Abstract:
에폭시기 및 찰콘(chalcone)기를 가지는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물이 기재되어 있다. 상기 화합물은 열경화 작용을 하는 에폭시기 및 광경화 작용을 하는 찰콘기를 모두 가지므로 경화 효율이 높다. 따라서 상기 화합물을 포함하는 포토레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하면 잔사가 감소한다. 또한, 상기 포토레지스트 조성물로 형성된 컬러 필터 패턴은 색재현율이 우수하고 휘도가 높다. [화학식 1]
식 중, n은 1 내지 10000의 정수이고, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 각각 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타낸다.
Abstract:
PURPOSE: When something is wrong with the RGB patterns after the coating of a color filter board with the RGB patterns to form a color filter layer of LCD or after the exposure process which follows the coating, productivity is improved by the repair of the patterns. CONSTITUTION: When something is wrong with patterns, a laser disassembles defect sources of a glass substrate and the disassembled defect sources are removed through a vacuum suction process. Then new RGB materials are projected on the cleared area and an assistant exposure device is provided to expose the repaired patterns on the glass board.
Abstract:
컬러필터기판의 제조 방법에서, 차광 패턴은 차광영역에 대응하여 기판의 상면에 형성되고, 제1 컬러필터는 차광 패턴 및 차광영역에 인접한 픽셀영역에 대응하여 기판의 상면에 코팅된다. 이후, 픽셀영역에 형성된 제1 컬러필터는 기판의 하면을 통해 상면으로 입사되는 광에 의해서 노광된다. 다음, 차광 패턴 상에 형성된 제1 컬러필터를 현상하여 픽셀영역에만 존재하는 제2 컬러필터를 형성한다. 따라서, 컬러필터기판의 생산성을 향상시킬 수 있다.
Abstract:
에폭시기 및 찰콘(chalcone)기를 가지는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물이 기재되어 있다. 상기 화합물은 열경화 작용을 하는 에폭시기 및 광경화 작용을 하는 찰콘기를 모두 가지므로 경화 효율이 높다. 따라서 상기 화합물을 포함하는 포토레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하면 잔사가 감소한다. 또한, 상기 포토레지스트 조성물로 형성된 컬러 필터 패턴은 색재현율이 우수하고 휘도가 높다. [화학식 1]
식 중, n은 1 내지 10000의 정수이고, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 각각 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타낸다.
Abstract:
본 발명은 컬러필터 기판 제조방법과 이에 적용되는 패턴 리페어 장치 및 보조 노광장치에 관한 것으로, 본 발명에서는 코팅공정이 완료된 시점 또는 노광공정이 완료된 시점에서 R, G, B 패턴들에 이상이 발견되는 경우, 한 번 진행된 공정을 다시 반복하거나, 제품을 폐기시키지 않고, 이상이 발견되는 즉시 곧 바로 R, G, B 패턴들의 리페어 공정을 진행시킨다. 이 경우, 리워킹 작업이 불필요하게 되어 전체적인 제품 생산성이 향상될 뿐만 아니라, 제품의 잦은 폐기가 억제되어 제품의 불필요한 낭비가 미리 방지된다.