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公开(公告)号:CN101676220A
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200910204983.X
申请日:2003-04-25
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: G05D11/132 , B01F3/04496 , B01F5/0603 , B01F5/0606 , B01F2003/04886 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/60 , C01B2201/64 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/40 , G05D11/139 , Y10S134/902 , Y10S261/42
Abstract: 本发明公开了一种用于向超过一个加工设备供应臭氧化水的设备和方法。将来自于臭氧化水发生器的第一浓度臭氧化水与来自于水源的水混合成第二浓度臭氧化水。向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。向第二加工设备供应来自于臭氧化水发生器的臭氧化水,同时向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。
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公开(公告)号:CN101405229A
公开(公告)日:2009-04-08
申请号:CN200780000605.9
申请日:2007-05-21
Applicant: 黛宪志
Inventor: 黛宪志
CPC classification number: C02F1/048 , C01B3/34 , C01B3/36 , C01B3/382 , C01B3/384 , C01B2203/0205 , C01B2203/0233 , C01B2203/0244 , C01B2203/0255 , C01B2203/0405 , C01B2203/046 , C01B2203/0475 , C01B2203/1058 , C01B2203/1235 , C01B2203/1241 , C01B2203/1258 , C01B2203/142 , C01B2203/148 , C02F1/02 , C02F1/04 , C02F1/32 , C02F1/725 , C02F1/78 , C02F2103/003 , C02F2103/005 , C02F2201/782 , C02F2209/02 , C02F2209/42 , C02F2303/02 , C02F2303/04 , C02F2305/10 , Y02P30/30
Abstract: 该废水装置是由贮存需处理的废水槽,与加热由前述的废水槽供给的前述的废水的燃烧釜,与收集在前述的燃烧釜所发生的粉尘的集尘装置与冷却在前述的燃烧釜中发生的蒸气的冷风装置,与分离通过前述的冷风装置冷却的前述的蒸汽分离为液体和气体的气液分离装置与通过前述气液分离装置分离的气体分离的液体进行净化的液体净化装置等所构成。前述的液体净化装置使用白金触媒使之发生臭氧,通过该臭氧将前述的液体进行净化。
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公开(公告)号:CN1938829A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200580010034.8
申请日:2005-03-18
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , C02F1/02 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/36 , C02F1/70 , H01L21/027
CPC classification number: C02F1/78 , B08B3/08 , B08B2203/005 , C01B13/10 , C02F1/02 , C02F1/32 , C02F1/34 , C02F1/36 , C02F1/70 , C02F1/722 , C02F2201/782 , C02F2209/23 , C03C23/0075
Abstract: 一种臭氧水供给方法,其特征在于将具有臭氧分解抑制物质的臭氧水转送到使用点(7),在使用点附近,通过浓度调整机构,将该水的浓度降低到规定的臭氧浓度。一种臭氧水供给装置,其特征在于该臭氧水供给装置包括臭氧溶解装置(4),其将臭氧气体溶解于纯水中,调制臭氧水;将臭氧分解抑制物质供给到上述纯水或上述臭氧水中的机构;臭氧水转送配管(6),该臭氧水转送配管将通过上述臭氧溶解装置调制的臭氧水转送到使用点;浓度调整机构(8),该浓度调整机构设置于使用点附近,将通过臭氧水转送配管转送的臭氧水降低到规定的臭氧浓度。通过本装置,可在半导体、液晶等的电子材料的湿式清洗工序、表面处理工序等中,稳定地将规定的臭氧浓度的臭氧水供向使用点。
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公开(公告)号:CN1284734C
公开(公告)日:2006-11-15
申请号:CN200410043127.8
申请日:2004-05-13
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: C02F1/78 , C02F1/325 , C02F2101/30 , C02F2201/3223 , C02F2201/782 , C02F2303/26
Abstract: 一种水处理装置,可以将氧化剂高速而且高效率地溶解在被处理水中,以高分解率处理处理对象物质。该水处理装置包括紫外线照射部30和氧化剂混合部60,其中紫外线照射部30形成长管状,容纳沿轴线延伸的紫外线照射装置10,使内周面1a和紫外线照射装置10的空间流通被处理水4;氧化剂混合部60与紫外线照射部30的上游邻接设置,使被处理水4与氧化剂混合;紫外线照射装置10向混合有氧化剂的被处理水4照射紫外线,使被处理水4中的处理对象物质分解。
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公开(公告)号:CN1229281C
公开(公告)日:2005-11-30
申请号:CN03103825.5
申请日:2003-02-12
Applicant: 沃尔夫冈·维特
Inventor: 沃尔夫冈·维特
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/32 , C02F1/78 , C02F9/00 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2201/782 , C02F2201/784 , C02F2209/40 , C02F2303/04
Abstract: 用于借助于紫外线进行水消毒的设备,它包括一供水流过的石英玻璃管,和一围绕石英玻璃管并构成一箱的壳体,在该壳体内安装有一个或多个UV辐射器,其中,该设备具有通水用的包括截止阀(22、23)的旁路管道(20、21),以便在截止阀(22、23)和用于流入和排出管道(24、25)中的主截止阀(26、27)的相应操作时,减少水在石英玻璃管(2)内的流量或转换水的流动方向,并从而实现装在石英玻璃管(2)中的通过水流可沿石英玻璃管(2)移动的塞子(36)的来回移动;净化塞子(36)包括一隔断水流量的部件(50)和至少一个沿石英玻璃管(2)的内表面擦过的净化刷子和/或净化凸缘(37)。
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公开(公告)号:CN1636640A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410101725.6
申请日:1997-03-27
Applicant: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
IPC: B08B3/08
CPC classification number: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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公开(公告)号:CN1196178C
公开(公告)日:2005-04-06
申请号:CN98810556.X
申请日:1998-10-27
Applicant: FSI国际公司
Inventor: 史蒂文·L·纳尔逊 , 库尔特·K·克里斯坦森
CPC classification number: C02F1/78 , B08B3/02 , C02F2201/782 , Y10S134/902 , Y10S210/90 , Y10S261/42 , Y10S261/65
Abstract: 本发明提供一种处理物体的方法,包括以下步骤:将至少一个待处理的物体放置于一个容器中;提供一种含有溶解于含水液体中的臭氧的混合物,所述混合物是通过包括将臭氧加压溶解于一含水液体中的步骤的方法而制备的;以及将所述的混合物喷射到用于处理待处理物体的容器中。
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公开(公告)号:CN1168674C
公开(公告)日:2004-09-29
申请号:CN99816116.0
申请日:1999-12-15
Applicant: 林恩技术公司
Inventor: 克雷格·C·安德鲁斯 , 奥利弗·墨菲
CPC classification number: C25B9/08 , C02F1/283 , C02F1/44 , C02F1/4672 , C02F1/78 , C02F2001/46142 , C02F2201/46155 , C02F2201/782 , C02F2303/04 , C02F2303/18 , C25B1/13 , Y02W10/37
Abstract: 本发明提供了电化学制备臭氧以供使用者现场使用。本发明的电化学臭氧发生器或系统可以用于提供消过毒的水、含臭氧的水和/或臭氧气体。通过将臭氧气体通入饮用水源或净化的水源中进行消毒或控制水源中的微生物可以制得消过毒的水。臭氧化的水或臭氧气体可以被制备并提供给消费者用于各种防微生物和清洁用途中,如洗食物、衣物、盘子、厨台、玩具、水槽、浴室地面等。此外,臭氧发生器可以用于输送含臭氧的水流用于工厂或居室的现场使用以对医疗设备和医疗器械洗涤、消毒、和杀菌。例如,含臭氧的水可以直接使用或用作浓缩的消毒剂以用于医疗器械及设备的洗涤、消毒和杀菌。臭氧还可用在前面所述的许多实施例中,同样可用于空气的除臭和其它各种用途。本发明使电化学臭氧发生器在几乎或完全无源的方式下进行而且设计简单。
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公开(公告)号:CN1500066A
公开(公告)日:2004-05-26
申请号:CN01821567.X
申请日:2001-11-21
Applicant: 极光有限公司
Inventor: 韦恩·E·康拉德
IPC: C01B13/11
CPC classification number: C02F9/005 , C01B13/11 , C01B2201/14 , C01B2201/22 , C01B2201/32 , C02F1/001 , C02F1/003 , C02F1/283 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/03 , C02F2209/04 , C02F2209/38 , C02F2209/40 , C02F2209/44 , C02F2307/04 , Y02W10/37
Abstract: 一种臭氧发生器,具有一绝缘部件、相对的第一及第二端盖件、位于高压电极与接地面之间且位于所述绝缘部件内部的气体通道,以及延伸于该相对端盖之间的至少一个固定件,由此,该固定件将端盖保持在适当位置。
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公开(公告)号:CN1148267C
公开(公告)日:2004-05-05
申请号:CN97101959.2
申请日:1997-03-27
Applicant: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
CPC classification number: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
Abstract: 含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含氢的水混合制成。这些含水清洁溶液中的每一种溶液都具有有效的清洁能力,其氧化还原电位(ORP)和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,选择相应的含水清洁溶液,利用一种形式的含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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