半导体衬底的制造方法
    136.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102231368A

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:CN201110193390.5

    申请日:2008-03-26

    Abstract: 本发明提供一种半导体衬底的制造方法,可以高生产率且高成品率地在大面积衬底上制造高性能的半导体元件及集成电路。当从单晶半导体衬底(键合片)转置单晶半导体层时,通过对单晶半导体衬底选择性地进行蚀刻(也称为形成槽的加工)来形成分成为多个的单晶半导体层,然后将该多个单晶半导体层转置到异种衬底(支撑衬底),该单晶半导体层的尺寸是所制造的半导体元件的尺寸。因此,可以在支撑衬底上形成多个岛状单晶半导体层(SOI层)。

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