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公开(公告)号：KR100168521B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950067534
申请日：1995-12-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/18
Abstract: 본 발명은 프로세스챔버와 프로세스챔버 내무에 가스공급용 셔터를 갖는 반도체 제조장치에 관한 것으로, 종래에는 프로세스챔버 내부에 위치한 셔터의 동작의 이상유무를 즉각적으로 알 수 없었으나, 셔터의 동작 상태를 외부에서 확인 할 수 있도록 셔터플렌지에 소정이 센서를 장착하여 셔터의 동작을 감지하고, 셔터의 동작에 따라 발생되는 신호를 감지하여 셔터의 동작에 에러가 발생되면 에러가 발생된 셔터의 번호를 외부에 표시하고, 알람 스피커에 알람이 발생되므로, 셔터의 동작의 이상유무를 외부에서 즉각적으로 알 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019980022257A
公开(公告)日：1998-07-06
申请号：KR1019960041358
申请日：1996-09-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/203
Abstract: 반도체 스퍼터설비에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 스퍼터설비는, 스퍼터링이 이루어지는 공정챔버, 공정챔버 벽체에 설치되며 가스를 공급하는 가스공급구, 진공펌프와 연결되는 가스 배출구, 스퍼터링의 재료가 되는 타겟, 타겟을 장착하는 건 어셈블리, 공정웨이퍼가 놓이는 웨이퍼 홀더 및 상기 공정챔버 내의 공간에서 상기 타겟으로부터 상기 건 어셈블리를 차폐하는 커버 쉴드를 구비하여 이루어지는 반도체 스퍼터설비에 있어서, 상기 커버 쉴드는 상기 공정챔버 본체에 나사결합되기 위한 하나 이상의 관통구멍을 가진 하나의 부품으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
따라서, 반도체 스퍼터설비에서 커버 쉴드 커버의 분해, 결합 작업이 용이해지고, 파손으로 인한 교체를 방지하여 고가부품의 사용기간을 적정화하는 효과가 있다.
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