광 산란 패턴 검출 장치 및 광 산란 패턴 검출 방법
    1.
    发明授权
    광 산란 패턴 검출 장치 및 광 산란 패턴 검출 방법 有权
    用于检测光散射图案的装置和用于检测光散射图案的方法

    公开(公告)号:KR101492343B1

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:KR1020130139105

    申请日:2013-11-15

    Inventor: 박용근 이겨례

    CPC classification number: G01N21/47 G01N15/0211 G01N2015/0222

    Abstract: 샘플에 대한 광 산란 패턴을 검출하는 광 산란 패턴 검출 장치가 제공된다. 일 실시 예에 의한 광 산란 패턴 검출 장치는, 상기 샘플에 빛을 조사하는 빛 소스, 상기 샘플로부터 산란되는 빛의 산란 패턴을 검출하는 검출기, 상기 샘플에 대한 빛의 조사 각도 및 파면 패턴 중 적어도 하나를 변경시키는 파면 제어기 및 복수 개의 변경된 조사 각도 각각에서 검출되는 복수 개의 산란 패턴을 합성하는 프로세서를 포함한다.

    Abstract translation: 在本发明中提供了一种用于检测检测样品的光散射图案的光散射图案的装置。 根据本发明的实施例,用于检测光散射图案的装置包括:向样品辐射光的光源; 检测来自样品的光散射的散射图案的检测器; 空间光调制器,其将光的辐射角和空间光图案之间的至少一个改变为样品; 以及处理器,其组合在所述多个变化辐射角度中的每一个上检测到的多个散射图案。

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