公开(公告)号：WO2007040138A1

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：PCT/JP2006/319301

申请日：2006-09-28

Applicant: 株式会社きもと ,  餌取 英樹

Inventor： 餌取 英樹

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/02

CPC classification number: G03F7/201 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0031 ,  G02B5/02 ,  G03F1/50 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70416

Abstract: 　フォトマスクを用い、容易且つ高精度に所望の凹凸形状を形成することが可能な表面凹凸作製方法を提供する。 　感光性樹脂組成物からなる感光膜の一方の側に、光透過部と光不透過部とを有するマスク部材を感光膜に対し間隔を持って配置し、マスク部材側に配置された光源から光を照射し、マスク部材の光透過部を通して感光膜を露光し、感光膜の露光部或いは未露光部を現像により除去し、感光膜に露光部或いは未露光部の形状で決まる凹凸を作製する。露光の際に、光源とマスク部材の遮光面との距離Ｌ、光源の大きさＤ、マスク部材と感光膜との光学距離Ｔなどの露光条件を制御し、露光部或いは未露光部の形状を制御する。

Abstract translation: 本发明提供一种制备能够使用光掩模以高精度容易地形成所需凹凸形状的表面凹凸的方法。 具有光透射部分和不透光部分的掩模构件设置在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧，同时在感光膜和掩模构件之间提供空间。 从设置在掩模构件侧的光源施加光，通过掩模构件中的透光部露出感光膜。 通过显影除去感光膜中的曝光部分或未曝光部分，以制备由感光膜中的曝光部分或未曝光部分的形状确定的凹凸。 在曝光中，曝光条件例如光源与掩模部件的遮光面之间的距离（L），光源的尺寸（D）以及掩模部件和光罩之间的光学距离（T） 调节感光膜以调节曝光部分或未曝光部分的形状。

公开(公告)号：WO2007013351A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：PCT/JP2006/314405

申请日：2006-07-20

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  佐々木 義晴 ,  角 克人

Inventor： 佐々木 義晴 ,  角 克人

IPC: G03F7/20 ,  B41J2/46

CPC classification number: B41J2/46 ,  B41J2/465 ,  G03F7/201 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70575

Abstract: 　記録媒体の感度むらや感度変化による画質劣化を抑制することを課題とする。複数のレーザ光源から射出されたレーザ光を合波して、感光層と該感光層の上層に設けられた光透過層を含む記録媒体に前記合波されたレーザ光を照射すると共に、複数のレーザ光源から各々射出されるレーザ光の波長を、光透過層の光透過率が極大となる第１の波長と、光透過層の光透過率が極小となりかつ前記第１の波長との差が最小である第２の波長との間に相当する共振最小波長範囲以上の所定波長範囲内に分布するように定める。

Abstract translation: 防止归因于记录介质的灵敏度不均匀性和灵敏度随时间变化的劣化。 从激光光源发射的激光束相结合。 将组合的激光束施加到包括感光层和在感光层上形成的透光层的记录介质。 从激光光源发射的激光束的波长被确定为分布在高于谐振最小波长范围的预定波长范围内，该谐振最小波长范围对应于透光层的光透射率为的第一波长 最大和第二波长，其中透光层的透光率最小，第一和第二波长之间的差最小。

公开(公告)号：WO2006129924A1

公开(公告)日：2006-12-07

申请号：PCT/KR2006/001893

申请日：2006-05-19

Applicant: ANSUNG FINE CHEMICAL CO., LTD. ,  CHOI, Suk-Young ,  KIM, Seon-Hyuk ,  KIM, Hyo-Joon ,  PARK, Ji-Hyun ,  PARK, Eun-Suk

Inventor： CHOI, Suk-Young ,  KIM, Seon-Hyuk ,  KIM, Hyo-Joon ,  PARK, Ji-Hyun ,  PARK, Eun-Suk

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G02B5/201 ,  G02F1/133512 ,  G02F1/13394 ,  G02F2001/133519 ,  G03F7/029 ,  G03F7/201

Abstract: Disclosed are a method for simultaneously forming a color filter overcoat and a column spacer of LCD and a negative photoresist composition usable therein. The method according to the present invention includes: (Sl) forming a photoresist film by applying a negative photoresist composition onto a substrate of a liquid crystal; (S2) exposing the photoresist film through a mask composed of a transflective region and a transmissive region; and (S3) forming a region of the photoresist film into a color filter overcoat and a column spacer, respectively. The method of the present invention may be useful to reduce the manufacturing cost and enhance a yield of a liquid crystal display since its manufacturing process can be easily reduced by simultaneously forming, on the color filter substrate, a column spacer and a color filter overcoat having a good shape and height difference.

Abstract translation: 公开了一种用于同时形成LCD和其中可用的负性光致抗蚀剂组合物的滤色器外涂层和柱间隔物的方法。 根据本发明的方法包括：（S1）通过将负性光致抗蚀剂组合物施加到液晶的衬底上来形成光致抗蚀剂膜; （S2）通过由透反射区域和透射区域构成的掩模曝光光致抗蚀剂膜; 和（S3）分别将光致抗蚀剂膜的区域形成为滤色器外涂层和柱间隔物。 本发明的方法可以用于降低制造成本并提高液晶显示器的产量，因为其制造工艺可以容易地通过在滤色器基板上同时形成柱间隔件和滤色器外涂层而容易地减小， 良好的形状和高度差异。

公开(公告)号：WO2004029722A3

公开(公告)日：2004-11-11

申请号：PCT/IB0304285

申请日：2003-09-26

Applicant: KONINKL PHILIPS ELECTRONICS NV ,  NELLISSEN ANTONIUS J M

Inventor： NELLISSEN ANTONIUS J M

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035 ,  Y10T428/24802

Abstract: In a lithographic proximity method for wiring an end or internal side surface of a substrate the required exposure of strips (76), defining the wiring pattern, is performed by means of a mask (70) comprising a diffraction structure (74) to deflect exposure radiation (b) to the side surface. An exposure beam, which is perpendicularly incident on the mask, is used so that enhanced tolerance for proximity gap width variations is obtained. The method allows manufacture of accurate and fine wiring.

Abstract translation: 在用于布线基板的端侧或内侧表面的光刻接近方法中，通过包括衍射结构（74）的掩模（70）来执行限定布线图案的条（76）的所需曝光以偏转曝光 辐射（b）到侧面。 使用垂直入射到掩模上的曝光光束，从而获得增强的接近间隙宽度变化的公差。 该方法允许制造精确和精细的接线。

公开(公告)号：WO2004019133A2

公开(公告)日：2004-03-04

申请号：PCT/DE2003/002471

申请日：2003-07-22

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG ,  MOLL, Peter ,  TEGEN, Stefan

Inventor： MOLL, Peter ,  TEGEN, Stefan

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L27/10867 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2022

Abstract: Ein Verfahren zum Bilden einer Maskierschicht auf einem Substrat (5) mit einem wenigstens eine Seitenwand (1) umfassenden Strukturelement (3, 62) zur Maskierung eines physikalischen oder chemischen Prozesses (100), wobei das Strukturelement (3, 62) erhaben auf oder vertieft in dem Substrat (5) gebildet ist, umfaßt die Schritte: Bereitstellen des Substrats (5) mit einer Oberfläche und dem Strukturelement (3, 62), Abscheiden einer Schicht (20) eines unter Lichteinfluß chemisch umwandelbaren Materials, beispielsweise amorphen Kohlenstoffs, auf das Substrat (5), so daß das Strukturelement (3, 62) von dem Material im wesentlichen bedeckt ist, Einstellen einer ersten Lichtquelle relativ zum Substrat, so daß ein durch die Lichtquelle erzeugter Lichtstrahl (110) unter einem schrägen ersten Winkel (α) auf die Oberfläche des Substrats (5) trifft, welcher von 90 Grad verschieden ist, Erstes Belichten der Schicht (20) mittels der eingestellten Lichtquelle, so daß ein Teil (21) der Schicht an der von der Lichtquelle abgewandten ersten Seitenwand (1) in einem Schattenbereich des Strukturelementes (3, 62) unbelichtet bleibt, Entfernen der belichteten Schicht (20) außerhalb des Schattenbereiches, so daß der unbelichtete Teil (21) der Schicht (20) als Maskierschicht (10) zurückbleibt, Durchführen des nachfolgenden physikalischen oder chemischen Prozesses (100).

Abstract translation:

在衬底上形成的掩模层的方法，（5）具有至少一个侧壁（1），包括用于掩蔽的物理或化学处理（100），其中，所述结构元件的结构元件（3，62）（ （5）中凸起或凹陷的步骤包括以下步骤：提供具有表面和所述结构构件（3,62）的所述基板（5）;沉积一层（20） 在光的影响下？ 化学可转换材料，例如无定形碳，转移到衬底（5）上，这样＆＃和＃ 结构元件（3,62）基本上被材料覆盖，相对于衬底调整第一光源，使得＃ 的电流由所述一组光源装置以倾斜BEAR根第一角度（α）〜（5）适用于基材，其是从90度不同，第一暴露层（20）的表面BEAR表面由光源光束（110）生成的， 这样 上从光源第一侧壁（1）（3，62）背向侧的层的一个部分（21）保持在结构元件的阴影区域的未曝光，去除暴露的层（20）中的阴影区域的外侧坳道以便ROAD 层（20）的未曝光部分（21）保持为掩模层（10），执行随后的物理或化学过程（100）。

公开(公告)号：WO1994020223A1

公开(公告)日：1994-09-15

申请号：PCT/FI1993000079

申请日：1993-03-08

Applicant: TAMGLASS ENGINEERING OY ,  SHAFIR, Aaron

Inventor： TAMGLASS ENGINEERING OY

IPC: B05D03/06

CPC classification number: C03C23/002 ,  B05B12/20 ,  B05D1/32 ,  C03C23/001 ,  G03F7/201 ,  G03F9/00

Abstract: A method and apparatus for exposing a substrate of relatively large surface area to radiation according to a predetermined pattern recorded on a mask, particularly useful in applying a painted border to an automobile windshield, includes the steps of progressively recording the predetermined pattern on a mask in the form of a continuous strip, and moving the radiation source to progressively scan the surface of the substrate with radiation, while at the same time moving the continuous strip mask relative to the radiation source, such that portions of the pattern on the continuous strip mask progressively become aligned with their corresponding portions of the substrate as the substrate is progressively scanned by the radiation source.

Abstract translation: 根据记录在掩模上的预定图案将相对较大的表面积的基底曝光于辐射的方法和装置，特别是在向汽车挡风玻璃施加涂漆边界时特别有用的方法和装置包括以下步骤：将预定图案逐渐记录在掩模上 连续条带的形式，并且移动辐射源以用辐射逐渐地扫描基片的表面，同时相对于辐射源移动连续带状掩模，使得连续条形掩模上的图案的部分 随着基板被辐射源逐渐扫描，它逐渐地与基板的相应部分对齐。

公开(公告)号：EP4443242A1

公开(公告)日：2024-10-09

申请号：EP22909721.7

申请日：2022-12-05

Applicant: Contemporary Amperex Technology (Hong Kong) Limited

Inventor： LIU, Xiaosong ,  LI, Keqiang ,  WU, Zhiyang ,  LU, Yi

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/20 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/24 ,  G03F7/7035

Abstract: This application provides an exposure apparatus and relates to the field of exposure technologies. The exposure apparatus includes a conveying mechanism and an exposure mechanism. The conveying mechanism is configured to convey a substrate, a surface of the substrate being coated with photoresist. The exposure mechanism includes an exposure source and an exposure member. The exposure source is configured to provide light to the substrate. The exposure member includes an exposure section opposite the substrate, where the exposure section is located between the exposure source and the substrate and disposed in close proximity to the substrate, the exposure section has a light-transmitting portion that allows light to be incident on the substrate and a light-shielding portion that prevents light from being incident on the substrate, and the exposure section is configured to keep the light-transmitting portion and the light-shielding portion in synchronized movement with the substrate. The part of the exposure member provided with the light-shielding portion and the light-transmitting portion moves in synchronization with the substrate, implementing exposure processing by the exposure mechanism during conveying of the substrate, thus improving the exposure efficiency. During conveying of the substrate, the light-shielding portion and the light-transmitting portion remain stationary relative to the substrate, which ensures that the patterns on the exposure member are fully exposed to the substrate at a high speed with good pattern consistency.

公开(公告)号：EP2128702B1

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：EP09161037.8

申请日：2009-05-25

Applicant: Esko-Graphics Imaging GmbH

Inventor： Sievers, Wolfgang

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G21K5/02 ,  G03F7/201

公开(公告)号：EP2987033A1

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：EP14724957.7

申请日：2014-04-16

Applicant: E. I. du Pont de Nemours and Company

Inventor： LUETKE, Helmut

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  B41C1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70875

Abstract: The invention pertains to an exposure apparatus, a method for exposing a photosensitive element to radiation using the exposure apparatus, and a method for preparing a printing form from the photosensitive element. The exposure apparatus includes a base assembly having an exposure bed that supports the photosensitive element, and a lamp housing assembly having two or more lamps. The lamp housing assembly includes an air distribution assembly having an air chamber that is disposed adjacent to the lamps and pressurized to provide uniform distribution of air exiting the air chamber to impinge a backside of each of the lamps. The air exiting the chamber and impinging the lamps is controlled by monitoring the temperature of the lamps and/or the irradiance emitting from the lamps.

公开(公告)号：EP2987031A1

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：EP14724609.4

申请日：2014-04-16

Applicant: E. I. du Pont de Nemours and Company

Inventor： STRUEWE, Volker ,  LUETKE, Helmut

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  B41C1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/2014 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70875

Abstract: The invention pertains to an exposure apparatus, a method for exposing a photosensitive element to radiation using the exposure apparatus, and a method for preparing a printing form from the photosensitive element. The exposure apparatus includes a base assembly having an exposure bed that supports the photosensitive element, and a lamp housing assembly having one or more lamps. The base assembly includes an assembly for controlling the temperature of the exposure bed to heat and cool the bed; and an assembly configured to remove air between the photosensitive element and an exterior top surface of the exposure bed.