半导体器件及其制造方法
    146.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101064320A

    公开(公告)日:2007-10-31

    申请号:CN200710102484.0

    申请日:2007-04-27

    CPC classification number: H01L21/76264 H01L27/1214

    Abstract: 提供了一种半导体器件,它包括位于绝缘表面上的半导体层以及位于该半导体层上的绝缘层。该半导体层包括至少两个元件区域以及一个元件隔离区域。该元件隔离区域被设置在这两个元件区域之间。元件隔离区域包括选自氧、氮和碳中的至少一种杂质元素。与上述两个元件区域之一中所包括的第一源极和漏极区域以及上述两个元件区域中的另一个元件区域中所包括的第二源极和漏极区域相比,元件隔离区域具有更高的阻抗。

    沉积装置
    150.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1928149A

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200610128180.7

    申请日:2006-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种沉积装置,该沉积装置设置有与在其上沉积薄膜的衬底相对的并能够根据衬底表面而移动的蒸发源,还设置有用于将蒸发材料供给至蒸发源的工具(蒸发材料供给工具)。由移动工具支持蒸发源,该移动工具能够扫描其上沉积薄膜的衬底表面。该蒸发材料供给工具使用下述方法:通过气流供给蒸发材料粉末的方法、将蒸发材料溶解或分散在溶剂中并雾化该材料液体而进行供给的方法、或者以棒状、线状、粉末状以及通过机械机构附着到柔性薄膜的状态供给蒸发材料的方法。

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