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公开(公告)号：CN102443265B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201010505031.4
申请日：2010-10-09
Applicant: 奇美实业股份有限公司
IPC: G02F1/1333 , H01L27/32 , C08L83/047 , C08K5/42
Abstract: 本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于500～50000的信号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量大于8000者占30％以下，分子量介于500～2000者占35～60％。本发明也提供一种通过将该光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的保护膜，及一具有保护膜的元件。本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物具有显影性佳及膜厚均一等特性。
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公开(公告)号：CN102841504A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210195598.5
申请日：2012-06-08
Applicant: 奇美实业股份有限公司
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L27/12
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0236 , H01L27/1288 , Y10T428/1086 , Y10T428/24612
Abstract: 本发明是有关于一种正型感光性树脂组成物及其形成图案的方法。此组成物包含酚醛清漆树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸类的酯化物(B)以及酮醇系溶剂(C)。其中，该酚醛清漆树脂(A)含有18％至25％亚甲基键结于邻位-邻位上的高邻位酚醛清漆树脂(A-1)，且此高邻位酚醛清漆树脂(A-1)与酮醇系溶剂(C)的重量比((A-1)/(C))为0.1至2.0。此组成物的经时安定性佳，并可制得膜厚均一性佳及分辨率高的图案。
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公开(公告)号：CN102443265A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010505031.4
申请日：2010-10-09
Applicant: 奇美实业股份有限公司
IPC: C08L83/04 , C08K5/42 , G02F1/1333 , H01L27/32
Abstract: 本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于500～50000的信号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量大于8000者占30％以下，分子量介于500～2000者占35～60％。本发明也提供一种通过将该光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的保护膜，及一具有保护膜的元件。本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物具有显影性佳及膜厚均一等特性。
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公开(公告)号：CN102043356A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200910207224.9
申请日：2009-10-13
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Inventor： 施俊安
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种清洗基板用洗净液组成物，特别是提供一种洗净力强、洗净后光阻膜形状佳的清洗基板用洗净液组成物。该洗净液组成物的含水率在200ppm以下。
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公开(公告)号：CN108693710B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN201810239512.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Abstract: 本发明有关正型感光性聚硅氧烷组合物，用于形成TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜，或光波导路芯材或包覆材的保护膜，其具有耐化学性佳的特性。该正型感光性硅氧烷组合物包含聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)及硅烷化合物(D)。
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公开(公告)号：CN112394618A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202010781441.5
申请日：2020-08-06
Applicant: 奇美实业股份有限公司
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，包含一第一树脂(A1)、一第二树脂(A2)、一光酸产生剂(B)及一溶剂，且其所制得的保护膜具有显影密着性良好及无显影残渣的优点。发明另关于该化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜及包含该保护膜的组件。
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公开(公告)号：CN106918989B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201611036083.5
申请日：2016-11-23
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物、保护膜以及具有保护膜的组件。感光性聚硅氧烷组成物包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、溶剂(C)以及有机无机复合树脂(D)。有机无机复合树脂(D)是由烷氧基硅烷(d‑1)及烷氧基金属(d‑2)进行聚缩合而得，且有机无机复合树脂(D)的重量平均分子量为500～5000。本发明的感光性聚硅氧烷组成物耐化性好。
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公开(公告)号：CN111324013A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201911221344.4
申请日：2019-12-03
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包括树脂(A)、光酸产生剂(B)及溶剂(C)。本发明更包括应用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜，及包括此保护膜的元件。此保护膜具有良好的显影密着性及耐化性，且可应用于薄膜电晶体基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。
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公开(公告)号：CN104950580B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201510129323.5
申请日：2015-03-24
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种感光性聚硅氧烷组合物及由该感光性硅氧烷组合物所形成的保护膜，其用于形成在TFT基板上使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材，该保护膜具有ITO图案不易视认与低温固化佳的特性。该感光性硅氧烷组合物包含：聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、选自由热酸发生剂及热碱发生剂所组成的群中的至少一种化合物(C)、无机粒子(D)以及溶剂(E)。
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公开(公告)号：CN104423170B
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201410445831.X
申请日：2014-09-03
Applicant: 奇美实业股份有限公司
Abstract: 一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件。感光性聚硅氧烷组合物包括聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含氮的杂环化合物(C)、以第四族元素的氧化物为主成分的无机粒子(D)以及溶剂(E)，其中含氮的杂环化合物(C)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群。
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