Three-dimensional microscope with beam splitter device
    11.
    发明专利
    Three-dimensional microscope with beam splitter device 有权
    具有光束分离器器件的三维微结构

    公开(公告)号:JP2009265665A

    公开(公告)日:2009-11-12

    申请号:JP2009104171

    申请日:2009-04-22

    CPC classification number: G02B21/22 A61B90/20

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a three-dimensional microscope with beam splitter device.
    SOLUTION: The microscope comprises first and second main beam paths 21 and 22, in which the distance therebetween defines a stereo base 23, an axis 24 of the microscope extending through the center of the stereo base 23 in parallel to the beam paths 21 and 22, and an optical beam splitter device 30 which generates an assistant beam path 31 and a documentation beam path 32. The direction of the assistant beam path 31 in a first position is rotated 180° toward a second position, each of the documentation beam paths 32 located at both positions of the beam splitter device 30 is vertical to the assistant beam path 31, the assistant beam path 31 is separated from the first main beam path 21 in both the first and second positions of the beam splitter device 30, and the documentation beam path 32 is separated from the second main beam path 22.
    COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供具有分束器装置的三维显微镜。

    解决方案:显微镜包括第一和第二主光束路径21和22,其间的距离限定立体声基座23,显微镜的轴线24平行于光束路径延伸穿过立体声基座23的中心 21和22,以及产生辅助光束路径31和文档光束路径32的光束分离器装置30.辅助光束路径31在第一位置的方向朝向第二位置旋转180°,每个文档 位于分束器装置30的两个位置处的光束路径32垂直于辅助光束路径31,辅助光束路径31在分束器装置30的第一和第二位置与第一主光束路径21分离, 并且文档光束路径32与第二主光束路径22分离。版权所有(C)2010,JPO&INPIT

    Equilibrating device for surgical microscope
    12.
    发明专利
    Equilibrating device for surgical microscope 有权
    用于手术显微镜的平衡装置

    公开(公告)号:JP2009201996A

    公开(公告)日:2009-09-10

    申请号:JP2009044761

    申请日:2009-02-26

    Inventor: ENGE STEFAN

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an equilibrating device for a surgical microscope held to a stand via a rotating support to make an operating surgeon easily operable.
    SOLUTION: An equilibrating device B is attached to a rotating support 5, and an optical mechanism rack 9 and its additional unit are equipped with displacement units 6, 7 and 8 having 2 sliding bodies S1 and S2 to equilibrate the additional unit to X, Y and Z directions, when pertinent. Both sliding bodies S1 and S2 of the Y and Z displacement units 7 and 8 of the equilibrating device B are constructed as cross slinging bodies 12. A first sliding body S1 of the cross slinging body 12 abuts on the rotating support 5 traversing a rotating axis A as a part of the Y displacement unit 7 and a second sliding body S2 of the cross sliding body 12 abuts on the Y displacement unit 7 on an opposite side of the rotating support 5 as a part of the Z displacement unit 8.
    COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于通过旋转支架保持在支架上的手术显微镜的平衡装置,以使操作外科医生易于操作。 解决方案:平衡装置B附接到旋转支撑件5,并且光学机构架9及其附加单元装备有具有2个滑动体S1和S2的位移单元6,7和8,以使附加单元平衡 X,Y,Z方向,相关。 平衡装置B的Y和Z位移单元7和8的两个滑动体S1和S2被构造为交叉吊索本体12.交叉吊索主体12的第一滑动体S1抵靠旋转的支承件5, 作为Y位移单元7的一部分的A和作为Z位移单元8的一部分的交叉滑动体12的第二滑动体S2抵接在作为旋转支撑件5的相反侧的Y位移单元7.

    版权所有(C)2009,JPO&INPIT

    試料を照明するための装置および方法
    13.
    发明专利
    試料を照明するための装置および方法 审中-公开
    装置和方法用于照射样品

    公开(公告)号:JP2017505423A

    公开(公告)日:2017-02-16

    申请号:JP2016532630

    申请日:2014-11-19

    Abstract: 試料(40)を照明するための装置(10)を開示する。この装置は、少なくとも1つのパルスレーザー光源(12)と、重畳部材(32)と、遅延段(26)と、共通のチャープユニット(36)と、少なくとも1つの別個のチャープユニット(18)とを有しており、少なくとも1つのパルスレーザー光源(12)は、第1のレーザーパルスを第1の光路(14)に沿って繰り返し送出し、かつ、第2のレーザーパルスを、第1の光路と空間的に別個にされている第2の光路(16)に沿って繰り返し送出し、重畳部材(32)は、2つのレーザーパルスを共通の光路(34)に共線重畳し、遅延段(26)は第1の光路(14)または第2の光路(16)に配置されており、2つのレーザーパルスのうちの一方のレーザーパルスを他方のレーザーパルスに対して相対的に遅延させ、これによって、共通の光路(34)に沿って、試料(40)に送出される2つのレーザーパルスが時間的な重畳を有し、共通のチャープユニット(36)は、共通の光路(34)に配置されており、第1のレーザーパルスにも、第2のレーザーパルスにも、周波数が変わるように影響を与え、別個のチャープユニット(18)は、第1の光路(14)に配置されており、第1のレーザーパルスにのみ、周波数が変わるように影響を与える。共通のチャープユニット(36)と別個のチャープユニット(18)とは、目標状態を実現するために、相互に調整されている。別個のチャープユニット(18)は制御部(20)と結合されており、この制御部によって、別個のチャープユニット(18)は、第1のレーザーパルスの波長に依存する制御パラメーターによって、目標状態を設定するために、駆動制御される。

    Abstract translation: 它公开了一种用于照射样本(40)到(10)装置。 该装置包括至少一个脉冲激光光源(12),叠加元件(32),一个延迟级(26),公共啁啾单元(36),和至少一个单独的啁啾单元(18) 它具有至少一个脉冲激光光源(12),沿第一光路(14)发送的第一激光脉冲的重复,和一第二激光脉冲,第一光学路径 沿其是空间上不同的第二光路(16)重复地发送,叠加部件(32),和两个激光脉冲的共线叠加到共同的光路(34),一个延迟级(26 )使所述相对延迟一个被布置在所述第一光路(14)或所述第二光路(16)的激光脉冲中的一个,相对于其它激光脉冲,由此两个激光脉冲 沿着公共光路(34),两个激光脉冲递送至样品(40)具有的时间重叠, 常见啁啾单元(36)被布置在一个共同的光路(34),所述第一激光脉冲,在第二激光脉冲,冲击使频率发生变化时,一个单独的啁啾单元 (18)被布置在所述第一光路(14)中,仅所述第一激光脉冲,影响作为频率的变化。 常见啁啾单元(36)和一个独立的啁啾单元(18),以实现所述目标状态,被调整到彼此。 单独的啁啾单元(18)被耦合到所述控制单元(20),通过控制单元,独立的啁啾单元(18),所述控制参数是依赖于第一激光脉冲的波长,目标状态 设置,它被驱动和控制。

    Balancing apparatus for surgical microscope
    15.
    发明专利
    Balancing apparatus for surgical microscope 审中-公开
    平衡装置用于手术显微镜

    公开(公告)号:JP2009201995A

    公开(公告)日:2009-09-10

    申请号:JP2009044759

    申请日:2009-02-26

    Inventor: METELSKI ANDRZEJ

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved apparatus that enables relatively faster and simpler, and complete balancing of a surgical microscope without an add-on weight. SOLUTION: The invention is related to a balancing apparatus B for a surgical microscope, which is held at a stand via a pivot support. The balancing apparatus B is added to the pivot support 5 and equipped with an optical instrument rack 9 and, if applicable, a displacement units 6, 7, 8 with two slides S1, S2 for balancing the add-on unit in both Y and Z directions. Both slides S1, S2 of the Y and Z displacement units 7, 8 of the balancing apparatus B are configured as a cross slide body 12. The first slide S1 of the cross slide 12 is placed adjacently to the pivot support 5 and crossing a rotational axis A as a part of the Y displacement unit 7, and the second slide S2 of the cross slide 12 is placed adjacently to the Y displacement unit 7 at a side opposite to the pivot support 5 as a part of the Z displacement unit 8. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种改进的装置,其能够在没有附加重量的情况下实现手术显微镜的相对更快,更简单和完全平衡。 解决方案:本发明涉及一种用于手术显微镜的平衡装置B,其通过枢轴支撑件保持在支架上。 平衡装置B被添加到枢转支撑件5并且配备有光学仪器架9,并且如果适用,具有两个用于平衡Y和Z中的附加单元的滑块S1,S2的位移单元6,7,8 方向。 平衡装置B的Y和Z位移单元7,8的滑动件S1,S2均被构造为十字滑块体12.十字滑块12的第一滑动件S1相对于枢轴支撑件5放置并且与旋转 轴A作为Y位移单元7的一部分,并且十字滑块12的第二滑动件S2作为Z位移单元8的一部分在与枢转支撑件5相对的一侧相对于Y位移单元7放置。 版权所有(C)2009,JPO&INPIT

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