公开(公告)号：CN1599213A

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：CN200410009472.X

申请日：2004-08-20

Applicant: 清华大学

Inventor： 汪劲松 ,  朱煜 ,  曹家勇 ,  尹文生 ,  段广洪

IPC: H02K41/03

CPC classification number: H02K41/03 ,  H02K2201/18

Abstract: 永磁同步平面电动机，属于电动机技术领域。为了提供一种具有高推力密度、低推力脉动和具有磁导向功能的永磁同步平面电动机，本发明公开了一种永磁同步平面电动机，在其动子底面的不同区域布置有推力绕组和磁导向绕组；所述推力绕组包括X向推力绕组和Y向推力绕组，它们在动子底面的竖直方向上相互重叠，且所述X向推力绕组的任一有效边与所述Y向推力绕组的任一有效边之间相互垂直；所述磁导向绕组包括第一磁导向绕组和第二磁导向绕组，它们分别对称布置于动子质心的两侧，并且磁导向绕组有效边与X向推力绕组的有效边或Y向推力绕组的有效边平行。由于采用了上述技术措施，所提出的永磁同步平面电动机具有高推力密度、低推力脉动和磁导向功能。

公开(公告)号：CN1478272A

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN02803249.7

申请日：2002-10-21

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 池田直人 ,  东原辉明

IPC: G11B7/09

CPC classification number: G11B7/093 ,  G11B7/0932 ,  G11B7/0933 ,  G11B7/0935 ,  H02K41/0354 ,  H02K2201/18

Abstract: 一种使物镜(21)向光轴方向的对焦方向和与光轴方向垂直的跟踪方向移动的物镜动装置。具有固定部(10)、由物镜和线圈骨架(16)构成的可动部(11)、设在固定部和可动部中的任何一方上的磁性体部(15)以及设在另一方上的线圈部(22)。在固定部(10)上设有突出的支承轴(14)。在线圈骨架(16)上安装着物镜(21)，并形成有供支承轴穿过的孔(18)，该线圈骨架(16)可沿支承轴移动并可以支承轴为中心转动。还备有驱动部和支承机构。驱动部通过使可动部沿着支承轴移动，可使物镜在对焦方向移动，通过使线圈骨架以支承轴为中心转动，可使物镜在跟踪方向移动。支承机构具有磁性部件(25)，该磁性部件(25)相对于支承轴以倾斜状态支承可动部。

公开(公告)号：CN1107757C

公开(公告)日：2003-05-07

申请号：CN99804251.X

申请日：1999-04-13

Applicant: G.M.普法夫有限公司

Inventor： 哈特穆特·许尔肖夫

IPC: D05B69/10 ,  H02K41/03 ,  D05B29/02 ,  D05B27/24 ,  D05B19/12 ,  D05B65/00 ,  D05B27/02

CPC classification number: H02K41/03 ,  D05B19/12 ,  D05B27/02 ,  D05B27/24 ,  D05B29/02 ,  D05B29/06 ,  D05B65/00 ,  D05B69/10 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明涉及一种用于形成连续不断的线迹的机器，也就是一种缝纫或刺绣机，它包括一针和摆梭，以及一带有至少一个受驱动的送进元件的工件送进装置，其中送进装置(15)为了驱动送进元件(14)具有一带有两个可在不同方向驱动的电枢(25、26)的直线驱动装置，送进装置(5)配设有一带有一用于送进元件(14)水平运动的调节回路(49)和一用于垂直运动的调节回路(53)的调节装置(47、51)，两个调节回路(49、53)隶属于包含一数据处理装置(7)的主调节装置(6)，它根据针或摆梭各自的瞬时位置从一编码器(5)中得到其同步信号，送进元件(14)水平和/或垂直运动的实际值(48、52)可有选择地输送给主调节装置(6)。

公开(公告)号：CN1312135A

公开(公告)日：2001-09-12

申请号：CN01109299.8

申请日：2001-03-07

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 丸山照雄 ,  园田孝司

IPC: B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 ,  B05D5/00

CPC classification number: H02K7/14 ,  F04B7/06 ,  F04B17/044 ,  F04D15/0033 ,  H02K7/125 ,  H02K11/21 ,  H02K16/00 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明公开一种流体排放装置,其包括一个轴向驱动装置,该驱动装置用于在活塞和缸体之间产生轴向的相对位移,一个驱动旋转的装置,及一个流体压力供给装置。排放流速的开/关控制可以利用轴向驱动装置通过改变排放通路的流体阻力来实现。

公开(公告)号：CN1207552A

公开(公告)日：1999-02-10

申请号：CN98116260.6

申请日：1998-08-05

Applicant: 株式会社三协精机制作所

Inventor： 岡田幸雄 ,  磯部尚夫 ,  宇野胜

IPC: G11B7/135

CPC classification number: H02K41/035 ,  G11B7/093 ,  G11B7/0933 ,  G11B7/0935 ,  H02K3/47 ,  H02K26/00 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明物镜驱动装置及其制造方法,通过固定用粘接剂使通过热熔接层使自熔接线相互接合而成的驱动线圈在透镜保持体外周板部分的外周面上面接合后,用稀释剂等溶剂稀释的增强用粘接剂涂敷在驱动线圈表面上,然后再除去上述溶剂。因此,即使驱动线圈发热、热熔接层熔融也不会发生自熔接线的松弛现象,且不妨碍驱动线圈散热。从而提供一种即使使用热熔接层熔融温度低的自熔接线的驱动线圈,使自熔接线也不会散开的物镜驱动装置。

公开(公告)号：CN109716227A

公开(公告)日：2019-05-03

申请号：CN201780056620.9

申请日：2017-09-08

Applicant: 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 白根英树 ,  富田浩稔 ,  泷泽辉之

IPC: G03B5/00 ,  G03B15/00 ,  G05D3/12 ,  H04N5/222

CPC classification number: H04N5/23299 ,  G03B5/00 ,  G03B15/00 ,  G03B17/561 ,  G05D3/12 ,  G06T7/70 ,  H02K11/215 ,  H02K41/0358 ,  H02K2201/18 ,  H04N5/222

Abstract: 提供致动器和相机设备，以控制可移动单元相对于固定单元在三个方向上的旋转驱动，同时减少检测滚动方向上的旋转角度所需的部件的数量。致动器(2)的驱动控制单元(110)根据第一磁传感器(92a)和第一陀螺仪传感器(93a)的检测结果控制可移动单元在俯仰方向上的旋转。驱动控制单元(110)还根据第二磁传感器(92b)和第二陀螺仪传感器(93b)的检测结果控制可移动单元在偏转方向上的旋转。驱动控制单元(110)还根据第三陀螺仪传感器(401)的检测结果控制可移动单元在滚动方向上的旋转。

公开(公告)号：CN109067043A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201811125538.X

申请日：2018-09-26

Applicant: 深圳大学

Inventor： 曹广忠 ,  胡宏锦 ,  黄苏丹 ,  邱洪 ,  符兴东

IPC: H02K1/27 ,  H02K1/12

CPC classification number: H02K1/27 ,  H02K1/12 ,  H02K2201/18 ,  H02K2213/03

Abstract: 本发明公开了一种平面磁通切换型永磁电机，所述永磁电机包括：基座，安装在所述基座上的定子阵列，安装在所述基座上且沿着坐标轴Y方向设置的第一直线导轨，设置在所述第一直线导轨上的第二直线导轨，所述第二直线导轨沿着坐标轴X方向设置，所述第二直线导轨上设置有运动平台；所述运动平台包括：分别沿坐标轴X方向与坐标轴Y方向设置的两个运动平台，且每个运动平台包括多个动子块；每一个动子块由两个U型铁芯、永磁体以及线圈组成。本发明的永磁电机具有结构简单、成本低、行程大、精度高，效率高、力脉动小等优点。

公开(公告)号：CN108983554A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810642219.X

申请日：2013-10-02

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 柴崎祐一

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70816 ,  H02K7/08 ,  H02K41/03 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明提供曝光装置以及器件制造方法。载物台装置具备平板(30)和晶片台(WST)，该晶片台(WST)搭载于平板(30)上，且在与平板相对的面上形成有喷出口(73)。在晶片台(WST)降落在平板上的状态下，在平板(30)与晶片台(WST)之间形成有气室(72)。加压气体从设置于晶片台主体(22)上的喷出口(73)向气室(72)内喷出，由气室(72)的内压抵消晶片台(WST)的自重。由此，能够以手动方式移动停止在平板上的晶片台。

公开(公告)号：CN105842995B

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201610289125.X

申请日：2011-09-05

Applicant: 株式会社 ,  尼康

Inventor： 青木保夫

IPC: G03F7/20 ,  B65G49/06

CPC classification number: G03F7/70775 ,  F16C29/008 ,  F16C39/04 ,  F16C39/06 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/709 ,  H02K7/09 ,  H02K16/00 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

Abstract: 于基板载台(PST),在Y粗动载台(23Y)移动于Y轴方向时,X粗动载台(23X)、重量消除装置(40)及X导件(102)与Y粗动载台(23Y)体移动于Y轴方向,在X粗动载台(23X)于Y粗动载台(23Y)上移动于X轴方向时,重量消除装置(40)在X导件(102)上与X粗动载台(23X)体移动于X轴方向。由于X导件(102)是涵盖重量消除装置(40)于X轴方向的移动范围延设于X轴方向,因此重量消除装置(40)不受其位置限制,恒被X导件(102)支承。

公开(公告)号：CN104753306B

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201310752308.7

申请日：2013-12-31

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 张霖 ,  池峰 ,  陈庆生 ,  段素丙 ,  刘小虎

IPC: H02K41/02

CPC classification number: H02K41/02 ,  H02K2201/18

Abstract: 本发明公开了一种磁钢阵列和磁浮平面电机，该磁钢阵列包括：一维海尔贝克磁钢阵列和二维海尔贝克磁钢阵列，所述一维海尔贝克磁钢阵列和二维海尔贝克磁钢阵列共同构成方形的磁钢阵列，所述二维海尔贝克磁钢阵列分设于该方形磁钢阵列一条对角线的两端位置处。本发明的磁钢阵列采用了二维海尔贝克磁钢阵列与一维海尔贝克磁钢阵列相结合的方式，与同样尺寸的纯一维磁钢阵列相比，增大了磁浮平面电机的推力常数。