公开(公告)号：US20180237642A1

公开(公告)日：2018-08-23

申请号：US15817706

申请日：2016-05-23

Applicant: VALSPAR SOURCING, INC.

Inventor： VICTORIA J GELLING ,  TAPAN DEBROY ,  CHUN REN ,  MALLORY MESSIN

IPC: C09D5/16 ,  C09D7/65 ,  C25D21/11

CPC classification number: C09D5/1618 ,  A01N59/06 ,  C01G29/00 ,  C08J2300/22 ,  C08J2300/24 ,  C09D5/00 ,  C09D5/033 ,  C09D5/1687 ,  C09D7/65 ,  C09D201/00 ,  C25D21/11

Abstract: A microbe-resistant coating composition or paint including an antimicrobial agent is described. The antimicrobial agent is an inorganic bismuth-containing compound, and may be used in conjunction with other bismuth-containing compounds or other biocidal agents or methods. A method of treating an electrodeposition system for bacterial and/or fungal contamination is also described by adding an antimicrobial agent to at least a portion of the electrodeposition system.

公开(公告)号：BR112017015460A2

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：BR112017015460

申请日：2016-02-10

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： CHUN REN ,  TAPAN DEBROY ,  VICTORIA J GELLING

IPC: C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: a presente invenção refere-se a um sistema de eletrorrevestimento para a eletrodeposição. o sistema inclui um composto inorgânico contendo bismuto ou uma mistura de compostos inorgânicos e orgânicos contendo bismuto. o sistema demonstra um alto grau de reticulação e produz um revestimento curado com reticulação e resistência à corrosão ótimas.

公开(公告)号：MX2017009782A

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：MX2017009782

申请日：2016-02-10

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： TAPAN DEBROY ,  VICTORIA J GELLING ,  CHUN REN

IPC: C09D7/12 ,  B01J23/18 ,  C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: Se describe un sistema de electrorrevestimiento para electrodeposición. El sistema incluye un compuesto que contiene bismuto inorgánico o una mezcla de compuestos que contienen bismuto inorgánico y orgánico. El sistema demuestra un alto grado de reticulación y produce un revestimiento curado con una óptima reticulación y resistencia a la corrosión.

公开(公告)号：BR112017015460B1

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：BR112017015460

申请日：2016-02-10

Applicant: SHERWIN WILLIAMS CO ,  VALSPAR SOURCING INC ,  ENG POLYMER SOLUTIONS INC ,  THE VALSPAR CORP ,  THE SHERWIN WILLIAMS HEADQUARTERS COMPANY ,  SWIMC LLC

Inventor： VICTORIA J GELLING ,  TAPAN DEBROY ,  CHUN REN

IPC: C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C09D7/48 ,  C09D7/61 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: COMPOSIÇÃO E MÉTODO PARA ELETRODEPOSIÇÃO. A presente invenção refere-se a um sistema de eletrorrevestimento para a eletrodeposição. O sistema inclui um composto inorgânico contendo bismuto ou uma mistura de compostos inorgânicos e orgânicos contendo bismuto. O sistema demonstra um alto grau de reticulação e produz um revestimento curado com reticulação e resistência à corrosão ótimas.

公开(公告)号：BR112017024677A2

公开(公告)日：2018-07-24

申请号：BR112017024677

申请日：2016-05-23

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： CHUN REN ,  MALLORY MESSIN ,  TAPAN DEBROY ,  VICTORIA J GELLING

IPC: C09D5/00

Abstract: uma composição de revestimento ou tinta resistente a micróbios, que inclui um agente antimicrobiano, é descrita. o agente antimicrobiano é um composto inorgânico contendo bismuto, e pode ser usado em conjunto com outros compostos contendo bismuto, ou outros agentes ou métodos biocidas. um método para o tratamento de um sistema de eletrodeposição contra contaminação bacteriana e/ou fúngica também é descrito, pela adição de um agente antimicrobiano a pelo menos uma porção do sistema de eletrodeposição.

公开(公告)号：MX2017014646A

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：MX2017014646

申请日：2016-05-23

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： TAPAN DEBROY ,  VICTORIA J GELLING ,  CHUN REN ,  MALLORY MESSIN

IPC: C09D5/00

Abstract: Se describe una composición de revestimiento o pintura resistente a microbios que incluye un agente antimicrobiano. El agente antimicrobiano es un compuesto que contiene bismuto inorgánico, y puede usarse en conjunto con otros compuestos que contienen bismuto u otros agentes o métodos biocidas. Se describe, además, un método para tratar un sistema de electrodeposición para la contaminación bacteriana y/o fúngica al añadir un agente antimicrobiano a al menos una porción del sistema de electrodeposición.

公开(公告)号：BR112015030200A2

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：BR112015030200

申请日：2014-05-22

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： DAN HARTINGER ,  DONALD W BOESPFLUG ,  TAPAN DEBROY

IPC: C08G18/48 ,  C09D175/04

Abstract: 1 / 1 resumo “composiã‡ãƒo de revestimento de uretano, e, mã‰todos para revestir um substrato e para preparar um poliol” a presente invenã§ã£o refere-se a uma composiã§ã£o de revestimento de uretano ãºtil em uma variedade de aplicaã§ãµes como, por exemplo, um revestimento direto-em-metal, isto ã©, uma composiã§ã£o de revestimento que pode ser aplicada diretamente ã superfã­cie de um substrato metã¡lico sem um revestimento de fundo ("primer") ou um prã©-tratamento. a composiã§ã£o de revestimento de preferãªncia inclui um poliol que ã© o produto de reaã§ã£o de uma resina de fã³rmula geral (i) com um ã¡cido ou um diol respectivamente, com a reaã§ã£o sendo realizada na presenã§a de um catalisador. a composiã§ã£o de revestimento inclui tambã©m um composto funcionalizado com isocianato como um reticulador. a composiã§ã£o de revestimento forma um filme resistente ã corrosã£o quando aplicada diretamente na superfã­cie do substrato sem um prã©-tratamento ou um revestimento de fundo ("primer").