Abstract:
본 발명은 반도체 시료의 신뢰성 시험장치에 관한 것으로, 반도체 시료와 평가회로판을 포함하는 부품들이 탑재되는 시료 탑재부와, 반도체 시료의 하부에 장착되어 시험온도를 유지시키기 위한 가열블럭과, 가열블럭과 분리된 구조로 상기 가열블럭를 에워싸는 구조로 제작되어 주변 부품들의 온도를 냉각시키기 위한 냉각블럭과, 반도체 시료를 상, 하로 이동시키는 고정블럭을 포함하는 반도체 시료의 신뢰성 시험장치를 제공한다. 신뢰성, 반도체 시료, 신뢰성 시험장치
Abstract:
Provided are a planar optical waveguide and a method of fabricating the same which is adapted to a planar optical component and an optical component for use in a optical communication. The planar optical waveguide includes: a lower cladding layer formed on a substrate, a core formed on the lower cladding layer, a dielectric layer covering the core, and an upper cladding layer formed on the lower cladding layer having the dielectric layer. By forming the dielectric layer having a low refractive index between the core and the clad, a difference of refractive indices between the core and the clad increases so that light is densely focused into the core, thereby forming a single mode having a strong energy to minimize a propagation loss.
Abstract:
PURPOSE: A method for fabricating a planar lightwave circuit type optical amplifier using glass sputtering is provided to obtain low waveguiding loss and good gain characteristics by depositing a glass containing a high density rare-earth element. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a planar lightwave circuit type optical amplifier, a silica clad layer(401) is formed on a silicon substrate. The silica clad layer is etched in intaglio. A glass film(404) containing a rare-earth element is deposited on the intaglio-etched silica clad layer. And a top clad layer(405) is formed on the glass film containing a rare-earth element. The above silica clad layer is formed as thick as 15-20 micro meter using FHD(Flame Hydrolysis Deposition), PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) or HIPOX. And the etching of the silica clad layer is performed using an ICP(Inductively Coupling Plasma) etching method with a metal mask.
Abstract:
본 발명은 어븀(Er)-도우프트(doped) 코아층과 어븀-언도우프트(undoped) 코아층을 실리카 기판 또는 단결정 실리콘 단일 기판 상에 형성하여 광증폭(optical amplification을) 이루는 평면형 광증폭기 및 그를 이용한 광소자 제조 방법을 제공한다. 예로서, 동일한 기판 상에 입출력측의 도파로를 어븀-언도우프트 코아층으로 형성하고 광증폭영역의 도파로를 어븀-도우프트 코아층으로 형성한 후 이를 패터닝하여 입력광(980/1480/1550nm)의 감쇄(damping)를 낮추고 효율적인 증폭이 일어나도록 하고, 입력부에는 파장 다중화기(WDM)를 구성하여 신호광과 펌핑광을 입력하고 출력부에는 파장 분리기(wavelength separator)를 구성하여 펌핑광을 분리함으로써 광분배기의 분배에 따른 신호광의 감쇄를 보상시킨 다채널 무손실 광분배기 제조 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 신호광이 입사/출사되는 광도파로와 펌핑광이 입사되는 광도파로 및 증폭용 광도파로를 동일한 기판 상에 구현하는 평면형 광증폭기에 관한 것이다. 본 발명은 실리콘 기판 위에 희토류 금속 성분이 첨가되지 않은 유리막을 형성하고, 그 내부에 신호광 입력/출력 도파로, 펌핑광 입력 도파로, 및 신호광과 펌핑광을 결합시키는 파장다중화기와 같은 부속 광회로를 구성하는 저손실 광도파로를 형성하며; 상기 저손실 광도파로가 형성된 유리막 위에 희토류 금속 성분이 첨가된 유리막을 형성하고, 그 내부에 광증폭 회로를 구성하는 증폭용 광도파로를 형성하며; 상기 증폭용 광도파로의 시작부분이 하단에 위치한 신호광 입력 도파로의 끝부분과 일부 겹쳐지며, 상기 증폭용 광도파로의 끝부분이 하단에 위치한 신호광 출력 도파로의 시작부분과 일부 겹쳐져지고, 또 상기 펌핑광 입력 도파로의 끝부분이 신호광 입력도파로의 중간부분에 연결되어 파장다중화기를 구성하며, 광도로파들은 굴절률을 증가시키거나 광증폭에 기여하는 금속 성분이 용해되어 있는 용액 또는 콜로이드 졸을 다공성 유리막에 함침시켜 형성하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 조성물, 이를 이용한 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 산화이트륨, 산화철, 산화알루미늄을 주성분으로 하고 여기에 산화붕소, 산화비스무스, 산화아연, 산화구리, 산화아연과 산화붕소의 화합물 그리고 산화구리와 산화붕소의 화합물 중에서 한가지를 선택하여 부성분으로 첨가하며, 하기 화학식 1으로 표시함으로써, 상온에서 100~1,800 G의 포화자화와 0.2 %/℃ 이내의 포화자화 온도계수 및 60 0e 이하의 페리자성공명반치폭을 갖는 적당한 포화자화와 평탄한 온도안정성 및 손실특성이 우수한 마이크로파 소자용 자성체 세라믹을 얻을 수 있고, 소결조제의 첨가로인해 적정소결온도를 낮추어줄 수 있으므로 본 발명의 자성체 세라믹을 마이크로파대 아이솔레이터, 서큘레� ��터 및 S/N 인핸서 등의 마이크로파 대역용 부품에 효과적으로 사용될 수 있고, 고가의 산화이트륨과 산화철에 저가의 산화알루미늄, 산화붕소, 산화비스무스, 산화아연, 산화구리, 산화아연과 산화붕소의 화합물, 산화구리와 산화붕소의 화합물을 원료로 사용하므로, 경제적으로 고품위의 마이크로파 소자용 자성체 세라믹을 제공할 수 있는 효과를 갖는다. (화학식 1 : Y 3 Fe 5-x Al x O 12 (여기서, 0≤x≤1.5, 0 2 O 3 ≤5(wt%), 0 2 O 3 ≤5(wt%), 0 2 O 4 ≤5(wt%), 0 2 O 4 ≤5(wt%)이다).
Abstract:
본 발명은 세라믹 구조물 중 볼(Ball)형태의 구형으로 미세하게 연마하는데 관한 것으로, 상세하게 하면 무정형의 세라믹 구조물을 수 mm이하의 미세한 구형태의 세라믹으로 미세 연마하는 장치에 관한 것이다. 본 발명은 중앙에 연결된 구동축에 따라 회전하면서 자신의 상면에 접촉되는 무정형 세라믹 반죽을 연마성형하는 회전부와, 그 회전부 회전판 상향으로 소정 이격거리를 두고 설치되되, 그 회전판의 중앙에 위치하면서 구동축과는 독립적으로 구동하는 타 구동축의 구동에 따라 소정의 회전각으로 좌우 흔들리면서 무정형 세라믹 반죽의 이탈을 방지함과 동시에 그 무정형 세라믹 반죽을 연마하는 시편장착부를 소규모의 공간에 회전부와 함께 구비하여, 회전판과 시편장착부의 회전마찰에 의해 입체적으로 연마성형하여 무정형의 세라믹 반죽을 미세한 구형세라믹으로 연마성형하는 것을 특징으로 하는 세라믹 구조물의 구형 미세 연마장치에 관한 것이다.
Abstract:
Disclosed is a method and apparatus for machining a large structure to a smooth surfaced sphere up to 1mm in diameter simply and conveniently from powder, regardless of the diameter size. Ceramic materials such as alumina, zirconia, garnet magnetic substance, and nickel are formed under pressure into circular or flat plates shape. Thereafter they are cut into cubical shapes and rotated in the cylindrical rotator(100) with frictional materials(101) therein. As they rotate more, sharp corners wear down and they become spherical ceramic structures.
Abstract:
The ceramic composition comprises barium oxide, cerium oxide, lantan oxide and titanium dioxide having the following equations; x(Ba1-alpha= Pbalpha)O-y(ND2O3(1-beta.r)= CeO2(beta)= The ceramic composition comprises barim oxide, lead oxide, niodium La2O3r)-zTiO2(where, 6