公开(公告)号：KR1020170104063A

公开(公告)日：2017-09-14

申请号：KR1020160026131

申请日：2016-03-04

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 염근영 ,  김경남 ,  이승민 ,  이철희 ,  김태형 ,  김기석 ,  김기현

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/26 ,  H01J37/32 ,  C23C14/35

Abstract: 본발명은스퍼터링증착장치에관한것으로서, 본발명에따른스퍼터링증착장치는피증착기판과타겟이서로대향하도록내부에배치되며스퍼터링반응공간을제공하는챔버, 피증착기판과타겟사이의일영역에제 1 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 1 플라즈마발생부및 피증착기판과타겟사이의다른일 영역에제 2 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 2 플라즈마발생부를포함하는것을.특징으로한다.

Abstract translation: 溅射成膜装置及溅射成膜装置技术领域本发明涉及一种溅射成膜装置及溅射成膜装置，其包括：配置在被成膜基板的内部的相对的室，并且设置溅射反应空间; 以及第二等离子体发生器，用于通过在要被气相沉积的衬底和目标之间的另一区域中使用第二气体来产生等离子体。