：2015-03-18
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C07D233/60
CPC classification number: B01F17/0064 , B01F17/0007 , B01F17/0057 , B01F17/0085 , C01B19/04 , C01B21/0648 , C01B33/22 , C01B33/40 , C01B33/42 , C01G17/00 , C01G19/00 , C01G25/00 , C01G39/06
Abstract: 使含有多种元素作为构成元素的层状物质的层合物包含在含有特定正离子的离子液体中，对含有该层合物的离子液体照射音波和电波中的至少一方。
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公开(公告)号：CN102575013A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080044829.1
申请日：2010-10-01
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08G77/62 , C01B21/068 , C01B21/087 , C08L83/16 , C09D5/25 , C09D183/16 , H01L21/314 , H01L21/316
CPC classification number: C08G77/62 , C08G77/12 , C08L83/16 , C09D1/00 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01L21/02164 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , Y10T428/24008
Abstract: 本发明提供在水蒸气中的焙烧工序中的收缩小、不易发生二氧化硅覆膜的龟裂或与半导体基板的剥离的绝缘膜形成用涂布液、使用该涂布液的绝缘膜及该涂布液中使用的化合物的制造方法。该绝缘膜形成用涂布液具有无机聚硅氮烷和有机溶剂，在所述无机聚硅氮烷的1H-NMR谱中，来自SiH1基和SiH2基的4.5～5.3ppm的峰面积与来自SiH3基的4.3～4.5ppm的峰面积之比为4.2～50。绝缘膜使用上述绝缘膜形成用涂布液而得到。无机聚硅氮烷是通过使二卤代硅烷化合物、三卤代硅烷化合物或它们的混合物与碱反应形成加合物后，使加合物的溶液或分散液与氨在-50～-1℃下反应而得到的。
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公开(公告)号：CN110088209B
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN201780078318.3
申请日：2017-12-18
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08L101/00 , C01B32/225 , C08K3/24 , C08K3/30 , C08K3/32 , C08K5/3445 , C08K7/00
Abstract: 准备包含(A)高分子化合物、(B)含氧酸类化合物和(C)层状物质的层合物的溶液，并且对该溶液照射音波和电波中的至少一方，或者对该溶液进行加热。高分子化合物含有加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方，含氧酸类化合物含有磷酸类化合物、硫酸类化合物、磺酸类化合物和过氯酸类化合物中的至少1种。
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公开(公告)号：CN110088209A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780078318.3
申请日：2017-12-18
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08L101/00 , C01B32/225 , C08K3/24 , C08K3/30 , C08K3/32 , C08K5/3445 , C08K7/00
Abstract: 准备包含(A)高分子化合物、(B)含氧酸类化合物和(C)层状物质的层合物的溶液，并且对该溶液照射音波和电波中的至少一方，或者对该溶液进行加热。高分子化合物含有加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方，含氧酸类化合物含有磷酸类化合物、硫酸类化合物、磺酸类化合物和过氯酸类化合物中的至少1种。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113544120B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202080017159.8
申请日：2020-02-20
Applicant: 株式会社ADEKA , 国立大学法人东京工业大学
IPC: C07D211/96 , C09D4/02 , C09J4/02
Abstract: 下述通式(1)表示的化合物(式中，X1和X2各自独立地为丙烯酰基或甲基丙烯酰基，R1～R8各自独立地为氢原子或碳数1～6的烃基，n为1～10的整数)。
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公开(公告)号：CN107429070B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN201680015865.2
申请日：2016-03-17
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08L101/00 , C08J3/02 , C08J3/28
Abstract: 对含有离子液体、含加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方的高分子化合物以及层状物质的积层物的溶液，照射音波和电波中的至少一方。或者，对含有离子液体、含加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方的高分子化合物以及层状物质的积层物的溶液，进行加热。
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公开(公告)号：CN113544120A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202080017159.8
申请日：2020-02-20
Applicant: 株式会社ADEKA , 国立大学法人东京工业大学
IPC: C07D211/96 , C09D4/02 , C09J4/02
Abstract: 下述通式(1)表示的化合物(式中，X1和X2各自独立地为丙烯酰基或甲基丙烯酰基，R1～R8各自独立地为氢原子或碳数1～6的烃基，n为1～10的整数)。
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公开(公告)号：CN107429070A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680015865.2
申请日：2016-03-17
Applicant: 株式会社ADEKA
IPC: C08L101/00 , C08J3/02 , C08J3/28
CPC classification number: B01J19/10 , B01F17/0085 , B01J19/129 , B01J2219/00047 , B32B33/00 , B32B2307/70 , C01B17/22 , C01B19/007 , C01B32/19 , C01B32/205 , C01B32/21 , C01B33/22 , C01B33/38 , C01B33/42 , C01B2204/02 , C01B2204/04 , C08J3/02 , C08J3/09 , C08J3/28 , C08L101/00
Abstract: 对含有离子液体、含加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方的高分子化合物以及层状物质的积层物的溶液，照射音波和电波中的至少一方。或者，对含有离子液体、含加水分解性高分子化合物和热分解性高分子化合物中的至少一方的高分子化合物以及层状物质的积层物的溶液，进行加热。
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公开(公告)号：CN101855598B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200880116023.1
申请日：2008-11-12
Applicant: 株式会社ADEKA
CPC classification number: C08G77/50 , C08G77/14 , C08G77/80 , C08K5/235 , C08K5/5419 , C08L83/06 , G03F7/0233 , G03F7/0758 , G03F7/40 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , H01L2924/12044 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/124 , H01L2924/00
Abstract: 提供可赋予不仅透明性高、且耐基板制作时的温度的耐热性、耐溶剂性及作为永久抗蚀膜的耐经时变化性优异的绝缘层的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法。提供含有(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂、(B)重氮萘醌类及(C)溶剂的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法，所述(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂为下述通式(1)所表示的环状硅氧烷化合物的1种以上与下述通式(2)所表示的芳基烷氧基硅烷化合物的1种以上反应而获得的结构。
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