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公开(公告)号：KR100987159B1
公开(公告)日：2010-10-11
申请号：KR1020080077451
申请日：2008-08-07
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 나노 패턴이 형성된 사출 성형물의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 사출 성형물의 제조방법은, 금형의 내부에 수용성 고분자로 이루어진 패턴 필름을 장착하여 사출 성형하고, 이형 후 사출 성형물에 결합된 패턴 필름을 물에 녹여 제거하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면 금형의 이형 시 패턴 필름이 사출성형물과 함께 분리되므로, 사출 성형물이 비틀리거나 또는 좌굴되는 현상이 발생하지 않아 사출 성형물에 결함이 없는 나노 패턴을 형성할 수 있다. 따라서 본 발명의 제조방법을 이용하여 대용량 저장매체나 고 해상도 디스플레이 장치에 사용되는 사출 성형물을 제조할 수 있다.
사출 성형, 나노 패턴, 패턴 필름, 캐버티 금형, 코어 금형, 폴리비닐알콜-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100018788A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：KR1020080077451
申请日：2008-08-07
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: B29C45/14827 , B29C45/14065 , B29C2045/14868 , B41M5/405 , B41M5/44 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing injection molded products with nano-patterns by using nano-pattern insert molding is provided to minimize damage to the pattern in an injection mold separating step. CONSTITUTION: A pattern film in which the nano pattern is formed is manufactured. The same pattern film is installed inside a mold(S14). The pattern film uses the mold and is molded by injection(S15). The pattern film combined in the injection molding compound is removed(S17).
Abstract translation: 目的：提供通过使用纳米图案嵌件成型制造具有纳米图案的注射成型产品的方法，以最小化注射模具分离步骤中图案的损坏。 构成：制造形成纳米图案的图案膜。 相同的图案膜安装在模具内（S14）。 图案膜使用模具并通过注射成型（S15）。 除去注射成型化合物中组合的图案膜（S17）。
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公开(公告)号：KR1020100018789A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：KR1020080077452
申请日：2008-08-07
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: B29C45/14827 , B29C2045/14868 , B41M5/405 , B41M5/44 , B82Y40/00
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of an injection molded products with a nano pattern using ultraviolet-curing and nano-pattern insert molding is provided to improve quality of the injection mold by preventing the deformation of the nano pattern in an injection molding step. CONSTITUTION: A pattern film including a UV-curable layer is manufactured(S14). The pattern film is formed inside a mold in order to expose the UV-curable layer(S15). The pattern film uses the mold and is molded by injection(S16). At least a part of the pattern film combined in the injection mold compound is removed(S18).
Abstract translation: 目的：提供使用紫外线固化和纳米图案插入成型的具有纳米图案的注射成型产品的制造方法，以通过防止注射成型步骤中的纳米图案的变形来提高注射模具的质量。 构成：制造包含UV固化层的图案膜（S14）。 在模具内形成图案膜以暴露UV可固化层（S15）。 图案膜使用模具并通过注射成型（S16）。 除去在注射模具化合物中组合的图案膜的至少一部分（S18）。
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公开(公告)号：KR1020080006910A
公开(公告)日：2008-01-17
申请号：KR1020060066241
申请日：2006-07-14
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: C07K16/32 , A61K39/39558 , A61K2039/505 , C07K2317/24 , A61K2300/00
Abstract: An anti-HGF/SF humanized antibody is provided to show low immunity side reaction and have the binding affinity higher than that of a mother monoclonal antibody. And a method for preparing the same using the phage surface expression is provided. An anti-HGF/SF humanized antibody comprises a heavy chain variable region having an amino acid sequence at a complementarity determining region(CDR), respectively, which is TYYMS of SEQ ID : NO. 1, YIGTSSGTTYYANSVKG of SEQ ID : NO. 2, and GLGRINL of SEQ ID : NO. 3; a light chain variable region same as a light chain variable region of a human antibody; a heavy chain invariable region same as a heavy chain invariable region of the human antibody; and a light chain invariable region same as a light chain invariable region of the human antibody. A DNA encodes the heavy variable region of the humanized antibody and has a sequence of SEQ ID : NO. 7, 11, 15 or 19. A method for preparing the anti-HGF/SF humanized antibody comprises the steps of: (a) preparing an Fab library including a combination of the heavy chain variable region and the light chain variable region; and (b) surface-expressing the library on a phage. A composition for preventing and treating cancer comprises the humanized antibody.
Abstract translation: 提供抗HGF / SF人源化抗体以显示低免疫力副反应，并且具有比母体单克隆抗体更高的结合亲和力。 并提供了使用噬菌体表面表达制备该方法的方法。 抗HGF / SF人源化抗体包含分别具有互补决定区（CDR）的氨基酸序列的重链可变区，其是SEQ ID NO： 1，SEQ ID NO：1的YIGTSSGTTYYANSVKG。 2和GLGRINL SEQ ID NO： 3; 与人抗体的轻链可变区相同的轻链可变区; 与人抗体的重链不变区相同的重链不变区; 以及与人抗体的轻链不变区相同的轻链不变区。 DNA编码人源化抗体的重的可变区，并具有SEQ ID NO： 7，11,15或19.制备抗HGF / SF人源化抗体的方法包括以下步骤：（a）制备包含重链可变区和轻链可变区的组合的Fab文库; 和（b）在噬菌体上表达表达文库。 用于预防和治疗癌症的组合物包含人源化抗体。
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公开(公告)号：KR100949603B1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：KR1020080077452
申请日：2008-08-07
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 자외선 경화방법과 나노 패턴 삽입 사출성형을 이용하여 나노 패턴이 형성된 사출성형물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 사출성형물의 제조방법은, 자외선 경화층을 포함하는 패턴 필름을 제조하고 이를 금형의 내부에 장착하여 사출 성형한 후, 사출성형물에 결합된 패턴 필름 중 자외선 경화층을 제외한 부분을 제거하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면 사출성형물에 형성된 나노 패턴은 자외선 경화를 통하여 이루어지므로 열에 의한 고분자 수지의 변형이 발생하지 않는다. 그리고 금형의 이형 시 자외선 경화층을 포함하는 패턴 필름이 사출성형물과 함께 분리되므로 사출성형물이 비틀리거나 또는 좌굴되는 현상이 발생하지 않는다. 또한 나노 패턴의 형성은 자외선 경화를 통하여 이루어지고, 사출성형물의 용도에 따른 형상은 사출 성형을 통하여 형성되므로 사출 성형 시에 나노 패턴이 변형될 가능성을 최소화시킬 수 있다.
자외선 경화층, 나노 패턴, 패턴 필름, 사출 성형-
公开(公告)号：KR100829972B1
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：KR1020060066241
申请日：2006-07-14
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: C07K16/32 , A61K39/39558 , A61K2039/505 , C07K2317/24 , A61K2300/00
Abstract: 본 발명은 항-HGF/SF 인간화 항체 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 인간 항체의 경쇄 가변영역과 인간 이외의 동물 유래의 항-HGF/SF 항체의 중쇄 가변영역 상보성 결정부위 (HCDR)가 이식된 인간 항체의 중쇄 가변영역의 조합으로 이루어진 항-HGF/SF 키메릭 Fab 라이브러리를 파지 표면발현시켜 제조된 본 발명의 항-HGF/SF 인간화 항체는, 모체 항-HGF/SF 항체와 동등 이상의 HGF/SF에 대한 결합 친화도 및 HGF/SF와 이의 수용체인 cMET의 결합을 억제하는 중화활성을 가지면서도 인체 내에서 낮은 면역 부반응을 나타내므로, 보다 효과적으로 HGF와 그 수용체인 cMET의 결합에 의해 야기되는 여러 가지 질환, 특히, 암의 예방 및 치료제로 유용하게 사용될 수 있다.
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