Micro device manufacturing
    112.
    发明专利
    Micro device manufacturing 审中-公开
    空值

    公开(公告)号:JP2011511432A

    公开(公告)日:2011-04-07

    申请号:JP2010541571

    申请日:2009-01-02

    Abstract: 特定の実施形態に従った、エネルギー源と、少なくとも1つの共役マスクと、拡大デバイスと、加工材料とを備える、システムであって、少なくとも1つの共役マスクは、エネルギー源と拡大デバイスとの間に配置され、加工材料は、拡大デバイスに動作可能に配置される、システム。 他の実施形態に従った、上記のようなシステムを採用する方法および組成物。 上記エネルギー源は、レーザであり得る。 上記少なくとも1つの共役マスクは、静的マスクであり得る。 上記少なくとも1つの共役マスクは、動的マスクであり得る。 上記少なくとも1つの共役マスクは、反射性であるか、または透過性であるか、あるいは両方の性質であり得る。

    Abstract translation: 根据某些实施例,包括能量源的系统; 至少一个共轭掩模; 放大装置; 和制造材料; 其中所述至少一个共轭掩模设置在所述能量源和所述放大装置之间; 并且其中所述制造材料设置成可操作于所述放大装置。 根据其他实施例,采用这种系统的方法和组合。

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