公开(公告)号：KR1020100124627A

公开(公告)日：2010-11-29

申请号：KR1020090043736

申请日：2009-05-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수 ,  박흥준 ,  주성태 ,  김민하 ,  양동헌

IPC: A47L9/18

CPC classification number: A47L9/182 ,  A47L9/1608 ,  A47L9/1625 ,  A47L9/1641 ,  A47L9/165 ,  A47L9/1666 ,  A47L9/1683 ,  A47L9/187 ,  A47L9/18 ,  A47L9/00

Abstract: PURPOSE: A wet type dust collecting apparatus for a vacuum cleaner is provided to enhance user convenience by filling water in a dust collecting region. CONSTITUTION: A wet type dust collecting apparatus(1) for a vacuum cleaner comprises a dust box, a sealing member(220), a dust box cover(200), a chamber, and a dust box water distribution path unit(320). The dust box connects at least two ducts collection regions to water inflow holes, and the sealing member is connected to at least one of the water inflow holes. The chamber is formed at each bottom plane of the dust collecting region to allow the connection with the water inflow holes.

Abstract translation: 目的：提供一种用于真空吸尘器的湿式粉尘收集装置，以通过将灰尘填充到集尘区域来增强使用者的便利性。 构成：用于真空吸尘器的湿式集尘装置（1）包括一个集尘盒，一个密封件（220），一个集尘盒盖（200），一个室和一个集尘盒水分配路径单元（320）。 集尘箱将至少两个管道收集区域连接到水流入孔，并且密封构件连接到至少一个水流入孔。 该室形成在集尘区域的每个底面，以允许与水流入孔的连接。

公开(公告)号：KR1020070088970A

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：KR1020060018904

申请日：2006-02-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: H01L21/304

Abstract: A deionized water supply system and method are provided to compensate automatically deionized water for deficiency in a storage and to monitor exactly the amount of the deionized water in the storage and a supply state of the deionized water. A deionized water supply system(100) is used for supplying a deionized water to semiconductor manufacturing equipment. The deionized water supply system includes a storage, a first supply line, a second supply line, a measurement member, and a control unit. The storage(112) has a predetermined space capable of storing the deionized water. The first supply line(115) is used for supplying the deionized water from a deionized water supply source to the storage. A pump(115b) and a valve(115a) are installed on the first supply line. The second supply line(114) is used for supplying the deionized water from the storage to the semiconductor manufacturing equipment. The measurement member is used for measuring the amount of the deionized water in the storage. The control unit(120) is used for controlling the pump and valve according to the results of the measurement member.

Abstract translation: 提供了一种去离子水供应系统和方法，以自动补偿去离子水在储存中的缺陷，并精确地监测存储器中去离子水的量和去离子水的供应状态。 去离子水供应系统（100）用于向半导体制造设备供应去离子水。 去离子水供给系统包括储存器，第一供应管线，第二供应管线，测量构件和控制单元。 储存器（112）具有能够存储去离子水的预定空间。 第一供应管线（115）用于将去离子水从去离子水供应源供应到储存器。 泵（115b）和阀（115a）安装在第一供应管线上。 第二供应管线（114）用于从存储器向半导体制造设备供应去离子水。 测量构件用于测量存储器中去离子水的量。 控制单元（120）用于根据测量构件的结果控制泵和阀。

公开(公告)号：KR100693924B1

公开(公告)日：2007-03-12

申请号：KR1020050008427

申请日：2005-01-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: G06F9/24

CPC classification number: G06F9/4406

Abstract: 중앙 처리 장치 코어, 중앙 처리 장치 코어에 연결된 시스템 버스, 중앙 처리 장치 코어에 시스템 버스를 통하여 연결된 메인 메모리 장치, 중앙 처리 장치 코어에 시스템 버스를 통하여 연결된 부트 로더 메모리 장치, 부트 로더 프로그램을 저장하는 제 1 외부 메모리 장치, 제 1 외부 메모리 장치에 저장된 부트 로더 프로그램을 부트 로더 메모리 장치로 옮기고, 중앙 처리 장치 코어가 부트 로터 프로그램을 실행할 수 있도록 하는 부트 로직부, 운영 체계 및 어플리케이션 프로그램의 코드와 데이터를 저장하는 제 2 외부 메모리 장치, 및 부트 로더 프로그램에 의해서 제어되어, 운영 체계 및 어플리케이션 프로그램의 코드와 데이터를 제 2 외부 메모리 장치로부터 메인 메모리 장치로 옮기는 외부 인터페이스 유닛을 포함하여 컴퓨터 시스템의 부팅 시스템을 구성한다. 따라서, 컴퓨터 시스템의 부팅 속도를 향상시키고, 시스템 온 칩의 입출력 핀 수 및 전력 소모를 절감시키는 효과를 가져올 수 있다.

公开(公告)号：KR100673009B1

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020050070325

申请日：2005-08-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/30433

Abstract: A beam profiler center measuring apparatus, an ion implanter using the same and a method thereof are provided to obtain exact data on a center position of a beam profiler and to prevent the generation of scratches on a platen by using a laser beam. An ion implanter(200) includes a platen(202) for supporting a wafer, a tilt mechanism(210) for controlling the tilt of the platen, a beam profiler(204) for detecting the direction of an ion beam, and a beam profiler center measuring apparatus. The beam profiler center measuring apparatus(100) is used for measuring exactly a center position of the beam profiler. The beam profiler center measuring apparatus includes a body unit for being attached/detached to/from the beam profiler and a light emitting unit for irradiating a laser beam to a center portion of the beam profiler. A lower surface of the light emitting unit and one side of the tilt mechanism are vertically arranged with each other.

Abstract translation: 提供了一种光束轮廓仪中心测量装置，使用其的离子注入机及其方法，以获得光束轮廓仪的中心位置的精确数据，并且通过使用激光束来防止在压板上产生划痕。 离子注入机（200）包括用于支撑晶片的压板（202），用于控制压板倾斜的倾斜机构（210），用于检测离子束方向的光束轮廓仪（204） 中心测量仪器。 光束轮廓仪中心测量装置（100）用于精确地测量光束轮廓仪的中心位置。 光束轮廓仪中心测量装置包括用于从光束轮廓仪附接/分离的主体单元和用于将激光束照射到光束轮廓仪的中心部分的发光单元。 发光单元的下表面和倾斜机构的一侧彼此垂直地布置。

公开(公告)号：KR1020070008960A

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：KR1020050063565

申请日：2005-07-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4412 ,  H01L21/67017

Abstract: An apparatus for controlling opening and closing of a gear valve is provided to prevent contaminants from being generated on the inner wall of a control gate or a body in contact with the control gate by forming a dummy control gate which protrudes from a side of the control gate in a direction exposed to reaction gas flowing backward through the body so as to be transferred in parallel with the control gate. A body(130) has an inlet(128) and a plurality of exhaust holes(129). Air with predetermined pressure is introduced into the inlet. The plurality of exhaust holes are ramified into both sides of the body so that the air introduced through the inlet is selectively exhausted. A control power generating part(132) generates power for controlling the air from the inlet to the exhaust holes, formed on the lateral surface of the body. A plurality of control gates(134) block the sectional surface of the inner wall of the body to intercept the flow of the air, exclusively operated in a manner that the air can flow through a selected exhaust hole among the plurality of exhaust holes. A plurality of dummy control gates(136) comes in contact with the inner wall of the body in a direction which is the same as or similar to the plurality of control gates so as to prevent the control gate from being contaminated by contaminants flowing backward through the exhaust hole, protruding from the plurality of control gates.

Abstract translation: 提供了一种用于控制齿轮阀的打开和关闭的装置，用于通过形成从控制器侧面突出的虚拟控制门来防止在与控制门接触的控制门或主体的内壁上产生污染物 在暴露于反应气体的方向上向后流过本体的方向的闸门，以便与控制门并行传送。 主体（130）具有入口（128）和多个排气孔（129）。 具有预定压力的空气被引入入口。 多个排气孔分散到主体的两侧，使得通过入口引入的空气被选择性地排出。 控制发电部分（132）产生用于控制形成在主体侧表面上的从入口到排气孔的空气的电力。 多个控制门（134）阻挡主体的内壁的截面以截取空气流，专门以空气能够流过多个排气孔中的选定的排气孔的方式操作。 多个虚拟控制栅极（136）以与多个控制栅极相同或类似的方向与主体的内壁接触，以防止控制门被污染物向后流过 所述排气孔从所述多个控制门突出。

公开(公告)号：KR1020060006555A

公开(公告)日：2006-01-19

申请号：KR1020040055640

申请日：2004-07-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: H01L21/265

Abstract: 본 발명은 이온 주입 설비의 쇼트 방지를 위한 필라멘트 구조에 관한 것이다. 본 발명의 필라멘트는 필라멘트 레그와 코일부의 간격이 좁아서 발생되는 쇼트 현상을 방지하기 위하여 필라멘트 레그와 코일부의 굴곡된 부분의 간격을 일정 크기로 유지시킨다. 따라서 본 발명에 의하면, 필라멘트 레그와 코일부의 쇼트 현상을 방지함으로써, 필라멘트 수명을 연장시키며 이에 따른 예방 정비 시간을 감소시킬 수 있다.
이온 주입 설비, 필라멘트, 갭, 버나스 타입, 예방 정비, 수명

公开(公告)号：KR1020020048118A

公开(公告)日：2002-06-22

申请号：KR1020000077408

申请日：2000-12-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A regeneration method of alignment keys of semiconductor devices is provided to simplify an alignment key regenerating processes by simply regenerating buried alignment keys through one-step photolithography. CONSTITUTION: A first buried material layer(44) is filled into a first alignment key(42) on a substrate(40). Then, a first material layer(46) having a second alignment key(48) filled with a second buried material layer is formed on the resultant structure. Then, a photoresist pattern(52) is formed to expose the defined portion of the first material layer(46). The exposed first material layer(46) is etched by one-step photolithography using the photoresist pattern(52) as an etch mask. Then, the photoresist pattern(52) is completely removed.

Abstract translation: 目的：提供半导体器件的对准键的再生方法，以通过简单地通过一步光刻再生埋入对准键来简化对准键再生过程。 构成：第一掩埋材料层（44）被填充到衬底（40）上的第一对准键（42）中。 然后，在所得到的结构上形成具有填充有第二掩埋材料层的第二对准键（48）的第一材料层（46）。 然后，形成光致抗蚀剂图案（52）以露出第一材料层（46）的限定部分。 通过使用光致抗蚀剂图案（52）作为蚀刻掩模，通过一步光刻蚀刻暴露的第一材料层（46）。 然后，光致抗蚀剂图案（52）被完全去除。

公开(公告)号：KR100246759B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019970025686

申请日：1997-06-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한종희 ,  박정수

IPC: H04N7/035

Abstract: 가. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야:
텔레비젼 시스템
나. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제:
한국방송 프로그램서비스 모듈을 내장한 텔레비젼에서 바로K 방송 서비스를 이용하여 시간을 자동설정한다.
다. 그 발명의 해결방법의 요지:
본 발명은, 텔레비젼 정규방송 시간대에 텔레비젼에 내장된 한국방송 프로그램서비스 모듈로부터 바로K 방송 서비스 정보내 시간데이터를 읽어 시스템 시간을 자동으로 설정한다.
라. 발명의 중요한 용도:
KBPS(Korea Broadcasting Program Service)모듈 내장 텔레비젼

公开(公告)号：KR100195454B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960015425

申请日：1996-05-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: D06F37/24

Abstract: 본 발명은 세탁기에 관한 것으로서, 본 발명의 목적은 탈수초기에 발생하는 과도 진동과 정상진동을 함께 효과적으로 감쇠시키도록 감쇠력이 가변되는 세탁기의 진동 감쇠장치를 제공하는데 있다.
본 발명에 따른 세탁기에 안내봉(20)을 따라 승강하는 승강부재(21)와, 수조(11)에서 연장되어 나온 마찰판(30)과 마찰하는 마찰부재(23)를 설치하고, 마찰부재(23)는 볼조인트구조로 승강부재(21)에 결합시킨다.
따라서, 탈수 초기에 발생되는 상하좌우로 일어나는 과도진동을 쉽게 감쇠시키면서 억제하여 세탁기의 전체적인 소음을 저감시키며, 어느 정도 탈수 행정이 진행될 때의 정상진동도 함께 효과적으로 감쇠시킬 수 있는 이점이 있다. 또한, 이러한 진동을 효과적으로 감쇠시킴으로 세탁기에 무리가 가는 것을 방지하는 이점이 있다.

公开(公告)号：KR200118801Y1

公开(公告)日：1998-08-17

申请号：KR2019940008803

申请日：1994-04-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정수

IPC: D06F37/40

Abstract: 본 고안은 전자동세탁기의 탈수행정시 브레이크 밴드와 케이스드럼의 접촉은 방지하여 관련부품의 마모와 소음을 방지하도록 함과 동시에 세탁행정시 브레이크의 제동력을 좋게 하도록 한 것으로, 이는 케이스드럼의 외주연에 구비되어 솔레노이드 의해 케이스드럼을 제동 또는 해지하는 브레이크 밴드와, 상기 브레이크 밴드를 감싸는 식으로 구비되는 캡부재의 외주연에 내측면으로 일정간격만큼 돌출성형되어 이완되는 브레이크 밴드를 교정하는 다수의 걸림턱을 갖춘 구성이다.