플라즈마 전해 산화 공정에서 금속과 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 금속이온과 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법

    公开(公告)号:WO2018174475A1

    公开(公告)日:2018-09-27

    申请号:PCT/KR2018/003089

    申请日:2018-03-16

    Abstract: 본 발명은 일반적으로 인체내 골에 삽입되어 사용되고 있는 금속재료인 티타늄계 합금 표면에 플라즈마 전해 산화법(Plasma Electrolytic Oxidation)을 이용하여 다공성의 산화 피막을 형성하는 것으로, 더욱 상세하게는 인체를 이루고 있는 많은 이온중에 세포부착과 골 형성으로부터 중요한 역할을 하는 금속(마그네슘, 아연, 스트론튬, 망가니즈)과 실리콘이 함유된 전해질 용액을 사용하여 치과 임플란트 표면에 금속이온 및 실리콘 이온과 칼슘 및 인이 포함된 다공성 산화 피막의 표면을 플라즈마 전해 산화법으로 형성하여 생체활성을 향상시키는 임플란트 제조방법이며, 그 과정은 치과용 티타늄합금을 순차적으로 연마, 미세연마 및 초음파 세척하는 티타늄합금 준비단계, 상기 준비단계에서 준비된 티타늄합금을 전기분해조 양극에 설치하고, 음극은 백금을 설치한 후 전해질 용액을 투입하는 투입단계, 일정한 전압과 전류밀도를 가하여 플라즈마를 생성시켜 티타늄합금에 산화 피막을 형성하는 플라즈마 형성단계 및 상기 플라즈마 형성단계에서 티타늄합금에 산화피막이 형성된 후 에탄올 및 증류수 세척 후 건조시키는 건조단계를 포함하는 플라즈마 전해 산화 공정에서 금속 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 금속이온 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법에 관한 것이다. 상기 플라즈마 전해 산화 공정에서 금속 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 금속이온 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법으로 인한 효과는 티타늄계 생체합금에 플라즈마 전해 산화공정을 이용하여 치과용 임플란트 표면 처리함으로써 제조공정 과정이 간편하고, 임플란트 제조 시간 및 치료 기간을 저감시키는 효과가 있고, 플라즈마 전해 산화법으로 금속이온과 실리콘 이온을 복합적인 치환을 통해 생체적합성을 지닌 다공성 산화막을 생성하였으며, 종래 금속 산화막보다 두껍고 치밀한 산화막이 제조되며, 금속이온 및 실리콘 이온의 생체활성물질을 포함하여 생체적합성을 빠르게 증가시킴으로써 치과용 임플란트의 초기 고정력을 높여 치료기간을 줄인다.

    플라즈마 전해 산화 공정에서 마그네슘 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 마그네슘 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법
    2.
    发明授权
    플라즈마 전해 산화 공정에서 마그네슘 및 실리콘이 함유된 전해질 조성물 및 그 조성물을 이용하여 마그네슘 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법 有权
    在等离子体电解氧化过程中含有镁和硅的电解质组合物以及使用该组合物制造涂覆有含有镁和硅离子的羟基磷灰石的牙科植入物的方法

    公开(公告)号:KR101835623B1

    公开(公告)日:2018-03-07

    申请号:KR1020170035313

    申请日:2017-03-21

    Inventor: 최한철 박선영

    Abstract: 본발명은일반적으로인체내골에삽입되어사용되고있는금속재료인티타늄계합금표면에플라즈마전해산화법(Plasma Electrolytic Oxidation)을이용하여다공성의산화피막을형성하는것으로, 더욱상세하게는인체를이루고있는많은이온중에세포부착과골 형성으로부터중요한역할을하는마그네슘과실리콘이 함유된전해질용액을사용하여치과임플란트표면에마그네슘및 실리콘이온과칼슘및 인이포함된다공성산화피막의표면을플라즈마전해산화법으로형성하여생체활성을향상시키는임플란트제조방법이며, 그과정은치과용티타늄합금을순차적으로연마, 미세연마및 초음파세척하는티타늄합금준비단계, 상기준비단계에서준비된티타늄합금을전기분해조양극에설치하고, 음극은백금을설치한후 전해질용액을투입하는투입단계, 일정한전압과전류밀도를가하여플라즈마를생성시켜티타늄합금에산화피막을형성하는플라즈마형성단계및 상기플라즈마형성단계에서티타늄합금에산화피막이형성된후 에탄올및 증류수세척후 건조시키는건조단계를포함하는플라즈마전해산화공정에서마그네슘및 실리콘이함유된전해질조성물및 그조성물을이용하여마그네슘및 실리콘이온을함유하는수산화아파타이트가코팅된치과용임플란트제조방법이다. 상기플라즈마전해산화공정에서마그네슘및 실리콘이함유된전해질조성물및 그조성물을이용하여마그네슘및 실리콘이온을함유하는수산화아파타이트가코팅된치과용임플란트제조방법에의한효과는티타늄계생체합금에플라즈마전해산화공정을이용하여치과용임플란트표면처리함으로써제조공정과정이간편하고, 임플란트제조시간및 치료기간을저감시키는효과가있고, 플라즈마전해산화법으로마그네슘과실리콘이온을복합적인치환을통해생체적합성을지닌다공성산화막을생성하였으며, 종래금속산호막보다두껍고치밀한산화막을제조하며, 마그네슘및 실리콘이온의생체활성물질을포함하여생체적합성을증가시켜치과용임플란트의초기고정력을높인다.

    Abstract translation: 本发明一般涉及电解等离子体在使用体内骨插入在表面氧化处理后的钛基合金的金属材料,通过使用(等离子体电解氧化)形成的多孔氧化膜,并且更具体地许多组成人体 通过氧化而形成的离子通过使用细胞粘附和镁和硅发挥成骨从电解液电解等离子体镁和硅离子和钙和涂层膜表面的多孔氧化物包括牙科植入物表面包含了重要的作用 用于提高生物活性,则处理所述植入物的制造方法是这样的,从顺序制备的钛合金抛光牙科钛合金,精抛光和超声波清洗准备工序至电解阴极的钛合金制备步骤的,一个阳极 在安装铂之后引入电解质溶液的充电步骤,施加恒定电压过电流密度, 在等离子体形成步骤中在钛合金上形成氧化膜并在钛合金上形成氧化膜,接着用乙醇和蒸馏水洗涤,然后干燥,在等离子体电解氧化过程中, 本发明涉及一种电解质组合物和使用该组合物生产涂覆有包含镁和硅离子的羟基磷灰石的牙科植入物的方法。 在等离子体电解氧化过程中含有镁和硅的电解质组合物以及使用该组合物制备涂覆有含镁和硅离子的磷灰石的牙科植入物的方法的效果包括等离子体电解氧化过程 注入工艺简单,植入物制备时间和处理时间缩短,且生物相容性多孔氧化物膜是通过等离子体电解氧化工艺对镁离子和硅离子进行复合取代而形成的。 它比常规金属珊瑚膜生产厚而致密的氧化膜,并增加生物相容性,包括镁和硅离子的生物活性材料,以增强牙种植体的初始固定。

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