Abstract:
This relates to a BaTiO3 base high dielectric magnetic composition. Its dielectic constant is little dependant on temp. and it satisfies the Z5U standard of EIA. The composition comprises : A) 87-92 mol% of barium titanate; B) 8-13 mol% of calcium stannate; C) 0.05-3.0 wt.% of potassium silicate and D) 0.1-1.2 wt.% of oxides, relative to 100 % of (A)+(B). Dielectricity of this composition is 5000-9000.
Abstract:
본 발명은 가공하기 어려운 소형 원통형 구조물의 외경을 정밀하게 가공하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 회전 하는 연마원판(7)과, 상기 연마원판(7)상에 부착되는 연마지(9)와, 상기 연마지 상부에 설치되는 원형의 피가공물 고정틀(4)과, 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)의 내.외측원틀 양쪽에 하나의 세산단 각각 한쪽씩 배치되는 다수의 세선 조임쇠(6)와 상기 피가공물 고정틀(4) 내의 다수의 피가공물(1)을 한꺼번에 위에서 덮어눌러주는 원형의 덮개판(10)을 구비하고 있는 원통형 구조물의 외경가공장치와, 이를 이용한 외경가공방법으로서 여러개의 피가공물(1)을 상기 세선(5)에 꿴후, 세선 조임쇠(6)를 이용해 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)을 올려놓고, 원형의 덮개판(10)을 덮는 제2단계, 상기 거친 연마지가 부착된 연마원판(70을 일정시간 동안 회 시켜 조연마하는 제3단계, 상기 미세한 입자의 연마지가 부착된 연마원판(7)을 일정시간 동안 회전시켜 미세연마하는 제4단계, 및 연마천을 회전원판위에 덮고 미립자의 연마제 분말을 물과 혼합하여 분사하면서 일정시간 동안 마무리 연마하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 원통형 구조물의 외경을 가공하는 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 가공하기 어려운 소형 원통형 구조물의 외경을 정밀하게 가공하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 회전 하는 연마원판(7)과, 상기 연마원판(7)상에 부착되는 연마지(9)와, 상기 연마지 상부에 설치되는 원형의 피가공물 고정틀(4)과, 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)의 내.외측원틀 양쪽에 하나의 세산단 각각 한쪽씩 배치되는 다수의 세선 조임쇠(6)와 상기 피가공물 고정틀(4) 내의 다수의 피가공물(1)을 한꺼번에 위에서 덮어눌러주는 원형의 덮개판(10)을 구비하고 있는 원통형 구조물의 외경가공장치와, 이를 이용한 외경가공방법으로서 여러개의 피가공물(1)을 상기 세선(5)에 꿴후, 세선 조임쇠(6)를 이용해 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)을 올려놓고, 원형의 덮개판(10)을 덮는 제2단계, 상기 거친 연마지가 부착된 연마원판(70을 일정시간 동안 회 시켜 조연마하는 제3단계, 상기 미세한 입자의 연마지가 부착된 연마원판(7)을 일정시간 동안 회전시켜 미세연마하는 제4단계, 및 연마천을 회전원판위에 덮고 미립자의 연마제 분말을 물과 혼합하여 분사하면서 일정시간 동안 마무리 연마하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 원통형 구조물의 외경을 가공하는 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 수십미크론에서수백미크론의 미세한 구멍을 갖는관(pipe)형상의 구조물을 세선을 이용하여 가공하는 미세구멍을 갖는 구조물의 가공장치 및 가공방법에 관한 것으로, 내경을 형성하게 될 세선(2)과, 상기 세선을 감고 있는 이송드럼(3)과, 상기 세선의 장력을 감지하는 장력게이지(7)와, 피가공물에 상기 세선을 유도하는 제1세선가이드(6)와, 상기 피가공물을 지지하는 내부고정기(5)와, 상기 피가공물내에서 세공을 형성하고 나오는 세선(2)을 유도하는 제2세선가이드(8)와, 상기 제2세선가이드(8)를 통해 이송된 상기 세선을 회수하는 회수드럼(4)를 구비하고 있는 가공장치와, 상기 가공장치를 이용하여 적어도 하나 이상의 관통형 구조물을 내부고정기(5)에 넣어 고정시키는 제1단계, 상기 이송드럼(3)에서 빼낸 세선(2)을 피가공물의 내부구멍에 삽 입하여 통과시키고, 반대쪽에서 빼낸 세선을 회수드럼(4)에 감기도록 연결하는 제2단계, 인입측 세선가이드(6) 및 배출측 세선가이드(8)의 위치를 조절하여 삽입된 세선과 피가공물의 중심을 맞추고, 장력게이지(7)로 세선의 장력을 측정하여 적절하게 조절하는 제3단계, 및 상기 이송드럼(3) 및 회수드럼(4)을 적절한 속도로 구동시켜 피가공물의 내부구멍을 통과한 세선(2)을 감아 세선과의 마찰력에 의해 원하는 크기의 내부구멍을 형성하는 제4단계를 포함하여 이루어지는 가공방법을 제공하여 수십미크론에서 수백미크론의 미세한 구멍을 갖는 관(pipe)형상의 피가공물에 원하는 크기의 세공을 형성할 수 있도록 한다.
Abstract:
본 발명은 전자부품 또는 광부품, 기계부품에서 세공을 갖거나 또는 갖지 않는 원통형 구조물을 가공하는 방법에 있어서, 소형 원통형 구조물의 외경 정밀 가공방법에 관한 것이다. 본 발명은 동력원에 연결되어 회전력을 제공하는 회전축(12)에 고정되는 연마 원판(8)과, 상기 연마 원판(8)의 표면상에 부착되는 연마지(9)와, 상기 연마지(9)상에 놓여지는 원통형 구조물(1)을 가두도록 설치되어 원통형 구조물(1)의 이동을 제한하는 적어도 하나 이상의 치구(6, 10)와, 상기 치구(6)를 고정시키며, 또다른 동력원에 연결되어 회전력을 제공하는 회전축(12')에 고정되는 덮개판(7)을 구비한 가공장치와, 상기 장치에 적용되며 가공할 원통형 구조물(1)을 적어도 하나 이상의 상기 연마지(9)로 덮여진 연마원판(8)의 위에 올려놓고, 적어도 하나 이상의 상기 치구(6, 10)로 상기 원통형 구조물(1)을 덮어 이동을 제한시키고, 상기 회전축(12, 12')을 이용하여 상기 덮개판(7)과 연마 원판(8)을 회전시키면서 상기 원통형 구조물(1)의 외경을 가공하되, 가공 초 기에는 거친 연마지를 사용하여 조연마를 하고, 상기 조연마 후에 미세입자가 붙어 있는 연마지를 사용하여 미세연마를 한다.
Abstract:
PURPOSE: A single power feeding beam steering device is provided to execute a free directional control by forming a small sized simple structure by using a parasitic element. CONSTITUTION: A dielectric is formed into s a flat type on the ground plane of a dielectric substrate(140). The dielectric substrate comprises a one active circuit element(110) and at least two parasitic elements(121-124). The active circuit element directly excites a radio frequency signal with a single power feeding to the upper surface of the dielectric. The parasitic elements have a fixed distance from the active circuit element. The parasitic elements are symmetrically composed. A reactance circuit(151-154) respectively controls a reactance value which is loaded in each parasitic element. A control circuit(160) controls the voltage of the reactance circuit. A feeding part supplies a single feeding to the active element.
Abstract:
본 발명은 고주파 디바이스의 대전력 테스트 시스템 및 그의 방법에 관한 것으로, 주파수가 스윕되는 고주파 신호를 발생하는 신호 입력부; 테스트 대상 디바이스로 입력되는 상기 고주파 신호의 전력과 상기 테스트 대상 디바이스의 출력 신호의 전력을 각각 모니터링하는 모니터링부; 및 주파수별로 상기 테스트 대상 디바이스로 입력되는 상기 고주파 신호와 상기 테스트 대상 디바이스의 출력 신호간의 전력차를 계산하여, 주파수별 손실값을 획득하는 테스트 제어부를 포함하여 구성되며, 이에 의하여 대전력 환경하에서 고주파 디바이스의 특성을 테스트함으로써 테스트 동작의 신뢰성 및 정확성을 증대시켜 줄 뿐 만 아니라, 이와 동시에 고주파 신호의 주파수를 스윕시키면서 주파수별로 고주파 디바이스 특성을 테스트함으로써 보다 다양한 테스트 결과를 획득할 수 있도록 한다. 고주파 디바이스, 테스트 시스템, 테스트 방법, 대전력, 주파수 스윕.