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公开(公告)号：JP4937480B2
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：JP2001570902
申请日：2001-03-14
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： チェン，シー−チン , マーフィー，ティモシー，エフ．
CPC classification number: D21G9/0027
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公开(公告)号：JP2006516480A
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：JP2004529611
申请日：2003-08-19
Applicant: エービービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： クリストファー ピー． クラン、 , ヴラディミア セガル、 , レオニド ベイテルマン、
IPC: B22D11/04 , B22D11/11 , B22D11/115 , F27D27/00
CPC classification number: B22D11/115
Abstract: 電磁撹拌器の電気コイルの冷却が、電磁流体を使用して行われる。
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公开(公告)号：JP2004503693A
公开(公告)日：2004-02-05
申请号：JP2002510763
申请日：2001-05-14
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： チャン，シー−チン , トラン，ピーター，クゥアング
CPC classification number: D21G9/0027
Abstract: 【課題】ウェブ形成プロセスの抄紙機横断方向制御の改良に関する。
【解決手段】製造されるウェブのＣＤプロファイルをモニターし、制御し、オンラインでＣＤ制御設定を更新するもので、それによりウェブを製造する抄紙機の操作の変更を、所望の目標ＣＤプロファイルから可なりの分散が生じる前に修正することができる。 検索基準を満足するプロファイル中の検出された分散により、改良されたＣＤ制御設定についての検索を開始させる。 ＣＤ制御は、ＣＤアクチュエータのマッピング不整合を認識し、改良されたＣＤアクチュエータ制御設定を判定し、この改良されたＣＤアクチュエータ制御設定を適用してＣＤコントローラを微細に同調させ、それによりマッピング不整合を改善ないし修正させる。 ＣＤ制御は、更にＣＤアクチュエータの設定値の円滑性についての異常を認識し、この設定値の円滑性を制御する。 ＣＤアクチュエータの不整合又はＣＤアクチュエータの設定値の円滑性、あるいはこれら双方を認識ないし修正することが本発明の自動最適化により行われる。
【選択図】図１２-
14.发明专利
公开(公告)号：JP2013503043A
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：JP2012527163
申请日：2010-08-31
Applicant: エービービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： ドマンスキー、デイビッド・エー． , ベイテルマン、レオニド , カーラン、クリストファー・ピー． , ムルカイ、トマス・ピー．
IPC: B22D11/115 , B22D11/04
CPC classification number: B22D11/115
Abstract: 電磁撹拌装置は、底部開口及び頂部開口を有するハウジングを含んでいる。 電磁撹拌機は、ハウジングの内側に配置されている。 モジュラー・モールド・アセンブリは、モールド、ウォーター・ジャケット、頂部プレート、底部プレート、及び頂部プレートと底部プレートを接続する複数のロッドを含んでいる。 モールドは、開放された頂部及び開放された底部を有している。 頂部プレートは、モールドの開放された頂部の近傍に配置され、底部プレートは、モールドの開放された底部の近傍に配置されている。 接続ロッドは、頂部プレートと底部プレートとの間を伸びて、それらを互いに対して固定する。 モジュラー・モールド・アセンブリは、それをハウジングの中に挿入することにより、あるいは、それをハウジングから取り外すことにより、容易に交換されることが可能である。
【選択図】図６-
15.发明专利
公开(公告)号：JP2011515225T
公开(公告)日：2011-05-19
申请号：JP2011501068T
申请日：2008-07-22
Applicant: エービービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： カラン、クリストファー・ピー． , タールバック、ゴテ , バイテルマン、レオニド・エス． , ラバーズ、ジェイ．・ダグラス
Abstract: 凝固の進行した段階における溶融金属の電磁攪拌のための方法及び装置が、開示される。 この方法及び装置は、例えば、鋼のビレット及びブルームの連続鋳造の中で使用されることが可能である。 少なくとも第一の攪拌機及び第二の攪拌機が、凝固途中の溶融金属の軸の回りに、異なる周波数の第一の回転磁場及び第二の回転磁場を作り出すために設けられる。 これらの攪拌機は、それぞれの磁場が重複して、変調された磁場を作り出すように、互いに十分に近接して溶融金属の周りに配置されている。 それぞれの攪拌機の磁場は、共通の回転方向または反対の回転方向の何れを有していても良い。 これらの磁場により作り出される変調された攪拌は、その中心軸での溶湯の温度が液相線レベルよりも低い領域内で、溶湯のバルクの中に、振動する一次流れ及び二次流れを、従って乱流を、もたらし、少なくとも１０％が実質的に凝固した材料が形成される。 この攪拌方法により作り出される乱流は、溶湯のバルクの中での結晶組織の形成を崩壊させ、且つ、中央領域の溶質が富化された溶湯をバルク体積と混合し、それに伴い、鋳造製品の凝固組織及び全体的な内部品質の改善をもたらす。
【選択図】図１-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2007519932A
公开(公告)日：2007-07-19
申请号：JP2006551475
申请日：2005-01-27
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： スチューラム，スティーブン，ペリー , デニス，チャールズ ドーハーティ , マクソン，ロドニイ，ディル
CPC classification number: G01N21/86 , G01N21/314 , G01N21/3554 , G01N21/3559
Abstract: 電磁放射線源（２２）を含む照射ユニット（２０）と、光ファイバー装置（３０）と、検出装置（４０）とから成る測定装置（１０）が提供される。 光ファイバー装置は、放射線源から放出された電磁放射線の少くとも一部分を受け取るための入力端（１１４）と、受け取った放射線を材料ウエブ（１００）へ差し向けるための出力端（１１６）を有する第１光ファイバー構造体（１１０）と、材料ウエブから反射された放射線を受け取るための入力端（８４）と、該反射放射線を検出装置へ差し向けるための出力端（８６）を有する第２光ファイバー構造体（８０）を含む。 検出装置は、第１波長帯域の電磁放射線を検出して、対応する第１出力信号を発生するための第１検出器（９０）と、第２波長帯域の電磁放射線を検出して、材料ウエブの測定すべき第１特性を表示する対応する第２出力信号を発生するための第２検出器（９０）から成る。
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17.发明专利
公开(公告)号：JP2007500291A
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：JP2006532835
申请日：2004-05-07
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： スター，ケビン，デイル , トラン，ピーター，クァング , マスト，ティモシー，アンドリュウ
CPC classification number: D21G9/0027
Abstract: 【課題】 ウェブ製造機において幅方向（CD）マッピングを制御するための方法および装置を提供する。
【解決手段】 ウェブ製造機(108)をモニターし、局所的マッピング問題を発生している少なくとも1つの幅方向（CD）アクチュエータ(126)を識別する。 この識別されたCDアクチュエータおよびその周囲のアクチュエータセグメントが探査され、アクチュエータについての動作曲線(227)が判定される。 この動作曲線の鈍感領域の中央部が、識別されたアクチュエータについての最適マッピング整合設定として選択され、アクチュエータの設定が更新される。 包括的平滑化は、包括的平滑因子を探査し、対応するパーフォーマンス曲線を発生させ、これを同様に平滑因子についての最適値を選択するのに使用することによっても達成することができる。-
公开(公告)号：JP2006502387A
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：JP2004542019
申请日：2003-10-02
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： スツルム，スティーブン，ペリー , ドーハティ，デニス，チャールズ , ドミン，トーマス，マイケル , バーク，ゲーリー，ネイル , マックソン，ロドニイ，デイル
CPC classification number: G01N21/86 , G01N21/3563 , G01N33/346 , G01N2021/8917 , G02B26/04
Abstract: 測定システムの光源（２２）がＩｎＧａＡｓシステム検出器（６８ａ〜６８ｄ）の標準化／校正及び正規化のために必要最小限の時間だけ遮断されるように、単一羽根（４６，４８）から成るシャッターフラッグ（３８）が非同期的に制御される。 半球状の光源光／検出器光ホモジナイザー（５０，６２）又は直列に連結されたランダム配向光ファイバー束（１３２）が、各検出器素子へ通される光を均質化する。 光源のテストは、複数の光源パワーレベルでスペクトルパワー分布を測定し、それらの測定値を光源のために確定された基線特性と比較することによって実施される。 校正用サンプルの寿命は、標準光レベルが供給されている短い校正時間以外には光源を遮蔽するようにシャッターフラッグを制御することによって延長される。
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公开(公告)号：JP2006501055A
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：JP2004539874
申请日：2003-09-25
Applicant: エイビービー・インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： クリストファー・エム・レニー , グンター・ボルナー , ゲイリー・ジェイ・チアレッリ , ドラゴスラフ・ケイ・ミロイェヴィッチ , メリッサ・エル・コスター
CPC classification number: B05B5/032 , B05B5/0533
Abstract: 粉末スプレーガンは、加工部品をコーティングするために、部品を回転させることなく、また粒子偏向板を用いることなく、静電気を帯電させた粒子の好適なパターンを形成する。 ガンの粉末帯電チャンバ内に導入される接線方向に渦巻状に動作する空気と協働する漏斗状アウトプットを用いて、粒子パターンが形成される。 渦巻空気を追加的に用いて、帯電チャンバ内の帯電電極から集塊した粉末粒子が取り除かれる。 帯電チャンバ表面は、摩擦の小さい材料で構成されるか、粉末の衝突による固着に対する抵抗性が高い材料で構成される。
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公开(公告)号：JP4481825B2
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：JP2004542019
申请日：2003-10-02
Applicant: エイビービー インコーポレイテッドAbb Inc.
Inventor： スツルム，スティーブン，ペリー , ドーハティ，デニス，チャールズ , ドミン，トーマス，マイケル , バーク，ゲーリー，ネイル , マックソン，ロドニイ，デイル
CPC classification number: G01N21/86 , G01N21/3563 , G01N33/346 , G01N2021/8917 , G02B26/04
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