中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

825 records (took 0.036 seconds)

    光源装置
    181.
    发明专利
    光源装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2015016308A1

    公开(公告)日：2017-03-02

    申请号：JP2015529614

    申请日：2014-07-31

    Applicant: シーシーエス株式会社

    Inventor： 大輔 岡本

    IPC: F21V19/02 ,  F21S2/00 ,  F21V5/00 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

    Abstract: ワークの搬送中にワークが受けた光の積算光量を、ワークの搬送方向において均一化することができる光源装置を提供するために、一定方向に相対的に移動するワークに光を照射する光源装置100であって、LED1及び前記LED1を支持する支持体2を備える複数の光源ユニット4と、前記各光源ユニット4を支持するシャーシ6とを備えてなり、前記シャーシ6に対して前記各光源ユニット4を位置決めすることによって、前記各光源ユニット4における前記LED1の発光中心が前記ワークの移動方向と直交する方向において等間隔となるように構成してある。

    Abstract translation: 的光工作在工件的传送过程中接收到的，为了提供一种光源装置中的累积量可以在工件上，用于发射光到所述工件移动相对于固定方向的光源装置的输送方向上均匀 100，它包括多个包括用于支撑所述LED1和LED1的支撑2光源单元4的，和支撑各光源组件4的底座6，光源单元相对于底盘6 通过定位光源单元4的LED1的4，发光中心，构成为：具有相等的间隔沿垂直于工件的运动方向。

    Exposure equipment
    184.
    发明专利
    Exposure equipment 有权
    曝光设备

    公开(公告)号：JP2014013277A

    公开(公告)日：2014-01-23

    申请号：JP2012149960

    申请日：2012-07-03

    Applicant: V Technology Co Ltd ,  株式会社ブイ・テクノロジー

    Inventor： HASHIMOTO KAZUSHIGE ,  ARAI TOSHINARI ,  TOMIZUKA YOSHIHIRO

    IPC: G03F7/20 ,  F21S2/00 ,  F21V19/00 ,  F21Y103/00 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide exposure equipment that uses two or more short-sized lamps as a light source, and that can perform light exposure having low illuminance unevenness by a simple structure; and the exposure equipment in which lamp exchange is easy.SOLUTION: Exposure equipment 100 includes: a transportation part 2 in which a body to be light exposed 11 is transported in a transportation direction; and a light irradiation part 3 in which two or more light irradiation units 31 that includes a rod-like light source 32 in which a length of a longer direction is shorter than that of the body to be light exposed 11, and a polarizer 34 disposed between the light source 32 and the body to be light exposed 11 are disposed in a horizontal surface to be arranged at a regulated interval. In the light irradiation unit 31, the light source 32 and the polarizer 34 are disposed to be parallel to the body to be light exposed 11, and a polarization axis direction of each polarizer 34 is set in a regulated direction to the transportation direction, each light source 32 is disposed so that a longer direction of the light source 32 is parallel or an oblique direction to the transportation direction. The exposure equipment 100 includes oscillation means 56b that makes the body to be light exposed 11 or the light irradiation part 3 oscillate in a direction crossing with the transportation direction.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供使用两个以上的短尺寸灯作为光源的曝光设备，并且可以通过简单的结构进行具有低照度不均匀性的曝光; 以及易于更换灯的曝光设备。解决方案：曝光设备100包括：运输部分2，其中暴露的物体11沿运输方向运输; 以及光照射部3，其中两个或更多个光照射单元31包括长度比待曝光体11的长度短的棒状光源32和设置在其上的偏振器34 在光源32和被曝光的物体11之间设置在水平表面中以被调节的间隔布置。 在光照射单元31中，光源32和偏振器34被设置为与待曝光的物体11平行，并且每个偏振器34的偏振轴方向被设置在与传送方向相关的调节方向上 光源32被设置为使得光源32的长方向平行或相对于输送方向的倾斜方向。 曝光设备100包括使身体光暴露11或光照射部分3沿与传送方向交叉的方向摆动的振动装置56b。

    Photo mask and pattern formation method using the same
    186.
    发明专利
    Photo mask and pattern formation method using the same 审中-公开
    相片掩模和图案形成方法

    公开(公告)号：JP2012068296A

    公开(公告)日：2012-04-05

    申请号：JP2010210672

    申请日：2010-09-21

    Applicant: Panasonic Corp ,  パナソニック株式会社

    Inventor： NONAMI YUJI ,  MITSUSAKA AKIO

    IPC: G03F1/68 ,  H01L21/027

    CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  H01L21/0274

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To improve DOF of both a fine dense pattern and an isolated space pattern, while avoiding generation of a side lobe in a photo mask and a pattern formation method with the photo mask.SOLUTION: The photo mask 40 includes a transparent substrate 11, a first mask pattern 14b and second mask patterns (14a, 15) having portions to face to each other across spaces (16, 17) on the transparent substrate 11. The first mask pattern 14b includes a half-light-shield part 13b for partially transmitting light and a light shielding part 12b. On the first mask pattern 14b, the half-light-shield part 13b has portions to face to the spaces (16, 17) across the light shielding part 12b. The size of the first mask pattern 14b is larger than (0.7×λ/NA)×M, and the size of the spaces (16, 17) is equal to or smaller than (0.5×λ/NA)×M (where λ is the wavelength of exposure light, NA is the numerical aperture of reductive projection optical system of an exposure machine, and M is the magnification ratio of the reductive projection optical system).

    Abstract translation: 要解决的问题：为了改善细密集图案和隔离空间图案的DOF，同时避免在光掩模中产生旁瓣和使用光掩模的图案形成方法。 解决方案：光掩模40包括透明基板11，第一掩模图案14b和在透明基板11上跨越空间（16,17）的彼此面对的第二掩模图案（14a，15）。 第一掩模图案14b包括用于部分透光的半遮光部13b和遮光部12b。 在第一掩模图案14b上，半遮光部13b具有穿过遮光部12b的与空间（16,17）相对的部分。 第一掩模图案14b的尺寸大于（0.7×λ/ NA）×M，空间（16,17）的大小等于或小于（0.5×λ/ NA）×M（其中λ 是曝光光的波长，NA是曝光机的还原投影光学系统的数值孔径，M是还原投影光学系统的放大率）。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

Patent Agency Ranking