公开(公告)号：JP3602802B2

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：JP2001019927

申请日：2001-01-29

Applicant: 有限会社リバー製作所

Inventor： 祐史 川路

IPC: C02F1/00 ,  C02F1/28 ,  C02F1/32 ,  C02F1/34 ,  C02F1/72 ,  C02F1/78

CPC classification number: C02F1/78 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/325 ,  C02F1/34 ,  C02F1/72 ,  C02F2103/06 ,  C02F2103/42 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/024 ,  C02F2305/023

公开(公告)号：JP5976222B2

公开(公告)日：2016-08-23

申请号：JP2015528373

申请日：2012-09-05

Applicant: パンアジア カンパニー リミテッド

Inventor： リー,スー−タエ ,  ピョ,タエ−スン ,  リー,ス−キュ

IPC: B63B13/00 ,  C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  B08B1/008 ,  B63B11/00 ,  B63J4/002 ,  C02F2103/008 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/324 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  C02F2303/04

公开(公告)号：JP5844250B2

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：JP2012503626

申请日：2010-03-30

Applicant: ネオ・テク・アクア・ソリューションズ、インコーポレイテッド ,  Neo Tech Aqua Solutions,Inc.

Inventor： クーパー、ジェームズ・ランダール ,  メイ、リチャード

IPC: B01J19/12 ,  C02F1/32

CPC classification number: A61L2/0047 ,  A61L9/205 ,  A61M1/3681 ,  B01J19/123 ,  B01J19/124 ,  C02F1/325 ,  A61L2/0094 ,  A61L2202/22 ,  A61L2209/211 ,  A61L2209/212 ,  A61M2205/053 ,  B01J2219/0877 ,  C02F1/283 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2201/003 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/3228 ,  C02F2201/328

公开(公告)号：JP5643810B2

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：JP2012507820

申请日：2010-04-28

Applicant: ステリフロウ リミテッド ,  ステリフロウ リミテッド

Inventor： スノーボール，マルコム，ロバート

IPC: A23L3/28 ,  B01F5/00 ,  C02F1/32

CPC classification number: C02F1/32 ,  A23L2/50 ,  A23L3/28 ,  A61L2/10 ,  C02F1/325 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/328

公开(公告)号：JP2014508033A

公开(公告)日：2014-04-03

申请号：JP2013550516

申请日：2012-01-16

Applicant: シーメンス ウォーター テクノロジーズ エルエルシーSiemens Water Technologies Llc

Inventor： リー コウルター ブルース

IPC: C02F1/30 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  B01D61/44 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/42 ,  C02F1/44 ,  C02F1/469 ,  C02F1/70 ,  C02F1/72 ,  C02F9/00

CPC classification number: C02F9/00 ,  C02F1/008 ,  C02F1/325 ,  C02F1/70 ,  C02F2103/04 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/326 ,  C02F2201/328 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/005 ,  C02F2209/008 ,  C02F2209/20 ,  C02F2303/18 ,  C02F2305/023

Abstract: 半導体製造運転のための超純水を提供する方法およびシステムが提供される。 水は、遊離基スカベンジングシステムおよび遊離基除去システムを利用することによって処理される。 遊離基スカベンジングシステムは、過硫酸アンモニウムなどの遊離基前駆物質化合物を備えた化学線を利用することができる。 遊離基除去システムは、還元剤を使用を含むことができる。 超純水は、さらに、イオン交換媒体および脱気装置を利用することによって処理されてよい。 制御システムは、前駆物質化合物の付加、化学線の強度および水への還元剤の付加を調節するために利用することができる。

公开(公告)号：JP2013063359A

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：JP2011201839

申请日：2011-09-15

Applicant: Toshiba Corp ,  株式会社東芝

Inventor： KOBAYASHI SHINJI ,  ABE NORIMITSU ,  SHIROTA AKIHIKO ,  TAKEUCHI KENJI ,  SOMA TAKAHIRO

IPC: C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  C02F1/283 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/324 ,  C02F2201/328 ,  C02F2303/04

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet irradiation device which can prevent the breakage of protection tubes housing ultraviolet lamps.SOLUTION: The ultraviolet irradiation device includes: a treatment vessel; an ultraviolet irradiation member; and a support member. The treatment vessel has a water inlet for supplying treated water which is a target object and a water outlet for discharging the treated water, and the treated water passes toward a first direction from the water inlet to the water outlet. The ultraviolet irradiation member is provided inside the treatment vessel toward a second direction intercrossing the first direction and the ultraviolet irradiation member applies ultraviolet rays to the treated water passing toward the first direction. The support member is provided inside the treatment vessel along the second direction and both ends of the support member are firmly fixed to wall surfaces of the treatment vessel for suppressing deformation of the treatment vessel.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够防止容纳紫外线灯的保护管的破损的紫外线照射装置。 解决方案：紫外线照射装置包括：处理容器; 紫外线照射部件; 和支撑构件。 处理容器具有用于供给作为目标物体的处理水的进水口和用于排出处理过的水的出水口，处理后的水从入口到出水口朝第一方向流动。 紫外线照射部件沿着与第一方向交叉的第二方向设置在处理容器的内部，紫外线照射部件向经过第一方向的处理水施加紫外线。 支撑构件沿着第二方向设置在处理容器内部，并且支撑构件的两端牢固地固定在处理容器的壁表面上，以抑制处理容器的变形。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013500854A

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：JP2012523066

申请日：2010-07-30

Applicant: シーメンス ピーティーイー リミテッドSiemens Pte Ltd.

Inventor： ミン ジミー ヨン、ジー ,  スタイヴィッツ、デイヴィッド ,  リー クルター、ブルース ,  スコット フーシャー、マイケル

IPC: C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  B01J19/006 ,  B01J19/123 ,  B01J19/2415 ,  B01J2219/00768 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/02 ,  C02F2301/022 ,  C02F2301/024

Abstract: 流体を処理するための紫外線反応器。 反応器には、流体を受け入れるための入口と、流体を排出するための出口を備えた容器が含まれている。 反応器には、さらに、紫外線源とバッフルプレートが含まれている。 バッフルプレートには、紫外線源に近い反応器内の領域にプラグ流れを生じさせるため、所定のパターンをなすように配置された孔が含まれている。
【選択図】図２

公开(公告)号：JP2011509169A

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：JP2010539632

申请日：2008-12-11

Applicant: ウルトラバイオレット サイエンシーズ インコーポレイテッド

Inventor： クーパー、ジェームズ・ランダール ,  メイ、リチャード

IPC: B01J19/12 ,  A61L2/10 ,  C02F1/32

CPC classification number: B01J19/123 ,  A61L2/0011 ,  A61L2/0094 ,  A61L9/015 ,  A61L9/205 ,  A61L2209/212 ,  A61M1/3681 ,  A61M1/3683 ,  A61M2205/053 ,  B01J19/124 ,  B01J2219/0877 ,  C02F1/283 ,  C02F1/325 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2201/003 ,  C02F2201/3223 ,  C02F2201/3228 ,  C02F2201/328

Abstract: 【課題】紫外光処理チャンバーを提供する。
【解決手段】液体の処理のための装置は、少なくとも一つの内表面を有するチャンバーを有している。 チャンバーは、少なくとも８０パーセントが閉塞されている。 装置はまた、紫外線（ＵＶ）透過性管を有しており、ＵＶ透過性管は、チャンバー内に配置され、それを通る液体の通路に適合されている。 装置はＵＶランプをさらに有し、ＵＶランプはＵＶ透過性管内に配置されている。 チャンバーと透過性管の間に反射性物質が散在されている。 反射性物質は、ＵＶランプによって発せられる光の少なくとも一部を反射するように適合されている。 加えて、反射性物質は、少なくとも８０パーセント反射性である。

Abstract translation: 一种用于处理液体的设备，包括具有至少一个内表面的室。 房间至少80％封闭。 该设备还包括紫外线（UV）透射管和设置在腔室内并适于使液体通过其中的UV透射管。 该装置还包括UV灯，并且UV灯设置在UV透射管内。 反射材料散布在室和透射管之间，并且反射材料适于反射由UV灯发射的光的至少一部分。 另外，反射材料的反射率至少为80％。

公开(公告)号：JP2010515559A

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：JP2009535479

申请日：2007-11-02

Applicant: カルゴン カーボン コーポレーションCalgon Carbon Corporation

Inventor： ジー． バーチャー，ケイス

IPC: C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  C02F2201/3222 ,  C02F2201/3227 ,  C02F2201/328

Abstract: 【解決手段】ＵＶで流体を処理する装置は、流体入口、流体出口、反応チャンバ、及び反応チャンバ内に配置されたＵＶ源の少なくとも第１の対と第２の対を有するハウジングを備える。 ＵＶ源の第１の対は、上側ＵＶ源及び下側ＵＶ源を備えており、それらは、第２の対の上側ＵＶ源及び下側ＵＶ源の間のスパンよりも大きいスパンで、互いに配置されている。 第２の対は、流体の流れの上流側又は下流側に配置されている。 更なるＵＶ源又はＵＶ源の対が有用に使用されてよい。 この装置に、バッフルが配置されてよく、バッフルが、流体の流れを処理領域に向かせるように配置されるのが好ましい。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP2010509042A

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：JP2009535581

申请日：2007-07-12

Applicant: ヴェデコ アクチエンゲゼルシャフトWedeco Ag

Inventor： メーゼ ヴォルフ−ディートリヒ ,  ジョーンズ−プリチャード ジョフ

IPC: C02F1/32

CPC classification number: C02F1/325 ,  C02F2201/3225 ,  C02F2201/328 ,  C02F2301/024

Abstract: 開いているか、または閉じられている通路（１）内で液体をＵＶ消毒するための装置であって、消毒したい液体のための流入部と、主流れ方向（９）で該流入部の下流側に配置された少なくとも１つのＵＶ放射器（２）と、該ＵＶ放射器（２）の下流側に配置された流出部とを有している形式の装置が提案される。 この場合、流入部と前記ＵＶ放射器（２）との間に、電動モータ駆動式の混合装置（６，１２，１３，１４，１８，２１）が配置されており、該混合装置（６，１２，１３，１４，１８，２１）が、主流れ方向（９）に対して横方向の少なくとも１つの速度成分を有する横方向流（８，８'）を発生させるために調整されている。