Abstract:
PURPOSE: A skin irritation relieving agent containing carnosic acid or a derivative thereof is provided to suppress release of IL-8(interleukin-8), MCP-1(monocyte chemotactic protein-1), and IL-6(interleukin-6), and to relieves skin irritation due to retinoid or surfactant. CONSTITUTION: A skin irritation relieving agent contains carnosic acid denoted by chemical formula 1, a derivative thereof, or pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. The skin irritation relieving agent relieves inflammation, skin dryness, erythema, horny substance, itching, or burning sensation. The skin irritation is caused by retinoid or surfactant of an external use skin formulation. The retinoid is selected from the group consisting of retinol, retinal, and retinoic acid.
Abstract:
본 발명은 무기 입자의 표면을 개질하여 흡유량, 백색도 및 발수도를 개선하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 산을 이용하여 무기 입자의 표면을 에칭하고, 표면 처리제(코팅 물질)를 통한 표면 개질을 통해 흡유량, 백색도 및 발수도를 개선하는 방법에 관한 것이다. 산 에칭, 흡유도, 백색도(whiteness), 발수도
Abstract:
본 발명은 펜타에리스리톨 유도체가 포집된 메조포러스 다공성 실리카 복합 분체 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 높은 흡유량을 가진 다공성 실리카에 피부 각질층의 수분 유지 능력을 향상시키고, 특히 건조환경에서도 높은 보습력을 보이는 펜타에리스리톨 유도체가 포집된 메조포러스 다공성 실리카 복합 분체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 펜타에리스리톨 유도체, 수분유지능력, 보습력, 다공성 실리카
Abstract:
본 발명은 L-멘톨이 포집된 메조포러스 다공성 실리카 복합 분체 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피지를 다량 흡수할 수 있는 다공성 실리카에 쿨링 효과(Cooling effect), 혈행촉진 및 피부진정 작용이 있는 L-멘톨이 포집된 메조포러스 다공성 실리카 복합 분체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 L-멘톨이 포집된 메조포러스 다공성 실리카 복합 분체는 과량 사용시 피부자극이 있는 L-멘톨을 다공체 안에 포집하고 있어 자극을 줄일 수 있기 때문에 화장료 조성물 등에 첨가하여 제형화할 수 있다. L-멘톨(L-Menthol), 쿨링 효과(Cooling effect), 피지흡수, 다공성 실리카(mesoporous silica)
Abstract:
PURPOSE: A composition containing polysaccharide of Orostachys herba, green tea, or Artermisia capillaries is provided to prevent skin trouble and acne and to maintain skin homeostasis and skin bacteria balance. CONSTITUTION: A composition contains 0.0001-60 weight% of polysaccharide of Orostachys herba as an active ingredient. The composition further contains 0.0001-60 weight% of polysaccharide of green tea or Artermisia capillaries as an active ingredient. The composition reduces skin harmful bacteria and enhances skin beneficial bacteria.
Abstract:
Disclosed herein is a method for preparing a powder having a surface modified with a water-repellent ultra-thin layer. The disclosed preparation method comprises modifying the powder with the water-repellent ultra-thin layer by a vapor phase reaction using a high-boiling-point acryl silicone OEt-based compound and branched alkyl-silicone OEt-based compound and an alkylsilane having relatively low boiling point. When the powder is used in cosmetics, it shows excellent usability due to improved water repellency.
Abstract:
본 발명은 고 에너지 공급원을 이용하여 산처리로 표면을 에칭(etching)한 무기입자 및 그 에칭방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 고주파(Microwave) 에너지, 초음파(Ultrasonic) 에너지, 플라즈마(plazma), 열(Heat) 에너지 등의 고 에너지 공급원을 이용하여 불산, 질산, 아세트산, 염산, 인산 등의 산을 적정 농도로 무기입자의 표면을 에칭함으로써, 광택성, 사용감 등을 조절할 수 있는 방법에 관한 것이다. 산처리 * 에칭 * 고주파 에너지 * 플라즈마 * 가온 * 초음파 * 무기입자
Abstract:
A method for reforming the surface of inorganic particles is provided to increase the serum absorption capability when the inorganic particles are applied to cosmetics by enlarging the surface area through tens of nanometers of etching, increasing the absorption using a coating material, and improving the whiteness, thereby preventing the collapse of make-up and improving darkness and dullness of the make-up. A method for improving oil absorption, whiteness, or water repellency by reforming the surface of inorganic particles comprises the steps of: (a) etching the surface of the inorganic particles using an acid to form an irregular surface layer; (b) treating the etched inorganic particles with high energy in accordance with the energy requirement; (c) washing, filtering, drying and crushing the high energy treated inorganic particles; and (d) coating the inorganic particles obtained from the step(c) with a surface treating agent such as dimethicone, methicone, triethoxycaprylylsilane, acrylates/tridecyl acrylate/triethoxysilylpropyl methacrylate/dimethicone methacrylate copolymer and triethoxysilylethyl polydimethyl siloxy ethylhexyl dimethicone.
Abstract:
A method for etching the surfaces of inorganic particles by acid treatment using a high energy source is provided to control gloss and feeling of use in the inorganic particles. A method for etching the surfaces of inorganic particles by acid treatment using a high energy source includes the steps of: (1) adding inorganic particles into an acid, and stirring the admixture to prepare slurry; and (2) applying a high energy source to the slurry, and washing, filtering, drying, and grinding the inorganic particles. The acid is at least one selected from the group consisting of hydrofluoric acid, nitric acid, acetic acid, hydrochloric acid, and phosphoric acid. The high energy source is at least one selected from the group consisting of microwave energy, ultrasonic energy, plasma, and heating.