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公开(公告)号：CN101322967A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810111291.6
申请日：2008-06-13
Applicant: 美格株式会社
CPC classification number: H05K3/389 , C23C26/00 , H05K2203/0766 , H05K2203/0786
Abstract: 在金属表面形成硅烷偶联剂皮膜的方法。包括以下工序：在金属表面涂布含有硅烷偶联剂的液体的工序；将涂布了所述液体的金属表面，在25～150℃的温度下且在5分钟以内进行干燥的工序；将干燥的金属表面进行水洗的工序。
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