公开(公告)号：JP5141846B2

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：JP2012501725

申请日：2011-02-07

Applicant: 宇部興産株式会社

Inventor： 慎一郎 大谷 ,  裕幸 山岡 ,  義勝 原田 ,  輝昭 藤井 ,  貞義 須原 ,  宏一郎 陶山

IPC: C02F1/32 ,  B01D53/86 ,  B01D61/14 ,  B01J35/02 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/72 ,  C02F9/00

CPC classification number: C02F1/32 ,  B01D61/025 ,  B01D61/08 ,  B01D61/145 ,  B01D61/58 ,  B01D2311/06 ,  B01J21/063 ,  B01J21/08 ,  B01J35/004 ,  B01J35/06 ,  C02F1/325 ,  C02F1/441 ,  C02F1/444 ,  C02F9/00 ,  C02F2001/427 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/3224 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/328 ,  B01D2311/2623 ,  B01D2311/2619 ,  B01D2311/2657

Abstract: Disclosed is an ultraviolet oxidation device for decompositing organic materials present in water in low energy consumption and low cost, an ultrapure water production device using the same, an ultraviolet oxidation method, and an ultrapure water production method. An ultraviolet oxidation device including: a flow tank 10; photocatalyst fibers 12; an ultraviolet radiating unit 14; and an ultraviolet radiating unit housing unit 16 which is arranged to occupy an entire cross-section of the flow tank intersecting with flowing direction of the water to be processed in the flow tank 10; wherein the ultraviolet radiating unit housing unit 16 is constructed such that the water to be processed flows toward the ultraviolet radiating unit 14 from an upstream side, and after flowing in the housing unit 16, the water to be processed flows out to a downstream side, and is formed of a material that allows the ultraviolet rays from the ultraviolet radiating unit 14 to radiate the photocatalyst fibers 12.

公开(公告)号：JP2012525139A

公开(公告)日：2012-10-22

申请号：JP2012507820

申请日：2010-04-28

Applicant: ステリフロウ リミテッド

Inventor： スノーボール，マルコム，ロバート

IPC: A23L3/28 ,  B01F5/00 ,  C02F1/32

CPC classification number: C02F1/32 ,  A23L2/50 ,  A23L3/28 ,  A61L2/10 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/328

Abstract: A fluid treatment apparatus particularly for sterilizing drinks comprises an elongate tubular duct (110) and an elongate UV light source (111) extending longitudinally of the duct (110). The fluid flows longitudinally of the duct (110) in a thin annular low passage (114) which extends around the UV light source (111). A mixing device (112) disposed between adjacent longitudinal portions of the duct (110) for diverts all of the fluid flowing along a first portion of the passage (114) through fluid mixing means (113,116) in the device (112) and returns the mixed fluid to a second portion of the passage (114). Micro-organisms in the thin flow of fluid are killed as they come within close proximity of the light source (111). The mixing device (112) causes all of the flow to be thoroughly mixed and returned to the flow passage (114). The provision of a plurality of mixing devices along the length of the duct (110) increases the likelihood that all microorganisms receive a sufficient lethal dose of UV radiation.

公开(公告)号：JP4116429B2

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：JP2002540772

申请日：2001-11-12

Applicant: バイエル アクチェンゲゼルシャフトBayer Aktiengesellschaft ,  バイエル・ヘルスケア・エルエルシー

Inventor： カウリング イェルク ,  エム レミントン キャスリン ,  カイザー クラウス ,  ジェイ ギャロウェイ シンシア ,  ヘンツラー ハンス−ユルゲン ,  トレックマン ロルフ

IPC: A23C3/00 ,  A61L2/10 ,  A23L2/42 ,  A23L3/28 ,  A61K41/00 ,  A61L2/00 ,  A61M1/36 ,  B01J19/12 ,  B01J19/24 ,  C02F1/32

CPC classification number: B01J19/123 ,  A23L3/28 ,  A61K41/0019 ,  A61L2/0005 ,  A61L2/0011 ,  A61L2/10 ,  A61M1/3681 ,  A61M1/3683 ,  A61M2205/053 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00139 ,  B01J2219/00164 ,  B01J2219/00168 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/32 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/328 ,  Y10S422/905

公开(公告)号：JP3802086B2

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：JP4674494

申请日：1994-03-17

Applicant: アクセス ビジネス グループ インターナショナル リミテッド ライアビリティ カンパニー

Inventor： イー．キッド デニス ,  ジェイ．クール デニス ,  ジェイ．ピッペル ブラッドリー ,  ジー．ティエード マーリン ,  ダブリュ．ケンネン ロイ ,  シー．マーカム ロナルド ,  エム．ダイカウス ロビン

IPC: C02F1/32 ,  C02F1/28 ,  C02F9/00

CPC classification number: C02F9/005 ,  C02F1/283 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  C02F2209/00 ,  C02F2209/445

公开(公告)号：JP2006514852A

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：JP2004567393

申请日：2003-09-03

Applicant: セーフ・フーズ・コーポレイション

Inventor： ノーレン・ゲーリー ,  レインガンズ・ジョー

IPC: A61L2/10 ,  A23L3/28 ,  B01J19/12 ,  C02F1/00 ,  C02F1/32

CPC classification number: A61L2/10 ,  A23L3/28 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/3228 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/024 ,  C02F2301/026

Abstract: 【課題】
液体が貫流する管（２０），複数の放射源（１４）及び放射を液体に焦点合わせする複数の反射器（４８）から構成された液体を放射露光する装置。

公开(公告)号：TW200600463A

公开(公告)日：2006-01-01

申请号：TW094111495

申请日：2005-04-12

Applicant: 艾瑞沙 拉菲爾 ARAIZA, RAFAEL ,  哈堤格 漢茲 HARTIG, HEINZ

Inventor： 艾瑞沙 拉菲爾 ARAIZA, RAFAEL ,  哈堤格 漢茲 HARTIG, HEINZ

IPC: C02F ,  A61L

CPC classification number: C02F1/325 ,  A61L9/20 ,  B01D53/007 ,  B01D2257/91 ,  B01D2259/804 ,  B01J19/123 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0875 ,  B01J2219/0877 ,  C02F1/001 ,  C02F1/283 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/3228 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/024 ,  C02F2301/026 ,  H05B3/0052 ,  H05B2203/021 ,  H05B2203/022 ,  Y02W10/37

Abstract: 本發明係關於一種利用UV－射線來處理液態或氣態介質，尤其是水或空氣的裝置，包括：一UV－輻射源(24)，其具有一軸向的縱向延伸，且有一實質上與之垂直，尤其是在徑向的輻射方向(R)；和複數層在輻射方向(R)上相疊配置之連續的可透光處理室(K1－K4)，其等與該UV－輻射源(24)，以及其等彼此間係分別藉一透明的UV－可透射分隔層(T1－T4)隔開來，並且其等，從在輻射方向上最靠近該UV－輻射源(24)的第一處理室(K1)起，各形成一個沿著該UV－輻射源(24)之縱向延伸而伸展之介質貫流通道，該通道並且開口(26)於各個後繼之，在輻射方向(R)上距離該UV－輻射源(24)較遠的處理室(K2,K3,K4)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种利用UV－射线来处理液态或气态介质，尤其是水或空气的设备，包括：一UV－辐射源(24)，其具有一轴向的纵向延伸，且有一实质上与之垂直，尤其是在径向的辐射方向(R)；和复数层在辐射方向(R)上相叠配置之连续的可透光处理室(K1－K4)，其等与该UV－辐射源(24)，以及其等彼此间系分别藉一透明的UV－可透射分隔层(T1－T4)隔开来，并且其等，从在辐射方向上最靠近该UV－辐射源(24)的第一处理室(K1)起，各形成一个沿着该UV－辐射源(24)之纵向延伸而伸展之介质贯流信道，该信道并且开口(26)于各个后继之，在辐射方向(R)上距离该UV－辐射源(24)较远的处理室(K2,K3,K4)。

公开(公告)号：TW487799B

公开(公告)日：2002-05-21

申请号：TW090113249

申请日：2001-05-31

Applicant: 卡爾岡卡邦公司

Inventor： 麥克 瑪帝根

IPC: G01J

CPC classification number: C02F1/325 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  G01J1/429

Abstract: 一種裝置，其係用於偵測紫外線輻射及度量此輻射之強度。該裝置包括可以偵測並回應紫外線輻射波長介於大約180奈米至大約360奈米之半導光敏裝置。尤其，該光敏裝置係一種以尖峰回應介於波長範圍大約240奈米至大約290奈米之間的碳化矽半導材料為主之光二極體。該紫外線感測器具有長時期安定性、線性輸出及對環境溫度變動之低輸出變化。

Abstract in simplified Chinese: 一种设备，其系用于侦测紫外线辐射及度量此辐射之强度。该设备包括可以侦测并回应紫外线辐射波长介于大约180奈米至大约360奈米之半导光敏设备。尤其，该光敏设备系一种以尖峰回应介于波长范围大约240奈米至大约290奈米之间的碳化硅半导材料为主之光二极管。该紫外线传感器具有长时期安定性、线性输出及对环境温度变动之低输出变化。

公开(公告)号：TW201441162A

公开(公告)日：2014-11-01

申请号：TW103124238

申请日：2012-01-17

Applicant: 伊芙卡水科技有限公司 ,  EVOQUA WATER TECHNOLOGIES LLC

Inventor： 寇特 布魯斯李 ,  COULTER, BRUCE LEE

IPC: C02F1/30 ,  C02F103/04

CPC classification number: C02F9/00 ,  C02F1/008 ,  C02F1/325 ,  C02F1/70 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/005 ,  C02F2209/008 ,  C02F2209/20 ,  C02F2303/18 ,  C02F2305/023

Abstract: 本發明是有關一種用以提供超純水給半導體製造設備的方法和系統。水是透過利用一自由基淨化系統和一自由基移除系統來處理。自由基淨化系統可藉一自由基先驅化合物，例如過硫酸銨來進行光化幅射。自由基移除系統可包含一還原劑的使用。超純水可更進一步透過利用離子交換媒介和脫氣裝置加以處理。可利用控制系統來調整先驅化合物的添加量、光化幅射的強度、及還原劑添加入水的量。

Abstract in simplified Chinese: 本发明是有关一种用以提供超纯水给半导体制造设备的方法和系统。水是透过利用一自由基净化系统和一自由基移除系统来处理。自由基净化系统可藉一自由基先驱化合物，例如过硫酸铵来进行光化幅射。自由基移除系统可包含一还原剂的使用。超纯水可更进一步透过利用离子交换媒介和脱气设备加以处理。可利用控制系统来调整先驱化合物的添加量、光化幅射的强度、及还原剂添加入水的量。

公开(公告)号：TW528734B

公开(公告)日：2003-04-21

申请号：TW088112957

申请日：1999-07-30

Applicant: 通路實業集團國際公司

Inventor： 丹尼斯 J 庫爾 ,  羅伊 M 泰勒 ,  詹姆斯 A 伍達爾 ,  德爾 亞伯雷加 ,  葛列格 史尼德 ,  丹 哥茲

IPC: C02F ,  A61L

CPC classification number: B01D35/30 ,  A61L2/10 ,  B01D29/96 ,  B01D2201/291 ,  B01D2201/301 ,  C02F1/001 ,  C02F1/004 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/325 ,  C02F9/00 ,  C02F9/005 ,  C02F2201/006 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/024 ,  C02F2301/026 ,  C02F2307/04

Abstract: 本發明與針對使用的水處理系統相關。此系統包含一具有過濾槽裝置和封蓋的過濾室裝置，其利用把手和鏗器往復運動的鎖片來將封蓋固定必過濾槽裝置。紫外線燈裝置包含平面擋板和葉片擋板而可使紫外線燈裝置周圍產生柱流。將紫外線燈裝置同時以電力密封於紫外線槽裝置及利用插片的電子帽裝置。利用雙面多管裝置來互相連接水處理系統中的元件並提供一可容納水管裝置的封套。雙面多管裝置提高水處理系統的緊密性。此外，揭示一種可支撐水處理系統的則元件且能夠將紫外線槽裝置中的熱散去的支撐板。

Abstract in simplified Chinese: 本发明与针对使用的水处理系统相关。此系统包含一具有过滤槽设备和封盖的过滤室设备，其利用把手和铿器往复运动的锁片来将封盖固定必过滤槽设备。紫外线灯设备包含平面挡板和叶片挡板而可使紫外线灯设备周围产生柱流。将紫外线灯设备同时以电力密封于紫外线槽设备及利用插片的电子帽设备。利用双面多管设备来互相连接水处理系统中的组件并提供一可容纳水管设备的封套。双面多管设备提高水处理系统的紧密性。此外，揭示一种可支撑水处理系统的则组件且能够将紫外线槽设备中的热散去的支撑板。

公开(公告)号：JP6058799B2

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：JP2015528374

申请日：2012-09-05

Applicant: パンアジア カンパニー リミテッド

Inventor： リー,スー−タエ ,  ピョ,タエ−スン ,  リー,ス−キュ

IPC: B63B13/00 ,  C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  B08B1/008 ,  B63J4/002 ,  C02F2103/008 ,  C02F2201/3225 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/324 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328