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公开(公告)号：JP6694817B2
公开(公告)日：2020-05-20
申请号：JP2016540674
申请日：2014-12-17
Applicant: プランゼー エスエー
Inventor： カトライン、マーティン , オサリヴァン、ミヒァエル
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公开(公告)号：JP6565293B2
公开(公告)日：2019-08-28
申请号：JP2015083945
申请日：2015-04-16
Applicant: 東洋製罐グループホールディングス株式会社
IPC: B05B15/522 , B05B1/14 , B05D1/10 , B05B7/16
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公开(公告)号：JP2018140913A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017037445
申请日：2017-02-28
Applicant: 国立大学法人長岡技術科学大学 , 中部キレスト株式会社 , キレスト株式会社
Abstract: 【課題】酸化ケイ素基材上に酸化イットリウム膜が形成された複合材料の製造方法であって、緻密性および透明性が高く、酸化ケイ素基材との密着性に優れた酸化イットリウム膜を容易に形成することができる方法を提供する。 【解決手段】酸化ケイ素基材上に酸化イットリウム膜が形成された複合材料の製造方法であって、非気化性のイットリウムキレート錯体粒子を熱流体中に導入し酸化ケイ素基材に当てることにより、前記基材上に酸化イットリウム膜を形成する工程を有する。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2018040017A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2015098632
申请日：2015-05-13
Applicant: エリコンメテコジャパン株式会社
CPC classification number: C23C4/10 , B82Y30/00 , C04B35/01 , C04B35/111 , C04B35/486 , C04B35/505 , C04B35/553 , C04B35/56 , C04B35/58 , C04B35/62222 , C04B2235/3206 , C04B2235/3208 , C04B2235/3213 , C04B2235/3217 , C04B2235/322 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3246 , C04B2235/3251 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3262 , C04B2235/3418 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C04B2235/5472 , C09D1/00 , C09D5/031 , C09D7/68 , C09D7/69 , C23C4/04 , C23C4/129 , C23C4/134
Abstract: 【課題】粉末の供給量の変動や脈動、或いは、低下を防止し、所要の成膜速度を達成して、被溶射基材表面によりち密なコーティングを得ることのできる溶射用粉末、溶射方法及び溶射皮膜を提供する。 【解決手段】溶射用粉末1は、粒子径D 1 のセラミック粉末Aと、粒子径D 2 のセラミック粉末Bとを混合して得られる粉末混合物であって、D 1 がメディアン径で0.5〜12μmであり、D 2 がBET比表面積より換算される平均粒子径で0.003〜0.100μmであり、粉末混合物中における、使用する所定の粒子径D 1 を有したセラミック粉末Aの全重量をW 1 とし、該セラミック粉末Aに添加されるセラミック粉末Bの全重量をW 2 としたとき、下記式Y=W 2 /(W 1 +W 2 )で表わされるセラミック粉末Bの添加率Yが、Y=0.2066×D 1 -0.751 以上であって、Y=0.505×D 1 -0.163 以下である。 【選択図】図4
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018021247A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2016154913
申请日：2016-08-05
Applicant: 独立行政法人国立高等専門学校機構 , 株式会社ミウラセンサー研究所
Abstract: 【課題】電子機能要素の導電性のさらなる向上を図りながら、基板の上に当該電子機能要素を形成する方法を提供する。 【解決手段】本発明の電子機能要素形成方法によれば、基板6の指定箇所に対して金属粒子と還元剤粒子との混合粒子を噴射する「第1工程」と、基板6の指定箇所に対してレーザービームを照射する「第2工程」と、基板6を振動させる「加振工程」と、が並行して実行される。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2017508870A
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：JP2016540674
申请日：2014-12-17
Applicant: プランゼー エスエー , プランゼー エスエー
Inventor： カトライン、マーティン , オサリヴァン、ミヒァエル
IPC: B22F1/00 , B05D1/10 , B05D1/12 , B05D7/24 , B22F9/22 , C09D1/00 , C22C27/06 , C23C4/073 , C23C4/08 , C23C4/129 , C23C24/04
CPC classification number: C22C27/06 , B22F1/0003 , B22F1/0011 , B22F1/0096 , B22F9/22 , B22F2301/20 , B22F2998/10 , C22C19/058 , C23C4/073 , C23C4/11 , C23C4/129 , C23C24/04 , C23C24/087 , B22F2201/013 , B22F2201/02
Abstract: 本発明は、Cr含有粒子を形成するCr含有量95質量%超のCr豊富な領域を含有する塗装材料に関する。これらの粒子の少なくとも一部は、凝結塊又は凝集塊の形態で存在し、少なくとも一部は、細孔を有し、且つ、Cr豊富な領域において、4GPaを超える平均ナノハードネスHIT 0.005/5/1/5及び/又はBET法で測定して0.05m2/gを超える平均表面積を有する。この塗装材料は、特に、コールドガススプレー法に適している。本発明は、更に、塗料の製造法及びこの方法を用いて製造された塗料に関する。【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2016203041A
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：JP2015083945
申请日：2015-04-16
Applicant: 東洋製罐グループホールディングス株式会社
Abstract: 【課題】ライン全体の効率を低下させることなく、正確に効率よく溶射することができる溶射装置及び溶射方法を提供すること。 【解決手段】溶射本体部110と先端ノズル120とを有し粉体を溶射する溶射装置100であって、先端ノズル120が溶射本体部110と分離可能に構成され、先端ノズル120を溶射位置Yと待機位置Wに移動させるノズル移動機構130を有すること。 【選択図】図1
Abstract translation: 甲而不降低整体效率线，以提供一个喷射设备和喷涂能够准确且有效地喷涂法。 A和喷射主体部分110和远端喷嘴120以喷雾装置100用于喷射粉末，尖端喷嘴120被配置成从喷雾主体部分110，远端喷嘴120喷射位置Y可分离 具有喷嘴移动机构130移动到待机位置W和。 点域1
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公开(公告)号：JP2016528033A
公开(公告)日：2016-09-15
申请号：JP2016525286
申请日：2014-07-10
Applicant: ぺムヴィックス コーポレーションFemvix Corp. , ぺムヴィックス コーポレーションFemvix Corp. , キム、オク リュルKIM,Ok Ryul , キム、オク リュルKIM,Ok Ryul , キム、オク ミンKIM,Ok Min , キム、オク ミンKIM,Ok Min
Abstract: 本発明は、真空状態のコーティングチャンバ内に配置された基材に、固相パウダーを噴射コ−トする装置及び方法に関し、より詳しくは、大気圧状態の気体を吸入した吸入気体と、気体供給装置から供給された供給気体とを、一緒に前記固相パウダーの輸送気体として用いるように構成された固相パウダーコーティング装置及び方法に関する。本発明は、固相パウダー4の輸送路を提供する輸送管10と、気体供給装置20から供給する供給気体の流路となる気体供給管15と、前記輸送管10または気体供給管15の末端に結合された噴射ノズル30と、前記噴射ノズル30を収容するコーティングチャンバ40と、大気圧状態が維持される環境で収容された固相パウダー4を、前記輸送管10に供給する固相パウダー供給部(図示せず)と、前記コーティングチャンバ40の内部圧力を調節する圧力調節装置50と、を備え、前記圧力調節装置50の駆動で形成された前記コーティングチャンバ40の負圧により、大気圧状態の気体が前記輸送管10に吸入され、吸入気体1と供給気体2が一緒に固相パウダー4の輸送気体3として作用し、前記輸送管10と気体供給管15は、それぞれ第1区間10a、15a、第2区間10b、15b、及び第3区間10c、15cが、順次連続しているが、前記第1区間10a、15a乃至第3区間10c、15cの直径の条件が、1)条件(第1区間=第2区間=第3区間)、2)条件(第1区間≧第3区間≧第2区間)、及び3)条件(第3区間≧第1区間≧第2区間)のいずれか一つを満たすことを特徴とする固相パウダーコーティング装置を提供する。【選択図】図1
Abstract translation: 本发明中，设置在真空状态下的涂覆室中的衬底，所述注射合固相粉末 - 涉及用于DOO的设备和方法，更具体地说，大气压力的吸入气体的吸入气体中，气体供给 从该装置中，用作固相粉末一起输送气体的相关结构的固相粉末涂敷设备和方法提供的供给气体。 本发明包括一个输送管10，以提供固体粉末4中，作为从气体供给装置20，输送管10或气体供给管15的端部供给的供给气体的流路的气体供给管15的输送路径 和喷射喷嘴30，其耦合到，其容纳的喷射喷嘴30，容纳在其中的大气压力状态被保持的环境中的固相粉末4中的涂覆室40中，固体粉末进料供给到输送管10 部分（未示出），用于调节所述涂覆室40的内部压力的压力调节器50，包括通过由压力调节的驱动装置50，大气压力形成的涂层室40的负压 该气体被吸入到输送管10中，吸入气体1和在固相粉末4中的进料气体2作为输送气体3一起，输送管道10和气体供给管15，分别为第一部分10a， 如图15A所示，第二部分10b，15b和第三部分10c，15c的 还有，虽然连续，第一部分10a，15a至第三部分10c，所述条件15C的直径，1）条件（第一周期=第二间隔=第三段），2）的条件（ 第一部分≧第三区段≧第二部分），和3）提供特征在于，满足（第一周期≧第二间隔的条件的任何一个第三部分≧固体粉末涂敷设备） 。 点域1
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公开(公告)号：JP5881605B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2012524543
申请日：2011-07-11
Applicant: 株式会社東芝 , 東芝マテリアル株式会社
CPC classification number: C23C4/08 , B22F1/0014 , B22F2998/00 , B22F2999/00
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