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1.发明申请감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 审中-公开使用与EVANESCENT FIELD相互作用的光波导型可饱和吸收体，其制造方法，使用相同的脉冲激光器件和使用其的脉冲激光器
公开(公告)号：WO2016122056A1
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：PCT/KR2015/006342
申请日：2015-06-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01S3/11
CPC classification number: H01S3/11
Abstract: 본 발명은 광도파로형 포화 흡수체에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 펨토초 레이저 공진기(cavity)내에 모드 잠금(mode-locking) 구현을 위해 설치되어 사용되는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법 그리고 이를 이용한 펨토초 레이저에 관한 것이다. 이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 감쇠장과 상호 작용하는 광도파로형 포화 흡수체를 제조하는 방법으로서, (a) 웨이퍼 상에 배열식 광도파로를 제작하는 단계; (b) 단계 (a)에서 제작된 배열식 광도파로를 진행하는 빛의 감쇠장이 표면에 드러나도록 상기 배열식 광도파로의 상부를 일정한 간격을 두고 선택적으로 제거하고, 상기 제거된 부분을 포함한 일정한 간격을 가지는 배열식 광도파로 상부에 포화 흡수 물질을 코팅하여 직사각형 패턴의 일정한 간격을 가지는 배열식 포화 흡수체를 제작하는 단계; 및 (c) 단계 (b)에서 제작된 직사각형 패턴의 배열식 포화 흡수체를 다이싱하여 개별 분리시키는 단계를 포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种光波导型可饱和吸收体，更具体地涉及：提供并用于在飞秒激光腔中实现模锁定的使用与渐逝场的相互作用的光波导型可饱和吸收体; 其制造方法; 和使用其的飞秒激光。 为此，根据本发明的制造使用ev逝场相互作用的光波导型可饱和吸收体的方法包括以下步骤：（a）在晶片上形成排列的光波导; （b）通过选择性地去除在其间具有预定间隔的阵列光波导的上部，形成具有预定间隔的矩形图案阵列可饱和吸收体，使得在步骤（a）中制备的穿过阵列光波导的光的消逝场暴露于 并且通过在其上具有预定间隔的排列的光波导的去除部分和上部涂覆可饱和吸收材料; 和（c）将在步骤（b）中形成的矩形图案阵列的可饱和吸收体切割成单独分离。
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公开(公告)号：WO2022139435A1
公开(公告)日：2022-06-30
申请号：PCT/KR2021/019563
申请日：2021-12-22
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 실시예의 부하 구동 장치는: 인덕터와 제1 플라이 커패시터를 포함하고, 제1 페이즈에서 상기 인덕터와 상기 제1 플라이 커패시터가 병렬로 연결되어 전원이 제공하는 에너지를 충전하고 제2 페이즈에서 상기 인덕터와 상기 커패시터가 직렬로 연결되어 충전된 에너지를 방전하는 제1 구동부 및 상기 제2 페이즈에서 상기 전원이 제공하는 에너지를 충전하고, 상기 제2 페이즈에서 충전된 에너지를 방전하는 제2 플라이 커패시터를 포함하는 제2 구동부를 포함하여 상기 전원이 제공하는 전압을 승압하여 부하부에 제공하는 승압 컨버터 및 상기 부하부에 흐르는 전류를 검출하고 상기 승압 컨버터를 제어하여 상기 부하부에 제공되는 전류를 제어하는 전류 제어부를 포함한다. 나아가, 본 실시예에 의하면 부하 구동과 동시에 부하를 제어하므로, 종래 기술에 비하여 전력 소모를 낮출 수 있다는 장점이 제공된다.
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公开(公告)号：WO2017018596A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：PCT/KR2015/010527
申请日：2015-10-06
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 일실시예에서, 집적 광학 칩은 기판, 상기 기판의 일면 상에 형성된 평면형 광파 회로 기반의 복수의 광학 컴포넌트, 및 상기 기판의 상기 일면 상에 형성되고, 상기 복수의 광학 컴포넌트를 서로 연결하는 복수의 광도파로를 포함한다. 일실시예에서, 상기 복수의 광학 컴포넌트는 비선형 손실 특성을 가지는 포화 흡수체를 포함한다. 상기 포화 흡수체는, 상기 기판의 상기 일면 상에 형성되는 코어층, 상기 코어층의 적어도 일부를 감싸는 오버클래딩층, 및 상기 오버클래딩층의 적어도 일부 상에 형성되고 상기 코어층의 적어도 일부를 도파하는 광의 감쇠장과 상호 작용하도록 배치되는 포화 흡수층을 포함할 수 있다.
Abstract translation: 在一个实施例中，集成光学芯片包括：基板; 形成在所述基板的一个表面上的多个基于平面光波回路的光学部件; 以及形成在基板的一个表面上并将多个光学部件彼此连接的多个光波导。 在本实施例中，多个光学部件包括具有非线性损耗特性的饱和吸收体。 可饱和吸收体可以包括：形成在衬底的一个表面上的芯层; 包裹在芯层的至少一部分的外包层; 以及形成在所述外包层的至少一部分上并且被布置成与通过所述芯层的至少一部分引导的光的消逝场相互作用的可饱和吸收层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101788400B1
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：KR1020150136577
申请日：2015-09-25
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 일실시예에서, 집적광학칩은기판, 상기기판의일면상에형성된평면형광파회로기반의복수의광학컴포넌트, 및상기기판의상기일면상에형성되고, 상기복수의광학컴포넌트를서로연결하는복수의광도파로를포함한다. 일실시예에서, 상기복수의광학컴포넌트는비선형손실특성을가지는포화흡수체를포함한다. 상기포화흡수체는, 상기기판의상기일면상에형성되는코어층, 상기코어층의적어도일부를감싸는오버클래딩층, 및상기오버클래딩층의적어도일부상에형성되고상기코어층의적어도일부를도파하는광의감쇠장과상호작용하도록배치되는포화흡수층을포함할수 있다.
Abstract translation: 在一个实施例中，集成光学芯片，衬底，形成在衬底中的多个光学元件的第一表面的基平面光波线路，和形成在表面上的一个在所述基板的，多个互连的多个光学部件中的上 并包括一个光波导。 在一个实施例中，多个光学部件包括具有非线性损耗特性的饱和吸收体。 其中可饱和吸收体是在表面形成一个的基片的上一个核心层，至少所述芯层和一个包层的一部分周围，并形成在至少一个用于波导的上敷层的部分上的至少所述芯层的一部分和 并且布置有与光的衰减场相互作用的饱和吸收层。
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公开(公告)号：KR101787209B1
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：KR1020150191566
申请日：2015-12-31
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H01S3/11
Abstract: 포화흡수체제조방법은웨이퍼상에복수의광도파로를포함하는광도파로어레이를형성하는단계, 상기복수의광도파로각각의적어도일부를감싸는오버클래딩층을형성하는단계, 상기복수의광도파로각각의적어도일부를도파하는빛의감쇠장과상호작용할수 있는영역에포화흡수물질을배치하는단계, 및상기웨이퍼를절단하여상기복수의광도파로각각에대응하는복수의광도파로형포화흡수체로분리하는단계를포함한다.
Abstract translation: 一种制造饱和吸收体的方法包括：在晶片上形成包括多个光波导的光波导阵列;形成围绕多个光波导中的每一个的至少一部分的外包层; 将饱和吸收材料置于能够与引导晶片的一部分的光衰减场相互作用的区域中，并将晶片切割成与多个光波导相对应的多个光波导饱和吸收器， 它包括。
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公开(公告)号：KR1020170011941A
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：KR1020150136577
申请日：2015-09-25
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 일실시예에서, 집적광학칩은기판, 상기기판의일면상에형성된평면형광파회로기반의복수의광학컴포넌트, 및상기기판의상기일면상에형성되고, 상기복수의광학컴포넌트를서로연결하는복수의광도파로를포함한다. 일실시예에서, 상기복수의광학컴포넌트는비선형손실특성을가지는포화흡수체를포함한다. 상기포화흡수체는, 상기기판의상기일면상에형성되는코어층, 상기코어층의적어도일부를감싸는오버클래딩층, 및상기오버클래딩층의적어도일부상에형성되고상기코어층의적어도일부를도파하는광의감쇠장과상호작용하도록배치되는포화흡수층을포함할수 있다.
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7.发明公开감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 无效光波导型可饱和吸收体采用现场交互及其制造方法，使用其的脉冲激光装置和使用其的脉冲激光
公开(公告)号：KR1020160094247A
公开(公告)日：2016-08-09
申请号：KR1020150088966
申请日：2015-06-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01S3/11
CPC classification number: H01S3/11
Abstract: 본발명은광도파로형포화흡수체에관한것으로서, 더욱상세하게는펨토초레이저공진기(cavity)내에모드잠금(mode-locking) 구현을위해설치되어사용되는감쇠장상호작용을이용한광도파로형포화흡수체및 그제조방법그리고이를이용한펨토초레이저에관한것이다. 이와같은목적을달성하기위한본 발명은감쇠장과상호작용하는광도파로형포화흡수체를제조하는방법으로서, (a) 웨이퍼상에배열식광도파로를제작하는단계; (b) 단계 (a)에서제작된배열식광도파로를진행하는빛의감쇠장이표면에누설되도록상기배열식광도파로의상부를일정한간격을두고선택적으로제거하고, 상기제거된부분을포함한일정한간격을가지는배열식광도파로상부에포화흡수물질을코팅하여일정한간격을가지는배열식포화흡수체를제작하는단계; 및 (c) 단계 (b)에서제작된배열식포화흡수체를다이싱하여개별분리시키는단계를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种光波导型可饱和吸收体，更具体地，涉及一种使用ev逝场相互作用的光波导型可饱和吸收体，其被安装用于实现飞秒激光腔中的模式锁定; 其制造方法和使用该方法的飞秒激光。 使用ev逝场相互作用制造光波导型可饱和吸收体的方法包括：（a）在晶片上制造排列型光波导的步骤; （b）以规定的间隔有选择地去除配置型光波导的上部的步骤，以使在步骤（a）中制造的布置型光波导上进行的渐逝光场泄漏到 光波导，并且包括去除部分的布置型光波导的上部并且具有可饱和吸收材料的预定间隔，从而以预定间隔制造布置型可饱和吸收体; 和（c）将在步骤（b）中制造的布置型可饱和吸收体切割成单独分离的步骤。 根据本发明，能够使用基板处理技术来实现使用ev逝场相互作用的光波导型可饱和吸收体的批量生产。
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公开(公告)号：KR1020160094269A
公开(公告)日：2016-08-09
申请号：KR1020150191566
申请日：2015-12-31
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H01S3/11
Abstract: 포화흡수체제조방법은웨이퍼상에복수의광도파로를포함하는광도파로어레이를형성하는단계, 상기복수의광도파로각각의적어도일부를감싸는오버클래딩층을형성하는단계, 상기복수의광도파로각각의적어도일부를도파하는빛의감쇠장과상호작용할수 있는영역에포화흡수물질을배치하는단계, 및상기웨이퍼를절단하여상기복수의광도파로각각에대응하는복수의광도파로형포화흡수체로분리하는단계를포함한다.
Abstract translation: 可饱和吸收体制造方法包括以下步骤：在晶片上形成包括多个光波导的光波导阵列; 形成用于围绕所述多个光波导中的每一个的至少一部分的上覆层; 在可以与引导所述多个光波导中的每一个的所述至少一部分的波的光的衰减场相互作用的区域中布置可饱和吸收材料; 以及分别将所述晶片切割成与所述多个光波导对应的多个光波导型可饱和吸收体。
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