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公开(公告)号：CN107848836B
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201680041114.8
申请日：2016-07-14
Applicant: M技术株式会社
IPC: C01G49/08 , C01B13/32 , C01F17/235 , C01G49/06
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够提高氧化物颗粒的结晶度，尤其能够稳定获得单晶氧化物颗粒的制造方法。其具备包含第一流体和第二流体的至少两种被处理流体，第一流体和第二流体中的一种至少是使氧化物颗粒原料混合于溶剂中的氧化物原料液，另一种至少是使碱性物质混合于溶剂中的氧化物析出溶剂，第一流体和第二流体在互相对置配设的能够接近和远离的相对旋转的处理用面间混合，使析出氧化物颗粒的混合流体从所述处理用面间排出。从由导入所述处理用面间的第一流体的温度、导入所述处理用面间的第二流体的温度和第一流体与第二流体混合时的温度所组成的组中选择出至少一种，通过使其发生变化，从而控制自所述处理用面间排出的氧化物颗粒的结晶度。
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公开(公告)号：CN109963830A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780050414.7
申请日：2017-09-05
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种以更高的收获率、高效率地制造均匀的姜黄素或者γ‑谷维素的微粒的方法。制作使原料物质溶解到溶剂中而成的原料溶液，通过利用上述原料溶液进行不良溶剂法的结晶析出操作，使上述原料物质析出，制造目标微粒。在上述原料溶液的制作时，作为上述原料物质，使用姜黄素和γ‑谷维素中的至少任一方，作为上述溶剂，使用酒精，在加压状态并且在78.3℃以上、130℃以下的温度条件下，进行搅拌操作，获得原料溶液。利用获得的原料溶液进行不良溶剂法的结晶析出操作，制造目标微粒。
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公开(公告)号：CN109844035A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780061720.0
申请日：2017-10-10
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明为至少含有有机颜料微粒的有机颜料组合物的制造方法，其特征在于，控制上述有机颜料微粒的漫反射率以提高滤色器中的亮度。通过将上述有机颜料微粒的目标波长范围的漫反射率的面积相对于波长380～780nm范围的漫反射光谱的漫反射率的总面积的比率控制得较高，将滤色器中的亮度控制得较高。通过用含有非晶质的氧化物覆盖上述有机颜料微粒的表面的至少一部分，将滤色器中的亮度控制得较高。
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公开(公告)号：CN109196073A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033189.6
申请日：2017-04-04
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供波长200nm至380nm范围的平均摩尔吸光系数提高、而且控制可见区域的颜色特性的着色紫外线防御剂，本发明提供着色紫外线防御剂，其特征在于，其为用于遮蔽紫外线且着色目的的着色紫外线防御剂，上述着色紫外线防御剂包含在至少含有作为金属元素或半金属元素的M1的氧化物粒子(M1Ox)中掺杂与M1不同的选自金属元素或半金属元素的至少1种M2而成的掺杂有M2的氧化物粒子，上述x为任意的正数，上述掺杂有M2的氧化物粒子分散于分散介质而得到的分散液的波长200nm至380nm范围的平均摩尔吸光系数与氧化物粒子(M1Ox)分散于分散介质而得到的分散液相比提高，且上述掺杂有M2的氧化物粒子控制作为可见区域的颜色特性的色相或彩度。
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公开(公告)号：CN109195915A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033183.9
申请日：2017-06-02
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明涉及覆盖有硅的金属微粒，其为包含至少1种金属元素或半金属元素的金属微粒的表面的至少一部分被硅覆盖而成的覆盖有硅的金属微粒，其特征在于，上述覆盖有硅的金属微粒是将含有该金属微粒前体的前体微粒的表面的至少一部分被硅化合物覆盖而成的覆盖有硅化合物的前体微粒、或含有该金属微粒前体的掺硅前体微粒进行还原处理而得到的。通过控制上述还原处理的条件，特别是能够严密地控制覆盖有硅化合物的金属微粒的粒径，因此，能够针对覆盖有硅化合物的金属微粒的多样化用途和目标特性，与以往相比容易地设计更准确的组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109195914A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033017.9
申请日：2017-05-25
Applicant: M技术株式会社
IPC: C01G9/02 , C01B13/14 , C01F17/00 , C01G23/047 , C01G49/06 , C09C1/24 , C09C1/36 , C09C3/06 , C09C3/08 , C09C3/12 , C09C1/04
Abstract: 本发明涉及覆盖有硅化合物的氧化物粒子的制造方法，其为金属氧化物粒子表面的至少一部分被硅化合物覆盖而成的覆盖有硅化合物的氧化物粒子的制造方法，其特征在于，通过控制上述覆盖有硅化合物的氧化物粒子中含有的Si-OH键的比率，来控制润湿性和颜色特性。根据本发明，可以提供除了控制疏水性、疏油性或亲水性等润湿性以外，还控制反射率、摩尔吸光系数和透射率中的任一种颜色特性的覆盖有硅化合物的氧化物粒子。
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公开(公告)号：CN107922747A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680046358.5
申请日：2016-09-16
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种有机颜料微粒子的制备方法，其可以有效地抑制有机颜料微粒子成长以及/或凝聚。所述制备方法包括工序1，所述工序1为将有机颜料原料液和有机颜料微粒子的析出溶剂，导入到互相对置配设的，能够接近和远离的至少一个相对于另一个旋转的两个处理用面之间形成薄膜流体并于该薄膜流体中进行混合，从而析出有机颜料微粒子。此外，所述制备方法还包括工序2，所述工序2为用氧化物涂层涂覆至少一部分所述有机颜料微粒子，所述工序1和所述工序2在所述薄膜流体中连续地进行。
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公开(公告)号：CN107848836A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680041114.8
申请日：2016-07-14
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够提高氧化物颗粒的结晶度，尤其能够稳定获得单晶氧化物颗粒的制造方法。其具备包含第一流体和第二流体的至少两种被处理流体，第一流体和第二流体中的一种至少是使氧化物颗粒原料混合于溶剂中的氧化物原料液，另一种至少是使碱性物质混合于溶剂中的氧化物析出溶剂，第一流体和第二流体在互相对置配设的能够接近和远离的相对旋转的处理用面间混合，使析出氧化物颗粒的混合流体从所述处理用面间排出。从由导入所述处理用面间的第一流体的温度、导入所述处理用面间的第二流体的温度和第一流体与第二流体混合时的温度所组成的组中选择出至少一种，通过使其发生变化，从而控制自所述处理用面间排出的氧化物颗粒的结晶度。
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公开(公告)号：CN107683272A
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201680033160.3
申请日：2016-06-30
Applicant: M技术株式会社
IPC: C07B61/00 , B01J19/00 , B01J31/02 , C07C67/333 , C07C69/757
CPC classification number: C07C67/343 , B01J19/00 , B01J19/0093 , B01J19/20 , B01J31/02 , B01J31/0239 , C07B61/00 , C07C67/333 , C07C69/757
Abstract: 本发明的课题在于提供使用了强制薄膜型微反应器的、利用相转移催化反应进行的有机化合物的制造方法。使用第1流体和第2流体的至少2种流体，第1流体与第2流体不相互混合，其中至少第1流体含有选自有机化合物、反应剂、相转移催化剂这三者中的一者或二者，第1流体以外的流体中，至少第2流体含有从上述三者中未选择者中的至少一者，作为第1流体和第2流体全体，使其含有全部上述三者，在相对地进行旋转的处理用面1、2间形成的薄膜流体中使各流体合流。在薄膜流体中使其进行相转移催化反应，对于第1流体和第2流体中至少含有相转移催化剂的流体，在导入处理用面1、2间之前，进行制备以使得第1流体和/或第2流体中所含的相转移催化剂实质上均质地被混合。
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公开(公告)号：CN107614636A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029533.X
申请日：2016-10-05
Applicant: M技术株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种可控制颜色特性、尤其是反射率的涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物、以及含有氧化物粒子的涂饰用组合物的制造方法，该氧化物粒子与构成要求有耐候性的涂饰体的涂料配合而使用。涂饰用硅氧化物被覆氧化物组合物的特征在于，其为包括硅氧化物被覆氧化物粒子的要求有耐候性的物质，该氧化物粒子的表面的至少一部分被覆有硅氧化物，硅氧化物为，以对涂饰用硅氧化物被覆氧化组合物的颜色特性进行控制为目的的非晶质。此外，所述涂饰用组合物的制造方法，其特征在于，通过以对非晶质的硅氧化物的有无和乙酰基的有无进行选择的方式而制造所述氧化物粒子，从而对所述氧化物粒子的颜色特性进行控制，该非晶质的硅氧化物对所述氧化物粒子的表面的至少一部分进行被覆，该乙酰基作为所述硅氧化物被覆氧化物粒子中所含有的官能基。
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