液体处理系统
    186.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101528611A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780030118.7

    申请日:2007-08-17

    Abstract: 描述了一种液体处理系统。该液体处理系统包括:用于接收液流的开放式通道和液体处理区域。该液体处理区域包括多个以如下方式定向的长条形的放射源组件:(i)每个放射源组件的纵轴与流经液体处理区域的液流的方向横向交叉,以及(ii)每个放射源组件的末端设置在开放式通道中的液流的预定最大高度的上方。第一挡板设置在液体处理区域的上游。第一挡板设置成使其远端低于开放式通道中的液流的预定最大高度。在优选实施方式中,本发明的液体处理系统中形成了其中用于放射源组件的清洗系统在闲置时可“停放”的区域。在所谓的“停放”位置中,较易为进行保养等而接近清洗系统,而不影响流经液体处理区域和液体处理系统的液体的流动。这是该液体处理系统的显著优点。

    液流处理系统
    190.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101415486A

    公开(公告)日:2009-04-22

    申请号:CN200780011662.7

    申请日:2007-03-28

    CPC classification number: C02F1/325 C02F2201/004 C02F2201/3223 C02F2201/326

    Abstract: 一种液流处理设备,包括用于承接液流流量的壳体。该壳体包括液流进口、液流出口、设置于液流进口和液流出口之间的封闭液流处理区。该壳体中设置的是设置于该液流处理区中且所具有的纵轴与液流流经壳体的方向基本上平行的至少一个细长辐射源装置。所述辐射源装置包括设置于保护套筒中以限定基本上呈环形的通道的细长的辐射源,所述保护套筒具有相对的开口端,所述开口端被配置为允许热量通过所述套筒的相对的开口端中的至少一个散出所述通道和所述壳体。

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