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公开(公告)号：CN102487605A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201080038055.1
申请日：2010-09-02
Applicant: ITT制造企业公司
Inventor： 弗里德黑尔姆·克吕格尔 , 汉斯-约阿希姆·安东 , 拉尔夫·菲肯斯 , 厄恩斯特·马丁·比林
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/003 , C02F2201/3227 , C02F2201/324
Abstract: 本发明涉及一种用于废水和饮用水的紫外线消毒系统，包括：设置在包壳管(18)中的多个紫外线辐射体(30)，所述辐射管(18)构造成关于纵向轴线(11)基本上对称；以及用于包壳管(18)的清洁装置，该清洁装置包括如下方面：-用于每个包壳管(18)的至少一个清洁环(1)，该清洁环(1)环绕包壳管(18)，所述至少一个清洁环(1)具有置靠在所述包壳管(18)上的刮擦环(7)，-用于沿纵向轴线(11)的方向驱动清洁环(1)的至少一个驱动装置(31、32)，其中，-设置有用于将处于高压下的加压流体从压力源供给至刮擦环(7)的供给装置，并且-压力可以沿包壳管(18)的方向从压力源施加到刮擦环(7)上。
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公开(公告)号：CN102274649A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201110053866.5
申请日：2011-03-07
Applicant: 泛亚有限公司
CPC classification number: C02F1/325 , B01D29/23 , B01D29/682 , B01D29/688 , B63J4/002 , C02F1/001 , C02F1/008 , C02F2103/008 , C02F2103/08 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , C02F2201/328 , C02F2209/001 , C02F2209/02 , C02F2209/03 , C02F2209/40 , C02F2301/043 , C02F2303/04 , C02F2303/16
Abstract: 本发明涉及用于船舶的压载水处理系统及其控制方法，尤其涉及具备回压形成部的压载水处理系统及其控制方法，其在进行过滤部过滤器的反冲洗作业时，检查并形成过滤部内的回压，以保证有效的反冲洗作业；在处理压载水时，综合使用利用过滤器进行物理性过滤的方式和利用紫外线进行杀菌的方式，从而防止副产物所导致的二次污染并防止压载水槽的污染；在形成过滤部内回压的同时，也可将流入紫外线处理部的压载水的流量控制在不降低紫外线处理部效率的水平，从而可有效利用压载水处理系统整体的处理效率；可自动清洗过滤部或紫外线处理部，从而可始终保持均匀的性能，且维护管理效率高。
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公开(公告)号：CN100513322C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN03814311.9
申请日：2003-06-19
Applicant: 特洛伊人技术公司
Inventor： 乔治·A·特劳本贝格 , 史蒂文·M·巴克 , 仇光苹
CPC classification number: C02F1/325 , B01J19/123 , B01J2219/0877 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/14 , Y10S422/906
Abstract: 一种辐射源组件，包括支撑部件、与支撑部件相连的辐射源装配体，辐射源装配体包括至少一个具有源纵轴和位于组件的第一伸长表面上的组件-表面密封的伸长辐射源，第一伸长表面包括与源的纵轴横向交叉的第一纵轴，密封可基本上提供第一表面和与其相邻的第二表面之间的流体紧密封。也描述了应用辐射源组件的流体处理系统。
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公开(公告)号：CN100491263C
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200580011193.X
申请日：2005-04-13
Applicant: 奥阿泽有限公司
Inventor： 迪特尔·霍夫迈尔
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3223 , C02F2201/324
Abstract: 一种清洁转子，包括一纵轴线(L)和与纵轴线(L)同心延伸的基底部分(5)、顶部部分(3)以及在基底部分和顶部部分(3)之间延伸的工作面单元(9)，其中工作面单元(9)绕纵轴线(L)螺旋式地延伸，其特征在于，在基底部分(5)和顶部部分(3)之间设置至少一个平行于纵轴线(L)的支撑部分(7)，在此支撑部分上支撑工作面单元(9)，并且此支撑部分在长度上设计为凹的。
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公开(公告)号：CN1265898C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN00819450.5
申请日：2000-07-12
Applicant: 影像科学(日本)公司
CPC classification number: B08B9/023 , B08B1/008 , B21C43/00 , C02F1/325 , C02F2201/324
Abstract: 一种用于从管状构件(34)上去除沉淀物的刮拭器(9)，包括：界定外套(10)的元件，所述外套(10)具有向内开放的圆形凹槽和两个对齐的轴向开口；和一个刮拭元件(12)，所述刮拭元件(12)呈一个长弹性线的形式，该长弹性线被弯曲以形成一组一体式相连的弹性片段(26)，各对相邻片段通过一个弯曲件或膝状部分(28)连接起来。所有膝状部分(28)被容纳于凹槽中，并且线材的各个片段(26a)沿着对齐的轴向开口的一条弦延伸。所述弦的位置绕所述轴向开口的圆周分布，以便通过对齐的开口容纳管状构件(34)，各个片段(26a)向外变形，从而利用变形片段的弹性力促使其向内压住管状构件(34)，并且当刮拭器(9)轴向运动时使其清理管状构件(34)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1558872A
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN02818820.9
申请日：2002-09-24
Applicant: 奥阿泽维布克有限公司及两合公司
Inventor： 迪特尔·霍夫迈尔
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/324
Abstract: 一种具有一个UVC灯的用于过滤流体的过滤装置，它具有一个灯壳，该灯壳设置在待过滤流体的通流中并具有一个主轴线，其特征在于，设置至少一个清洁元件与所述灯壳的流体侧表面接触并可以围绕一个与主轴线重合的旋转轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1555344A
公开(公告)日：2004-12-15
申请号：CN02818141.7
申请日：2002-09-20
Applicant: 特洛伊人技术公司
CPC classification number: A61L2/10 , A61L2/08 , B01D53/75 , B01J19/123 , B01J19/243 , B01J2219/00038 , B01J2219/0004 , B01J2219/0877 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2301/022 , C02F2301/026
Abstract: 公开了一种流体处理系统反应器阵列(105)。反应器(155)的布置方式为使得流体可以沿螺旋方向经过该阵列。流体处理系统能够处理大量流体(例如水)同时需要较小的占地面积。本质上，本发明的流体处理系统在相对较小的空间内集中了相对较多的辐射源，因此可以处理大量流体(例如水)。
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公开(公告)号：CN1486283A
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN02803817.7
申请日：2002-04-27
Applicant: 内部股份公司技动实验室科学生产联合体
Inventor： 谢盖·V·克斯图舍克 , 亚历山大·V·克拉斯诺特丘巴 , 德米特里·A·德米多夫 , 安德列·J·莫伊谢夫 , 弗拉基米尔·A·诺森克
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326
Abstract: 一种用紫外线辐射处理液体介质用的模件(1)，它包括一个敞开的壳体，壳体由垂直的支柱(2)和与其连接的横向基板(3)组成。在基板之间垂直地安装在保护的灯管罩(5)内的紫外线灯管(4)。模件配备有清理灯管罩的装置(8)，该装置是带有灯管用孔的横向栅格(9)，在其中由耐紫外线辐射作用的材料制成的安装清理环。所述的装置(8)借助与活动元件连接而可沿灯管罩的表面移动，活动元件是一个空心的封闭筒(13)，与固定在壳体基板上的一个较小直径的空心筒(12)连通，封闭筒设成可相对于该空心筒移动。封闭筒沿垂直的导向件(14)移动，导向件是与空心筒共轴安装的带有孔(15)的管子，孔设置成使得在任何位置时孔都处于封闭筒的内部。模件可配备紫外线辐射强度传感器(16)，位于辐射区内。作为清理装置用的工作介质，使用被处理的介质。
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公开(公告)号：CN1168659A
公开(公告)日：1997-12-24
申请号：CN95196638.3
申请日：1995-10-17
Applicant: 特洛伊人技术公司
Inventor： J·M·马尔斯哈尔克维尔德
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/36 , C02F2201/3223 , C02F2201/324
Abstract: 一种从辐照组件上清除污物的方法，该方法包括下列步骤：(i)使辐照组件的至少一部分浸在流体里，和(ii)使辐照组件在足以基本上阻止污物附着到至少一个辐射源上的频率下振动。一种用于流体处理系统的辐照组件，该组件包括：一个在流体处理系统中固定该组件的支件；至少一个从支件上伸出的辐照部件，和至少一个与辐照部件相连的振动发生器。辐照组件是自清洗式的，并可以采取辐照组件或辐射传感器组件的形式。本文还叙述了辐照源组件在流体处理系统中的一体化。
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公开(公告)号：TW360619B
公开(公告)日：1999-06-11
申请号：TW084110974
申请日：1993-03-05
Applicant: 拓將科技公司
Inventor： 傑M.馬喬克威
IPC: C02F
CPC classification number: B01J19/123 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , Y10S422/906
Abstract: 一種流體處理系統，其包括一個或多個設在處理區內之照射區內之輻射源，要被處理之流體流經處理區並被照射。照射區具有一個封閉截面，使流體維持在距離該輻射源一段設定的最大距離範圍之內。輻射區最好包括一個縮減的截面區域，其垂直於流體流動方向，而且經過照射區時流體流速加快。此舉允許流體以慢速進入處理區，快速通過照射區，而以慢速離開處理區，以降低流經系統之壓力損失。進入處理區之流體通過一個入口過渡區，在進入照射區以前，入口渡區之截面面積滅小，而且流體經由一個出口過渡區而離開照射區，出口過渡區之截面面積增加。每一過渡區之設計目的是要減小流速加快和降低時之壓力損失。在照射區內，輻射源係裝設在輻射單位上，輻射單位設計成很容易觸及，以利維修。輻射單立亦可設有清潔設備，以移去會弄髒輻射源之物，同時使輻射源仍在照射區內。
Abstract in simplified Chinese: 一种流体处理系统，其包括一个或多个设在处理区内之照射区内之辐射源，要被处理之流体流经处理区并被照射。照射区具有一个封闭截面，使流体维持在距离该辐射源一段设置的最大距离范围之内。辐射区最好包括一个缩减的截面区域，其垂直于流体流动方向，而且经过照射区时流体流速加快。此举允许流体以慢速进入处理区，快速通过照射区，而以慢速离开处理区，以降低流经系统之压力损失。进入处理区之流体通过一个入口过渡区，在进入照射区以前，入口渡区之截面面积灭小，而且流体经由一个出口过渡区而离开照射区，出口过渡区之截面面积增加。每一过渡区之设计目的是要减小流速加快和降低时之压力损失。在照射区内，辐射源系装设在辐射单位上，辐射单位设计成很容易触及，以利维修。辐射单立亦可设有清洁设备，以移去会弄脏辐射源之物，同时使辐射源仍在照射区内。
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