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公开(公告)号：CN108529874B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN201810181809.7
申请日：2018-03-01
Applicant: HOYA株式会社
IPC: C03C3/247
Abstract: 本发明提供一种光学玻璃及光学元件，上述光学玻璃中，P5+的含量为3～45阳离子％，Al3+的含量为5～40阳离子％，包含选自Ti4+、Nb5+及W6+中的成分的至少一种，Y3+、Gd3+、La3+、Yb3+、Lu3+及Ba2+的合计含量为35阳离子％以下，O2‑的含量为5～85阴离子％，F‑的含量为15～95阴离子％，O2‑的含量相对于P5+的含量的摩尔比O2‑/P5+为3.33以上。
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公开(公告)号：CN114918743A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210574389.5
申请日：2018-12-20
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及圆盘状玻璃基板及其制造方法、薄板玻璃基板的制造方法和导光板的制造方法，圆盘状玻璃基板的制造方法是用于制造用于切割出1个或2个以上的薄板玻璃基板的圆盘状玻璃基板的方法。圆盘状玻璃基板的制造方法包括：准备作为具有圆形的2个主表面的玻璃坯板的圆盘状玻璃坯板(步骤S1)；对圆盘状玻璃坯板的2个主表面各自的外缘部进行倒角(步骤S2)；利用双面磨削装置对倒角后的圆盘状玻璃坯板的2个主表面进行磨削(步骤S3)；利用双面研磨装置对磨削后的圆盘状玻璃坯板的2个主表面进行研磨(步骤S4)。
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公开(公告)号：CN110372203B
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN201910294313.5
申请日：2019-04-12
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 桑谷俊伍
Abstract: 本发明提供一种光学玻璃和光学元件，上述光学玻璃具有期望的光学常数且比重较小，上述光学元件包含上述光学玻璃。一种光学玻璃，阿贝数νd为35～39，B2O3的含量为12～26质量％，La2O3的含量为29～46质量％，ZnO的含量为18～28质量％，SiO2的含量超过0质量％且为10质量％以下，TiO2的含量超过0质量％且为12质量％以下，ZrO2的含量超过0质量％且为4.85质量％以下，Gd2O3的含量为0～5质量％，CaO的含量为0～12质量％，Ta2O5的含量为0～2.5质量％，Y2O3的含量为0～5质量％，Nb2O5和WO3的合计含量[Nb2O5+WO3]为0～6质量％。
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公开(公告)号：CN114890668A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210426006.X
申请日：2018-08-01
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 盐田勇树
Abstract: 本发明提供耐酸性和耐候性优异的光学玻璃及光学元件。一种光学玻璃，是包含选自Li+、Na+及K+中的1种以上碱金属离子且包含P5+、B3+及Ba2+作为阳离子成分的磷酸盐玻璃，Al3+、Ln3+、Ti4+、Zr4+、Nb5+、Ta5+、Bi3+及W6+的合计含量[Al3++Ln3++Ti4++Zr4++Nb5++Ta5++Bi3++W6+]为10阳离子％以上(其中，Ln3+表示La3+、Gd3+、Y3+、Yb3+及Lu3+的合计含量[La3++Gd3++Y3++Yb3++Lu3+]。)，P5+和B3+的合计含量[P5++B3+]为30～50阳离子％，P5+的含量与P5+和B3+的合计含量的阳离子比[P5+/(P5++B3+)]为0.50以上且0.84以下，Li+、Na+及K+的合计含量[Li++Na++K+]为5阳离子％以上，Ba2+的含量为5阳离子％以上，Mg2+、Ca2+、Sr2+及Ba2+的合计含量[Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+]为10阳离子％以上，阿贝数νd为40以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109725487B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201811274621.3
申请日：2018-10-30
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 早瀬三千彦
IPC: G03F1/70
Abstract: 本发明提供图案描绘方法、光掩模和显示装置用器件的制造方法。将具有符合设计的CD精度的图案转印在被转印体上。本发明提供图案描绘方法及其关联技术，通过根据规定的设计图案数据在光掩模基板上进行描绘而形成用于制造显示装置用器件的具有转印用图案的光掩模，其中，该图案描绘方法包含以下工序：束强度校正映射图形成工序，使用在光掩模基板上利用能量束进行描绘的描绘装置，在由于显示装置用器件的制造工序而产生针对设计值的CD错误时，根据预先掌握的包含CD错误的位置和错误量的、CD错误的产生倾向信息，形成用于校正CD错误的束强度校正映射图；以及描绘工序，将设计图案数据与束强度校正映射图一起使用，用描绘装置进行描绘。
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公开(公告)号：CN109923083B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201780069628.9
申请日：2017-11-14
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 提供一种磁记录介质基板用玻璃，其为非晶态的氧化物玻璃，该非晶态的氧化物玻璃中，以摩尔％表示，SiO2含量为45～68％、Al2O3含量为5～20％、SiO2与Al2O3的总含量为60～80％、B2O3含量为0～5％、MgO含量为3～28％、CaO含量为0～18％、BaO和SrO的总含量为0～2％、碱土金属氧化物的总含量为12～30％、碱金属氧化物的总含量为3.5～15％，包含选自Sn氧化物和Ce氧化物组成的组中的至少一种，Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.05～2.00％，该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为625℃以上、杨氏模量为83GPa以上、比重为2.85以下、且100～300℃的平均线性膨胀系数为48×10‑7/℃以上。
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公开(公告)号：CN114751627A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210008582.2
申请日：2022-01-05
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: [课题]提供一种弹性的温度依赖性小的光学元件成型用玻璃制成型模具和光学元件的制造方法。[解决手段]一种光学元件成型用的玻璃制成型模具。上述玻璃为铝硅酸盐玻璃，在上述玻璃的摩尔％表示的玻璃组成中，SiO2与Al2O3的总含量为60％以上并且Li2O、Na2O和K2O的总含量相对于MgO含量的摩尔比(Li2O+Na2O+K2O)/MgO为0.000～0.400的范围。
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公开(公告)号：CN110007555B
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN201811530914.3
申请日：2018-12-14
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 金谷健一
IPC: G03F1/76
Abstract: 本发明涉及图案描绘方法、光掩模的制造方法、光掩模、以及显示装置的制造方法。降低图案CD的变动，得到稳定的成品率。图案描绘方法包括：校正工序，依据预先求出的校正值来校正设计图案数据，从而得到校正图案数据，该校正值以使通过对光掩模进行曝光而在被转印体上得到的孔/点图案的CD与目标值相等的方式求出；以及描绘工序，应用校正图案数据，利用描绘装置来进行描绘。描绘装置在与光掩模基板面平行的面内，在X方向和与X方向垂直的Y方向上通过CD控制精度不同的驱动方式被驱动。在校正工序中，通过在设计图案数据中对孔/点图案的CD进行如下校正而得到校正图案数据，在该校正中，使在X方向和Y方向中的CD控制精度较高的方向上的CD变更。
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公开(公告)号：CN111065315B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201880056338.5
申请日：2018-10-24
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 牧野贵雄
Abstract: 电子内窥镜用处理器具备增强处理部，其用于对活组织的摄像图像进行增强处理。所述增强处理部具备：深度数据生成部，该深度数据生成部生成表示各像素中的活组织的凹部的深度的信息的数据值，由此生成摄像图像整体的深度数据D；起伏增强数据生成部，该起伏增强数据生成部被配置为根据所述深度数据D，生成具有使活组织的表面凹凸的凹部和凸部的边界中的信号电平值的变化急剧倾斜的信息的起伏增强数据S的值；以及增强处理执行部，该增强处理执行部对于要进行所述摄像图像的增强处理的处理对象像素的信号电平值，至少相加或减去所述处理对象像素中的所述深度数据D的值常数倍后所得的值以及所述处理对象像素中的所述起伏增强数据S的值常数倍后所得的值，并生成增强处理图像。
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