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公开(公告)号:CN101075612A
公开(公告)日:2007-11-21
申请号:CN200610142261.2
申请日:2006-10-10
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
IPC: H01L27/02 , H01L27/32 , H01L23/522 , H01L21/82 , H01L21/768
CPC classification number: H01L27/3253 , H01L27/3276
Abstract: 本发明提供了一种发光器件及其制造方法。该发光器件包括第一基板和第二基板。每个基板都可以细分为接触区和像素区。位于第一基板的接触区和像素区中的每一个中的导电元件的高度可以基本相同。
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公开(公告)号:CN1992330A
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN200610145213.9
申请日:2006-11-17
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
IPC: H01L27/32 , H01L23/522 , H01L21/82 , H01L21/768 , H05B33/12 , H05B33/10
CPC classification number: H01L27/3276 , H01L27/3251
Abstract: 本发明公开一种有机电致发光显示器件及其制造方法。该有机电致发光显示器件包括多个像素区域,该像素区域包括第一方向的多条第一像素线和第二方向的多条第二像素线。该像素区域分别包括薄膜晶体管。多条第一连接线电连接该第一像素线的该薄膜晶体管,并且第二连接线电连接该第二像素线至少其中之一的该薄膜晶体管。
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公开(公告)号:CN1512829A
公开(公告)日:2004-07-14
申请号:CN200310118554.3
申请日:2003-12-12
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: H01L27/3262 , H01L27/3253
Abstract: 一种有机电致发光装置包括:第一衬底和第二衬底,它们彼此间隔且相互面对;一有机电致发光二极管,其位于第二衬底的内表面上;一栅极线,它沿着第一方向形成于第一衬底的内表面上;一数据线,它沿着与第一方向相交的第二方向形成;一电源线,其与数据线间隔开且沿着第二方向形成,该电源线由与栅极线相同的材料形成,该电源线在栅极线与电源线交叉的部分附近有一电源连接线;一开关薄膜晶体管,其位于栅极线与数据线的交叉部分上,该开关薄膜晶体管包括由非晶硅形成的第一半导体层;一驱动薄膜晶体管,其位于开关薄膜晶体管与电源线的交叉部分上,该驱动薄膜晶体管包括由非晶硅形成的第二半导体层;一连接电极,其接至驱动薄膜晶体管,并且由与数据线相同的材料形成;和一电连接图案,其对应于连接电极,用来将连接电极电连接到有机电致发光二极管上,其中开关薄膜晶体管和驱动薄膜晶体管还分别包括第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层,第一栅极绝缘层具有与第一半导体层相同的形状,第二栅极绝缘层具有与第二半导体层相同的形状。
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公开(公告)号:CN100359710C
公开(公告)日:2008-01-02
申请号:CN200310123073.1
申请日:2003-12-24
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
Abstract: 有机电致发光装置包括第一和第二基板;设在第一基板内表面上的栅极线;设在栅极线上方的非晶硅层;与栅极线交叉的数据线;设在数据线下方的数据欧姆接触层;与数据线平行或基本平行并与数据线相隔一定距离的电源线,所述电源线包含与栅极线相同的材料;与栅极线和数据线相连的开关薄膜晶体管,所述开关薄膜晶体管利用非晶硅层作为开关有源层;与开关薄膜晶体管和电源线相连的驱动薄膜晶体管,所述驱动薄膜晶体管利用非晶硅层作为驱动有源层;与驱动薄膜晶体管相连的连接图形,所述连接图形包括导电聚合物材料;设在第二基板内表面上的第一电极;设在第一电极上的有机电致发光层;和设在有机电致发光层上的第二电极,所述第二电极与连接图形接触。
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公开(公告)号:CN1638552A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410062515.0
申请日:2004-06-30
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: H01L27/322 , H01L27/3251 , H01L51/5234 , H01L51/5284 , H01L2251/5315
Abstract: 一种有机电致发光装置,包括:具有第一像素区域的第一基板,该第一像素区域包括第一、第二和第三子像素区域;位于第一基板内表面上的阵列元件层,该阵列元件层包括处于各子像素区域中的薄膜晶体管;面对第一基板并与第一基板分隔开的第二基板,该第二基板包括对应第一像素区域的第二像素区域,第二像素区域包括第四、第五和第六子像素区域;位于各子像素区域中的第二基板的内表面上的有机电致发光二极管;和连接电极,其将第一基板与第二基板电连接,其中第四、第五和第六子像素区域彼此具有不同的面积。
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公开(公告)号:CN1516533A
公开(公告)日:2004-07-28
申请号:CN200310123073.1
申请日:2003-12-24
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: H01L27/3253 , H01L27/3276
Abstract: 有机电致发光装置包括第一和第二基板;设在第一基板内表面上的栅极线;设在栅极线上方的半导体层;与栅极线交叉的数据线;设在数据线下方的数据欧姆接触层;与数据线平行或基本平行并与数据线相隔一定距离的电源线,所述电源线包含与栅极线相同的材料;与栅极线和数据线相连的开关薄膜晶体管,所述开关薄膜晶体管利用半导体层作为开关有源层;与开关薄膜晶体管和电源线相连的驱动薄膜晶体管,所述驱动薄膜晶体管利用半导体层作为驱动有源层;与驱动薄膜晶体管相连的连接图形,所述连接图形包括导电聚合物材料;设在第二基板内表面上的第一电极;设在第一电极上的有机电致发光层;和设在有机电致发光层上的第二电极,所述第二电极与连接图形接触。
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公开(公告)号:CN1379277A
公开(公告)日:2002-11-13
申请号:CN02108754.7
申请日:2002-03-29
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/136227 , G02F2001/136236 , H01L27/1214 , H01L29/66765 , Y10S438/949
Abstract: 一种液晶显示器阵列衬底的制造方法包括以下步骤:通过在一衬底上形成一金属材料,在该衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积一绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。
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公开(公告)号:CN100356576C
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200310118554.3
申请日:2003-12-12
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
IPC: H01L27/32
Abstract: 一种有机电致发光装置包括:第一衬底和第二衬底,它们彼此间隔且相互面对;一有机电致发光二极管,其位于第二衬底的内表面上;一栅极线,它沿着第一方向形成于第一衬底的内表面上;一数据线,它沿着与第一方向相交的第二方向形成;一电源线,其与数据线间隔开且沿着第二方向形成,该电源线由与栅极线相同的材料形成,该电源线在栅极线与电源线交叉的部分附近有一电源连接线;一开关薄膜晶体管,其位于栅极线与数据线的交叉部分上,该开关薄膜晶体管包括由非晶硅形成的第一半导体层;一驱动薄膜晶体管,其位于开关薄膜晶体管与电源线的交叉部分上,该驱动薄膜晶体管包括由非晶硅形成的第二半导体层;一连接电极,其接至驱动薄膜晶体管,并且由与数据线相同的材料形成;和一电连接图案,其对应于连接电极,用来将连接电极电连接到有机电致发光二极管上,其中开关薄膜晶体管和驱动薄膜晶体管还分别包括第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层,第一栅极绝缘层具有与第一半导体层相同的形状,第二栅极绝缘层具有与第二半导体层相同的形状。
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公开(公告)号:CN1262873C
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN02108754.7
申请日:2002-03-29
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/136227 , G02F2001/136236 , H01L27/1214 , H01L29/66765 , Y10S438/949
Abstract: 一种液晶显示器阵列衬底的制造方法包括以下步骤:通过在一衬底上形成一金属材料,在该衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积一绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。
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