세포 배양 장치
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2021215894A1

    公开(公告)日:2021-10-28

    申请号:PCT/KR2021/005231

    申请日:2021-04-26

    Abstract: 본 발명은 세포 배양 장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 세포 배양 장치는 세포를 배양하여 3차원 스페로이드(spheroid)로 형성하는 세포 배양 장치로서, 플레이트 및 상기 플레이트의 일면에 기 설정된 간격으로 복수 개 배치되고, 내부에 세포가 배양되며, 내측면에 미세 패턴이 배치되어 상기 내측면과 상기 세포가 이격되는, 웰을 포함할 수 있다.

    세포 자극 장치, 초음파 및 전기 자극 장치

    公开(公告)号:WO2020116765A1

    公开(公告)日:2020-06-11

    申请号:PCT/KR2019/013104

    申请日:2019-10-07

    Abstract: 일 실시예에 따른 세포 자극 장치는 전극 요소가 설치되는 전극부; 상기 전극부의 상측에 이격 배치되고, 인가된 전압에 의해서 초음파를 발생시키는 pMUT 요소; 및 상기 전극부와 상기 pMUT 요소 사이에 설치되며, 상기 전극부 및 상기 pMUT 요소와 함께 셀 챔버(cell chamber)를 형성하는 웰 요소를 포함하고, 상기 전극 요소 상에 생체 물질이 배치되며, 상기 pMUT 요소에서 발생되는 초음파가 상기 생체 물질에 전달되어, 상기 생체 물질에 초음파 자극이 제공될 수 있다.

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