광 리소그래피를 이용한 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 및 그 제조 방법
    1.
    发明授权
    광 리소그래피를 이용한 극저밀도 3차원 박막 격자 구조체 및 그 제조 방법 有权
    3基于照片平片的超低密度三维薄膜结构的制造方法

    公开(公告)号:KR101696814B1

    公开(公告)日:2017-01-24

    申请号:KR1020150170060

    申请日:2015-12-01

    Abstract: 본발명은광 리소그래피를이용한극저밀도 3차원박막격자구조체및 그제조방법에관한것이다. 상기구조체는, 면외격자요소및 면내격자요소를포함하고, 상기면외격자요소및 면내격자요소는경질박막으로이루어진중공격자형으로형성되되그 내부가상호연통되어있는것을특징으로하고, 경질박막을포함하는극저밀도 3차원박막격자구조체제조방법으로서, (a) 제1 액상감광성수지벌크에대해면외방향에서점형패턴에따라자외선을조사하여 3차원격자형태의면외고상수지격자구조체를형성하는단계; (b) 면내방향으로배치된제2 액상감광성수지층에대해선형패턴에따라자외선을조사하는과정을반복하여, 상기면외고상수지격자구조체의면내방향에수직한방향으로일정한간격을두고형성되되상기면외고상수지격자구조체와일체를이루는 2차원격자형태의복수의면내고상수지격자구조체를형성하는단계; (c) 상기면외고상수지격자구조체및 면내고상수지격자구조체로이루어진고상수지격자구조체의표면에경질박막을형성하는단계; 및 (d) 상기경질박막의일부를제거하여내부의상기고상수지격자구조체의일부를노출시킨후 제거하는단계;를포함하고, 상기극저밀도 3차원격자구조체는상기 (a) 및 (b) 단계를통해형성된고상수지격자구조체를템플릿으로하여중공격자형의면외격자요소및 면내격자요소가일체로형성되는방식으로제조된다. 본발명에따른극저밀도 3차원박막격자구조체는, 경질박막으로이루어진중공격자형이고면외격자요소에면내격자요소가추가되어중량대비높은강도및 강성가지며, 광리소그래피기술을채택함으로써종래다른극저밀도소재를제조하는방법과비교하여제품크기의대형화및 대량생산성에있어유리하다.

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