公开(公告)号：CN107428954A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680019353.3

申请日：2016-03-30

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 绫部敬士 ,  臼井崇

IPC: C08J3/22 ,  C08K3/36 ,  C08K5/17 ,  C08L23/00 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种光稳定剂母料及其制造方法，所述光稳定剂母料改善了由于受到环境的温度变化而因时间的推移发生结块、凝固成块状从而使操作变得困难的问题。一种光稳定剂母料，其是如下制成的：相对于(A)利用湿式法制造的二氧化硅100质量份，加入(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物80～300质量份并进行混合，然后进一步加入(C)利用干式法制造的二氧化硅5～50质量份并进行混合。(式(1)中，R1表示氢原子、羟基、碳原子数1～30的烷基、羟烷基、烷氧基、羟基烷氧基或氧自由基，R2表示碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基或由下述通式(2)表示的基团。)，(式(2)中，R3表示与上述通式(1)中的R1相同的基团。)。

公开(公告)号：CN107428954B

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201680019353.3

申请日：2016-03-30

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 绫部敬士 ,  臼井崇

IPC: C08J3/22 ,  C08K3/36 ,  C08K5/17 ,  C08L23/00 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供一种光稳定剂母料及其制造方法，所述光稳定剂母料改善了由于受到环境的温度变化而因时间的推移发生结块、凝固成块状从而使操作变得困难的问题。一种光稳定剂母料，其是如下制成的：相对于(A)利用湿式法制造的二氧化硅100质量份，加入(B)由下述通式(1)表示的受阻胺化合物80～300质量份并进行混合，然后进一步加入(C)利用干式法制造的二氧化硅5～50质量份并进行混合。(式(1)中，R1表示氢原子、羟基、碳原子数1～30的烷基、羟烷基、烷氧基、羟基烷氧基或氧自由基，R2表示碳原子数1～30的烷基、碳原子数2～30的烯基或由下述通式(2)表示的基团。)(式(2)中，R3表示与上述通式(1)中的R1相同的基团。)

公开(公告)号：CN107406636A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680016038.5

申请日：2016-03-16

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 绫部敬士 ,  臼井崇

IPC: C08L23/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/098 ,  C08K5/3435 ,  C08K5/527 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明提供：抑制对低熔点的树脂添加剂进行母料化而成的树脂添加剂母料的结块、即使放置于温度变化大的环境下也不会发生结块的树脂添加剂母料。一种树脂添加剂母料，其含有：相对于(A)聚烯烃树脂100质量份，(B)熔点为100℃以下的树脂添加剂60～150质量份、(C)有机酸金属盐0.01～3质量份、和(D)脂肪酸金属盐0.1～5质量份。