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公开(公告)号:JP2009265665A
公开(公告)日:2009-11-12
申请号:JP2009104171
申请日:2009-04-22
Applicant: Leica Microsystems (Schweiz) Ag , ライカ マイクロシステムズ (スイス) アーゲーLeica Microsystems (Schweiz) AG
Inventor: SCHNITZLER HARALD , PETER STROBEL , NG JAMES , KUSTER MANFRED
IPC: G02B21/22
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a three-dimensional microscope with beam splitter device.
SOLUTION: The microscope comprises first and second main beam paths 21 and 22, in which the distance therebetween defines a stereo base 23, an axis 24 of the microscope extending through the center of the stereo base 23 in parallel to the beam paths 21 and 22, and an optical beam splitter device 30 which generates an assistant beam path 31 and a documentation beam path 32. The direction of the assistant beam path 31 in a first position is rotated 180° toward a second position, each of the documentation beam paths 32 located at both positions of the beam splitter device 30 is vertical to the assistant beam path 31, the assistant beam path 31 is separated from the first main beam path 21 in both the first and second positions of the beam splitter device 30, and the documentation beam path 32 is separated from the second main beam path 22.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPITAbstract translation: 要解决的问题:提供具有分束器装置的三维显微镜。
解决方案:显微镜包括第一和第二主光束路径21和22,其间的距离限定立体声基座23,显微镜的轴线24平行于光束路径延伸穿过立体声基座23的中心 21和22,以及产生辅助光束路径31和文档光束路径32的光束分离器装置30.辅助光束路径31在第一位置的方向朝向第二位置旋转180°,每个文档 位于分束器装置30的两个位置处的光束路径32垂直于辅助光束路径31,辅助光束路径31在分束器装置30的第一和第二位置与第一主光束路径21分离, 并且文档光束路径32与第二主光束路径22分离。版权所有(C)2010,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP2009201996A
公开(公告)日:2009-09-10
申请号:JP2009044761
申请日:2009-02-26
Applicant: Leica Microsystems (Schweiz) Ag , ライカ マイクロシステムズ (スイス) アーゲーLeica Microsystems (Schweiz) AG
Inventor: ENGE STEFAN
IPC: A61B19/00
CPC classification number: G02B7/001 , A61B90/20 , A61B90/25 , A61B90/50 , A61B2090/5025 , G02B21/24
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an equilibrating device for a surgical microscope held to a stand via a rotating support to make an operating surgeon easily operable.
SOLUTION: An equilibrating device B is attached to a rotating support 5, and an optical mechanism rack 9 and its additional unit are equipped with displacement units 6, 7 and 8 having 2 sliding bodies S1 and S2 to equilibrate the additional unit to X, Y and Z directions, when pertinent. Both sliding bodies S1 and S2 of the Y and Z displacement units 7 and 8 of the equilibrating device B are constructed as cross slinging bodies 12. A first sliding body S1 of the cross slinging body 12 abuts on the rotating support 5 traversing a rotating axis A as a part of the Y displacement unit 7 and a second sliding body S2 of the cross sliding body 12 abuts on the Y displacement unit 7 on an opposite side of the rotating support 5 as a part of the Z displacement unit 8.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPITAbstract translation: 要解决的问题:提供一种用于通过旋转支架保持在支架上的手术显微镜的平衡装置,以使操作外科医生易于操作。 解决方案:平衡装置B附接到旋转支撑件5,并且光学机构架9及其附加单元装备有具有2个滑动体S1和S2的位移单元6,7和8,以使附加单元平衡 X,Y,Z方向,相关。 平衡装置B的Y和Z位移单元7和8的两个滑动体S1和S2被构造为交叉吊索本体12.交叉吊索主体12的第一滑动体S1抵靠旋转的支承件5, 作为Y位移单元7的一部分的A和作为Z位移单元8的一部分的交叉滑动体12的第二滑动体S2抵接在作为旋转支撑件5的相反侧的Y位移单元7.
版权所有(C)2009,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP2017505423A
公开(公告)日:2017-02-16
申请号:JP2016532630
申请日:2014-11-19
Applicant: ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH , ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH
Inventor: ヴァルダン クリシュナマチャリ ヴィシュヌ , ヴァルダン クリシュナマチャリ ヴィシュヌ , ザイフリート フォルカー , ザイフリート フォルカー , シー. ヘイ ウィリアム , シー. ヘイ ウィリアム , クレーマー マヌエル , クレーマー マヌエル
CPC classification number: G01N21/65 , G01N2021/653 , G01N2201/06113 , G02B21/0032 , G02B21/0076 , G02B21/16
Abstract: 試料(40)を照明するための装置(10)を開示する。この装置は、少なくとも1つのパルスレーザー光源(12)と、重畳部材(32)と、遅延段(26)と、共通のチャープユニット(36)と、少なくとも1つの別個のチャープユニット(18)とを有しており、少なくとも1つのパルスレーザー光源(12)は、第1のレーザーパルスを第1の光路(14)に沿って繰り返し送出し、かつ、第2のレーザーパルスを、第1の光路と空間的に別個にされている第2の光路(16)に沿って繰り返し送出し、重畳部材(32)は、2つのレーザーパルスを共通の光路(34)に共線重畳し、遅延段(26)は第1の光路(14)または第2の光路(16)に配置されており、2つのレーザーパルスのうちの一方のレーザーパルスを他方のレーザーパルスに対して相対的に遅延させ、これによって、共通の光路(34)に沿って、試料(40)に送出される2つのレーザーパルスが時間的な重畳を有し、共通のチャープユニット(36)は、共通の光路(34)に配置されており、第1のレーザーパルスにも、第2のレーザーパルスにも、周波数が変わるように影響を与え、別個のチャープユニット(18)は、第1の光路(14)に配置されており、第1のレーザーパルスにのみ、周波数が変わるように影響を与える。共通のチャープユニット(36)と別個のチャープユニット(18)とは、目標状態を実現するために、相互に調整されている。別個のチャープユニット(18)は制御部(20)と結合されており、この制御部によって、別個のチャープユニット(18)は、第1のレーザーパルスの波長に依存する制御パラメーターによって、目標状態を設定するために、駆動制御される。
Abstract translation: 它公开了一种用于照射样本(40)到(10)装置。 该装置包括至少一个脉冲激光光源(12),叠加元件(32),一个延迟级(26),公共啁啾单元(36),和至少一个单独的啁啾单元(18) 它具有至少一个脉冲激光光源(12),沿第一光路(14)发送的第一激光脉冲的重复,和一第二激光脉冲,第一光学路径 沿其是空间上不同的第二光路(16)重复地发送,叠加部件(32),和两个激光脉冲的共线叠加到共同的光路(34),一个延迟级(26 )使所述相对延迟一个被布置在所述第一光路(14)或所述第二光路(16)的激光脉冲中的一个,相对于其它激光脉冲,由此两个激光脉冲 沿着公共光路(34),两个激光脉冲递送至样品(40)具有的时间重叠, 常见啁啾单元(36)被布置在一个共同的光路(34),所述第一激光脉冲,在第二激光脉冲,冲击使频率发生变化时,一个单独的啁啾单元 (18)被布置在所述第一光路(14)中,仅所述第一激光脉冲,影响作为频率的变化。 常见啁啾单元(36)和一个独立的啁啾单元(18),以实现所述目标状态,被调整到彼此。 单独的啁啾单元(18)被耦合到所述控制单元(20),通过控制单元,独立的啁啾单元(18),所述控制参数是依赖于第一激光脉冲的波长,目标状态 设置,它被驱动和控制。
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公开(公告)号:JP2016530570A
公开(公告)日:2016-09-29
申请号:JP2016539526
申请日:2014-09-03
Applicant: ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH , ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH
Inventor: ザイフリート フォルカー , ザイフリート フォルカー , ヴァルダン クリシュナマチャリ ヴィシュヌ , ヴァルダン クリシュナマチャリ ヴィシュヌ , ギスケ アーノルト , ギスケ アーノルト
CPC classification number: G02B21/0032 , G02B6/262 , G02B6/32 , G02B21/0068 , G02B21/0076 , G02B27/09 , G02B27/0905 , G02B27/58 , G02F1/292 , G02F1/33
Abstract: 本発明は、対物レンズと光ファイバーとを有する顕微鏡に関する。対物レンズは照明光を照明光焦点にフォーカシングし、光ファイバーは照明光を搬送し、光ファイバーの終端部にはファイバカプラが配置されている。ファイバカプラは、照明光を光ファイバーから取り出し、有利にはコリメートされた照明光束を生成する。ファイバカプラ内に、または、ファイバカプラに接して、照明光焦点の形状を変える部材が配置されており、この部材は、取り出されるべき照明光束に対して相対的に事前にアライメントされている。
Abstract translation: 本发明涉及一种具有物镜和光学纤维的显微镜。 物镜与照明光聚焦到照明光聚焦,光纤携带的照明光,该光纤的端部被布置为光纤耦合器。 光纤耦合器需要的照明光从光纤,有利地产生被准直的照明光束。 在光纤耦合器,或者在与所述光纤耦合器接触,配置有构件以改变照明光焦点的形状,该部件被对准相对预先相对于要检索的照明光束。
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公开(公告)号:JP2009201995A
公开(公告)日:2009-09-10
申请号:JP2009044759
申请日:2009-02-26
Applicant: Leica Microsystems (Schweiz) Ag , ライカ マイクロシステムズ (スイス) アーゲーLeica Microsystems (Schweiz) AG
Inventor: METELSKI ANDRZEJ
IPC: A61B19/00
CPC classification number: G02B21/24 , A61B90/20 , A61B90/25 , A61B90/50 , A61B2090/5025 , G02B7/001
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved apparatus that enables relatively faster and simpler, and complete balancing of a surgical microscope without an add-on weight. SOLUTION: The invention is related to a balancing apparatus B for a surgical microscope, which is held at a stand via a pivot support. The balancing apparatus B is added to the pivot support 5 and equipped with an optical instrument rack 9 and, if applicable, a displacement units 6, 7, 8 with two slides S1, S2 for balancing the add-on unit in both Y and Z directions. Both slides S1, S2 of the Y and Z displacement units 7, 8 of the balancing apparatus B are configured as a cross slide body 12. The first slide S1 of the cross slide 12 is placed adjacently to the pivot support 5 and crossing a rotational axis A as a part of the Y displacement unit 7, and the second slide S2 of the cross slide 12 is placed adjacently to the Y displacement unit 7 at a side opposite to the pivot support 5 as a part of the Z displacement unit 8. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题:提供一种改进的装置,其能够在没有附加重量的情况下实现手术显微镜的相对更快,更简单和完全平衡。 解决方案:本发明涉及一种用于手术显微镜的平衡装置B,其通过枢轴支撑件保持在支架上。 平衡装置B被添加到枢转支撑件5并且配备有光学仪器架9,并且如果适用,具有两个用于平衡Y和Z中的附加单元的滑块S1,S2的位移单元6,7,8 方向。 平衡装置B的Y和Z位移单元7,8的滑动件S1,S2均被构造为十字滑块体12.十字滑块12的第一滑动件S1相对于枢轴支撑件5放置并且与旋转 轴A作为Y位移单元7的一部分,并且十字滑块12的第二滑动件S2作为Z位移单元8的一部分在与枢转支撑件5相对的一侧相对于Y位移单元7放置。 版权所有(C)2009,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP2017538111A
公开(公告)日:2017-12-21
申请号:JP2017522033
申请日:2015-10-22
Applicant: ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH , ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH
Inventor: ムラヴェク パトリック , ムラヴェク パトリック , シュライバー フランク , シュライバー フランク , ザイファート ローラント , ザイファート ローラント
CPC classification number: G01J1/0448 , G01J1/0252 , G01J1/0403
Abstract: 本発明は、光を受信して電気信号を形成するように構成されており、かつ、検出器(3)とこの検出器(3)用のハウジング(4)とを備えている、検出器装置(1)に関する。当該検出器装置(1)は、検出器(3)が少なくとも部分的にハウジング(4)内にかつハウジング(4)に対して相対的に可動に配置されていることを特徴とする。
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公开(公告)号:JP2017534908A
公开(公告)日:2017-11-24
申请号:JP2017518555
申请日:2015-07-15
Applicant: ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG , ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG
Inventor: シュニッツラー ハラルト , シュニッツラー ハラルト , ズュースト レト , ズュースト レト , ホーネッガー マーク , ホーネッガー マーク
CPC classification number: G02B7/36 , G02B21/244 , G02B21/245 , G02B21/365 , G02B21/367
Abstract: 第1の出力結合ビーム路(12a)に配置されており、且つ、第1の画像(16a)を記録するための第1の画像センサ(14a)と、第2の出力結合ビーム路(12b)に配置されており、且つ、第2の画像(16b)を記録するための第2の画像センサ(14b)と、を用いてフォーカシング工程を実施するオートフォーカスシステム(11)を備えている顕微鏡(10)が開示されている。オートフォーカスシステム(11)は、フォーカシング工程が少なくとも1つの第1の動作モード及び少なくとも1つの第2の動作モードに基づいて実施できるように構成されている。
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公开(公告)号:JP2017530416A
公开(公告)日:2017-10-12
申请号:JP2017518511
申请日:2015-10-01
Applicant: ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG , ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG
Inventor: シュニッツラー ハラルト , シュニッツラー ハラルト , シュラファー ゲオアク , シュラファー ゲオアク
CPC classification number: G02B21/365 , G02B21/025 , G02B21/24 , G02B21/241
Abstract: 本発明は、対物レンズ系(30)及びズーム系(32)を含んでいる顕微鏡(10)に関する。更に、顕微鏡は、光路のアパーチャを制限するための絞り(60)を有している。更に、制御ユニット(64)が設けられており、この制御ユニット(64)は、顕微鏡(10)の少なくとも1つのパラメータの目下の実施に依存して、その目下の実施に関する、絞り(60)の所定の調整位置をその都度自動的に求め、絞り(60)を相応に調整する。
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公开(公告)号:JP2017522603A
公开(公告)日:2017-08-10
申请号:JP2017503524
申请日:2015-07-22
Applicant: ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH , ライカ マイクロシステムズ シーエムエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングLeica Microsystems CMS GmbH
Inventor: クネーベル ヴェアナー , クネーベル ヴェアナー
CPC classification number: G02B21/16 , G01N21/6458 , G01N21/648 , G02B21/002 , G02B21/06 , G02B27/56
Abstract: 本発明は、試料(5)を顕微鏡検査する方法に関する。当該方法は、試料(5)を、この試料(5)よりも高い屈折率を有する光学的に透明な媒体(12)に接触させるステップと、照明光束(13)を形成するステップと、照明光束(13)をフォーカシングする照明対物レンズ(1)を通して、照明光束(13)を案内するステップとを含む。続いて、照明光束(13)が、検出対物レンズ(2)に配置された偏向手段によって、光学的に透明な媒体(12)と試料(5)との界面(10)へ入射してそこでの全反射により試料(5)のエバネセント照明を生じさせるよう、検査すべき試料(5)の方向へ偏向される。さらに、試料(5)から出て検出対物レンズ(2)を通って走行する蛍光が検出される。
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公开(公告)号:JP2017513553A
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:JP2016558125
申请日:2015-03-19
Applicant: ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG , ライカ マイクロシステムズ (シュヴァイツ) アクチエンゲゼルシャフトLeica Microsystems (Schweiz) AG
CPC classification number: G02B7/001 , A61B90/25 , G02B21/0012
Abstract: 本発明は、手術用顕微鏡スタンド(100)であって、第1の支持アーム(14)に配置されていて、第1の駆動ユニットにより駆動可能な第1のキャリッジ(16)と、第2の支持アーム(22)に配置されていて、第2の駆動ユニットにより駆動可能な第2のキャリッジ(18)とを有する手術用顕微鏡スタンド(100)に関する。該手術用顕微鏡スタンド(100)は更に、1つの操作領域(34)を有しており、該操作領域(34)内には、前記第1及び第2の駆動ユニットを手動で制御するための少なくとも1つの操作ユニットが設けられている。
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