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公开(公告)号：KR1020150061600A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：KR1020140167189
申请日：2014-11-27
Applicant: 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
IPC: H01L21/66 , H01L21/677 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/30604 , G01B11/0641 , G01N2201/025 , G01N2201/061 , H01L21/67253 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 막정보를얻기위해계측장치에의해기판의막을측정하는단계를포함하는통합형시스템의작동방법이개시되어있다. 기판은계측장치로부터이송장치에인접한공정장치로이동된다. 막정보는공정장치로전송된다. 제1 막정보에따라기판에막 처리가실시된다.
Abstract translation: 公开了一种集成的系统操作方法，其包括以下步骤：通过测量装置测量衬底的膜以获得胶片信息。 基板从计量装置移动到与传送装置相邻的处理装置。 电影信息被发送到处理装置。 根据胶片信息对基材进行胶片处理。
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公开(公告)号：KR1020140127314A
公开(公告)日：2014-11-03
申请号：KR1020147025266
申请日：2013-02-28
Applicant: 스마트 어플리케이션즈 리미티드
Inventor： 진마이클트레버 , 우즈퀸튼엔컴베 , 바이즈페트루스헨드릭
IPC: G01N21/954 , G01C3/00 , G06T7/00 , G03B37/00 , G01J5/48 , G01N29/04 , G01N27/00 , G01C19/00 , E04G23/02 , F23J99/00 , B05C7/00
CPC classification number: G01N21/954 , E04G23/008 , F23J13/00 , F23J99/00 , F23J2213/60 , G01C19/00 , G01N2201/023 , G01N2201/025 , G01N2201/062 , G03B37/005
Abstract: 본 발명은 수직으로 기립된 구조의 내측벽에 대한 검사 및 보수 모듈로서, 모듈이 적어도 하나의 데이터 기록 매커니즘을 지지하기 위한 캐리어를 포함하고 호이스트에 고정가능한, 검사 및 보수 모듈, 및 도관의 내벽에 대한 검사 및 보수 모듈로서, 모듈이 캐리어에 의하여 운반되는 제어기에 의하여 제어가능하며 도관 내에서 세로 순방향 및 역방향 모션을 제공하도록 구성되는 피동 피추적 휠의 세트를 포함하는 추진 수단을 포함하는, 검사 및 보수 모듈에 관련된다.
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公开(公告)号：KR1020170007337A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：KR1020167033892
申请日：2015-05-15
Applicant: 케이엘에이-텐코 코포레이션
CPC classification number: G01N21/9503 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N2201/025 , G01N2201/061
Abstract: 웨이퍼상의고정된위치(들)에대한웨이퍼검사좌표를결정하기위한방법및 시스템이제공된다. 하나의시스템은, 웨이퍼상의적어도하나의스팟으로광을지향시키도록구성되는조명서브시스템을포함한다. 스팟은웨이퍼의에지를넘어연장한다. 시스템은또한, 웨이퍼를회전시키고그에의해스팟이웨이퍼의에지에걸쳐스캔되게하도록구성되는스테이지를포함한다. 시스템은또한, 스팟이에지에걸쳐스캔되는동안스팟으로부터의광을검출하도록그리고그것에응답하는출력을생성하도록구성되는검출기를포함한다. 시스템은, 출력에기초하여웨이퍼의에지상의두 개이상의위치의웨이퍼검사좌표를결정하도록그리고에지상의두 개이상의위치의웨이퍼검사좌표에기초하여웨이퍼상의고정된위치(들)의웨이퍼검사좌표를결정하도록구성되는컴퓨터프로세서를더 포함한다.
Abstract translation: 提供了用于确定晶片上固定位置的晶片检查坐标的方法和系统。 一个系统包括被配置为将光引导到晶片边缘上的点的照明子系统。 斑点延伸超过晶片的边缘。 该系统还包括使晶片旋转的台，从而使光斑在晶片的边缘上扫描。 该系统还包括检测器，其被配置为在斑点被扫描在边缘上时检测来自斑点的光并且响应于此产生输出。 该系统还包括计算机处理器，其被配置为基于输出来确定晶片边缘上的两个或更多个位置的晶片检查坐标，并且基于晶片的晶片检查坐标来确定晶片上固定位置的晶片检查坐标 边缘上的两个或多个位置。
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公开(公告)号：KR1020150052183A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020157008249
申请日：2013-09-02
Applicant: 세미컨덕터 테크놀로지스 앤드 인스트루먼츠 피티이 엘티디
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 다기능웨이퍼및 필름프레임조작시스템은웨이퍼테이블어셈블리를포함하고, 상기웨이퍼테이블어셈블리는웨이퍼또는필름프레임을운반하기위해구성된극평면성(ultra-planar) 웨이퍼테이블표면을제공하는웨이퍼테이블을구비하고, 상기웨이퍼테이블표면에대한수직방향으로휘어진또는비평면성의웨이퍼부분에하향력을자동인가하는평탄화장치; 상기웨이퍼테이블을통해상기웨이퍼의하부면에인가되는부압의중지및 정압의인가이후에상기웨이퍼테이블표면에대한웨이퍼의제어되지않은횡방향이동을자동제한또는방지하기위해구성된변위제한장치; 및필름프레임상에장착된웨이퍼의회전정렬불량을자동보정하기위해구성된회전정렬불량장치중 적어로하나를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020150052182A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020157008248
申请日：2013-09-02
Applicant: 세미컨덕터 테크놀로지스 앤드 인스트루먼츠 피티이 엘티디
Inventor： 린,징
IPC: H01L21/683 , H01L21/66
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 필름프레임상부에적절치못하게장착된웨이퍼의회전정렬불량을자동수정하는단계는검사시스템에의한웨이퍼검사절차를개시하기전에이미지캡쳐디바이스를이용하여웨이퍼부분의이미지를캡쳐하는단계; 상기웨이퍼의상기필름프레임및/도는상기이미지캡쳐디바이스의시야의기준축세트에대한회전정렬불량각도및 회전정렬불량방향을디지털방식으로확인하는단계; 및상기검사시스템과별개이고, 상기회전정렬불량의반대방향으로상기회전정렬불량의각도만큼상기필름프레임을회전시키도록구성된필름프레임조작장치에의해상기웨이퍼의회전정렬불량을수정하는단계를포함한다. 이러한필름프레임의회전은필름프레임조작처리율또는검사공저처리율을저하시키지않으면서, 상기필름프레임이상기웨이퍼테이블표면상에위치하기전에수행될수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170069178A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：KR1020170059647
申请日：2017-05-13
Applicant: 주식회사 에이피에스
CPC classification number: G01N21/88 , B65G35/00 , B65G49/00 , F16F9/02 , G01N21/8806 , G01N2201/02 , G01N2201/025 , G06K7/1404 , G08C17/02 , H04L69/16 , H04N5/225
Abstract: 본발명은멀티광학모듈비전검사시스템에관한것으로, 반도체소재및 디스플레이소재분야의다양한형태와사이즈를가진샘플제품에대하여진동저감을위한 Air Cylinder 구조의방진설비와스테이지유닛이송모듈과기구부를포함하는검사장비에서, 광학조명과비전검사시스템을사용하여검사대상제품의표면결함(이물, 스크래치, 패턴오류등)을검출하고양불여부를판단하여생산공정에서제품불량을줄이는효과가있다.
Abstract translation: 本发明包括涉及一种多光学模块，视觉检查系统，气缸结构减振相对于各种形状和所述半导体材料和所述显示材料领域振动设备和工作台单元传送模块和的机构部件的尺寸的样品产物 在测试设备检测，使用光学照明和视觉检查系统的产物（异物，划痕，该图案错误等）的检查表面缺陷，则确定yangbul是否具有降低在生产过程中的产品缺陷的效果。
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公开(公告)号：KR1020150135464A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：KR1020157030636
申请日：2014-03-28
Applicant: 케이엘에이-텐코 코포레이션
Inventor： 골로바네브스키보리스 , 사피엔스노암
CPC classification number: G01N21/01 , F16F7/01 , F16F9/306 , F16F15/02 , F16F15/023 , F16F15/04 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , G10K11/1785 , G10K11/17873 , G10K2210/10 , G10K2210/129
Abstract: 능동및 수동진동격리디바이스둘 다를포함하는계측툴이제공된다. 계측툴은, 광범위한주파수및 강도의진동을완충하고감소시키기위해계측툴의상이한지지구조체에결합되는구속층댐퍼, 입자충격댐퍼또는액체충격댐퍼, 및/또는노이즈소거트랜스듀서와같은수동또는능동격리시스템을포함할수도있다. 제공되는원리에따라특정툴 구성을결정하기위해, 주파수범위스펙트럼분석및 최적화가적용될수도있다.
Abstract translation: 提供了计量工具，其包括主动和被动隔振装置，被动或主动隔离系统，例如约束层阻尼器，颗粒撞击阻尼器或液体冲击阻尼器，和/或噪声消除换能器，组合在计量工具的不同支撑结构中 以便在宽范围的频率和强度下抑制和减少振动，并且根据所提供的原理，可以应用哪个频率范围的频谱分析和优化来确定具体的工具配置。
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公开(公告)号：KR1020150052181A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020157008247
申请日：2013-09-02
Applicant: 세미컨덕터 테크놀로지스 앤드 인스트루먼츠 피티이 엘티디
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 웨이퍼및 필름프레임모두를조작하기에적합한단일웨이퍼테이블구조를제공하는웨이퍼테이블구조는, 베이스트레이내부표면상에, 혹은내부에형성된리지(ridge)의세트에의하여그 내부에형성된구획부세트를포함하는베이스트레이; 상기베이스트레이의구획부세트내에배치된유체투과성의경화가능한구획부물질; 및상기베이스트레이내부표면에형성된개구부세트를포함하며, 상기개구부세트에의하여구획부경화물질이부압또는정압에노출된다. 상기베이스트레이는제1 세라믹물질 (예를들어, 자기(porcelain))를포함하고, 상기경화가능한구획부물질은제2 세라믹물질을포함한다. 상기베이스트레이및 상기구획부물질은표준기계가공에의하여동시에기계가공될수 있고, 이로써상기베이스트레이및 상기구획부경화물질의노출된외부표면이동일한속도(rate)로평면화되어고도의평면성또는극평면성의웨이퍼테이블구조를형성하게된다.
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公开(公告)号：TW201438134A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW102131602
申请日：2013-09-02
CPC classification number: H01L21/681 , B25J11/0095 , B25J15/0616 , B25J15/0658 , B25J15/0666 , G01B11/27 , G01N21/9501 , G01N2201/025 , H01L21/67144 , H01L21/67706 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , Y10T29/49826
Abstract: 在檢查系統開始進行晶圓檢查程序之前，自動修正膜框架上安裝不正確的晶圓，包括使用影像擷取裝置擷取晶圓的部分影像；以數位方式判定晶圓相對於框架和(或)影像擷取裝置視野的一組參考軸的旋轉對位誤差角度和旋轉對位誤差方向；以及透過獨立於檢查系統外的框架處理機台，修正晶圓的旋轉對位誤差，此框架處理機台配置為依照與旋轉對位誤差方向相反的方向，將框架旋轉與旋轉對位誤差角度相同的角度。此種框架旋轉可以在將框架放置於晶圓工作台上之前進行，而不減少框架處理的處理量或檢查程序的處理量。
Abstract in simplified Chinese: 在检查系统开始进行晶圆检查进程之前，自动修正膜框架上安装不正确的晶圆，包括使用影像截取设备截取晶圆的部分影像；以数码方式判定晶圆相对于框架和(或)影像截取设备视野的一组参考轴的旋转对位误差角度和旋转对位误差方向；以及透过独立于检查系统外的框架处理机台，修正晶圆的旋转对位误差，此框架处理机台配置为依照与旋转对位误差方向相反的方向，将框架旋转与旋转对位误差角度相同的角度。此种框架旋转可以在将框架放置于晶圆工作台上之前进行，而不减少框架处理的处理量或检查进程的处理量。
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公开(公告)号：JP2018105884A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2018025311
申请日：2018-02-15
Inventor： ローレンス マイルスキー , ジョージ エヌ. ザントス
IPC: G01N35/04
CPC classification number: G01N21/8483 , G01B11/14 , G01N21/253 , G01N21/27 , G01N35/00069 , G01N35/04 , G01N2035/00148 , G01N2035/0491 , G01N2201/025 , G01N2201/0438 , G01N2201/06113
Abstract: 【課題】試薬カード分析装置において、搬送される試薬カードの位置合わせを非接触にて行う。 【解決手段】試薬カード分析装置は、所定の強度を有する光信号を送信する光信号源150と、送信される光信号の光信号経路158を光信号源150と共に定め、光信号源150から所定の距離を置いて配置され、かつ、光信号を検出してその強度を表す電気信号を出力する光信号検出器154と、試薬カードの試薬パッドを読み出すリーダと、前端及び後端を有する試薬パッドを含む1つもしくは複数の試薬カードを、光信号経路158を通過してリーダへ向かって搬送させる、試薬カード搬送装置と、光信号経路に電気的に結合されており、光信号検出器からの電気信号を受信し、試薬カードが光信号経路を通過して移動される際に試薬パッドの前端及び後端の少なくとも一方を表すパッド検出信号を出力する光信号検出器インタフェースとを含む。 【選択図】図8
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