公开(公告)号：CN1862377A

公开(公告)日：2006-11-15

申请号：CN200610076905.2

申请日：2006-04-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 稻月判臣 ,  吉川博树 ,  丸山保 ,  冈崎智

IPC: G03F1/14 ,  G03F1/00 ,  C23C14/00

CPC classification number: G03F1/32 ,  Y10T428/31616

Abstract: 在对曝光光线透明的基板(1)上设置层合2层由金属硅化物的化合物(2a、2b)组成的层的相位偏移多层膜(2)。而且，在表面侧的金属硅化物的化合物(2b)表面上形成氧化稳定化层(2c)。相位偏移多层膜(2)中基板侧(下面)的层(2a)是金属组成相对高的金属硅化物的化合物，上面的层(2b)是金属组成相对低的金属硅化物的化合物。氧化稳定化层(2c)的金属含量为下面的层(2a)的金属含量的1/3或1/3以下(摩尔比)，为低金属组成，化学稳定性优异，显示高耐药品性。下面的层(2a)由具有较高金属含量的金属硅化物的化合物膜构成，因此，容易控制相位偏移多层膜的光学特性，能得到所希望的光学特性。

公开(公告)号：CN1815361A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200610001086.5

申请日：2006-01-16

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  木名濑良纪 ,  冈崎智 ,  森田元彦 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/54 ,  G03F1/32 ,  Y10T428/31616

Abstract: 半透明叠层膜12具有第1半透明膜13和第2半透明膜14的叠层结构，对上述半透明膜的膜厚d、对曝光光的折射率n及消光系数k进行设计，使其一为相位超前膜，另一为相位滞后膜。使相位超前膜的膜厚(nm)为d(+)、折射率为n(+)、消光系数为k(+)，使相位滞后膜的膜厚为d(－)、折射率为n(－)、消光系数为k(－)时，进行设计，使相位超前膜为k(－)＞a1·n(－)+b1，使相位滞后膜为k(－)＜a2·n(－)+b2。系数a及b为a1＝0.113·d(+)+0.774，b1＝－0.116·d(+)－0.281，a2＝0.113·d(－)+0.774，b2＝－0.116·d(－)－0.281。